JPS6377557A - ガス流の清浄方法及びその装置 - Google Patents
ガス流の清浄方法及びその装置Info
- Publication number
- JPS6377557A JPS6377557A JP61221792A JP22179286A JPS6377557A JP S6377557 A JPS6377557 A JP S6377557A JP 61221792 A JP61221792 A JP 61221792A JP 22179286 A JP22179286 A JP 22179286A JP S6377557 A JPS6377557 A JP S6377557A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- ion exchange
- filter
- gas flow
- exchange filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 claims description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 17
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 abstract 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 23
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 19
- -1 T Any one of a Substances 0.000 description 13
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 10
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 10
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 9
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 9
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 8
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tris(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1C=C WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWRZIZXBOLBCON-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenamine Chemical compound NC=CC1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZRJJOOUEXCPKF-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC(C=C)=CN1 GZRJJOOUEXCPKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJOWMORERYNYON-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=N1 VJOWMORERYNYON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000497 Amalgam Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100244625 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pph-1 gene Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001474791 Proboscis Species 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- 229910007948 ZrB2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229920006109 alicyclic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N arsenous acid Chemical compound O[As](O)O GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- VWZIXVXBCBBRGP-UHFFFAOYSA-N boron;zirconium Chemical compound B#[Zr]#B VWZIXVXBCBBRGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019504 cigarettes Nutrition 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003631 expected effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N mercury xenon Chemical compound [Xe].[Hg] VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Electrostatic Separation (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、粒子状物質並びに酸性ガス、アルカリ性ガス
、臭気性ガス等を含むガス流から、該粒子状物質と共に
酸性ガス、アルカリ性ガス及び/又は臭気性ガスを除去
する方法及びその装置に関するものである。
、臭気性ガス等を含むガス流から、該粒子状物質と共に
酸性ガス、アルカリ性ガス及び/又は臭気性ガスを除去
する方法及びその装置に関するものである。
よシ詳しくは、電子工業、薬品工業、食品工業、農林産
業、医療、精密機械工業等におiるクリーンルーム、バ
イオロジカルクリーンルーム、クリーンブース、クリー
ントンネル、クリーンベンチ、安全キャビネット、バイ
オクリーンユニット、無菌室、バスボックス、無菌エア
カーテン、クリーンチューブ等における空気、窒素、酸
素等のガス流の清浄方法及びその装置並びに家庭、事業
所、病院における空気清浄方法及びその装置に関する。
業、医療、精密機械工業等におiるクリーンルーム、バ
イオロジカルクリーンルーム、クリーンブース、クリー
ントンネル、クリーンベンチ、安全キャビネット、バイ
オクリーンユニット、無菌室、バスボックス、無菌エア
カーテン、クリーンチューブ等における空気、窒素、酸
素等のガス流の清浄方法及びその装置並びに家庭、事業
所、病院における空気清浄方法及びその装置に関する。
従来、ガス流からの粒子状物質め除去と、酸性ガス、ア
ルカリ性ガス及び臭気性ガス等のガス状汚染物質の除去
とは夫々別個の方法及び装置で行われていた。
ルカリ性ガス及び臭気性ガス等のガス状汚染物質の除去
とは夫々別個の方法及び装置で行われていた。
例えば室内等の粒子状物質(固体粒子)を除去する方式
を大別すれば、 (!) 機械的濾過方式(例えばHKPAフィルター
)(2) 静電的に微粒子の捕集を行なう高電圧によ
る荷電及び4電性フイルターによる濾過方式(例えばM
KSAフィルター) の2つの方式があるが、これらの方式には夫々次のよう
な欠点があった。
を大別すれば、 (!) 機械的濾過方式(例えばHKPAフィルター
)(2) 静電的に微粒子の捕集を行なう高電圧によ
る荷電及び4電性フイルターによる濾過方式(例えばM
KSAフィルター) の2つの方式があるが、これらの方式には夫々次のよう
な欠点があった。
即ち、機械的濾過方式においては、空気の清浄度(クラ
ス)をあげるためには目の細かいフィルターを使用する
必要があるが、この場合圧損が高く、また目づまシによ
る圧損の増加も著るしく、フィルターカ命も短かく、フ
ィルターの維持、管理或いは交換が面倒であるばかりで
なく、フィルターの交換を行う場合、その間作業をスト
ップする必要があ)、復帰までには長時間を要しておシ
、生産能率が悪いという欠点があった。
ス)をあげるためには目の細かいフィルターを使用する
必要があるが、この場合圧損が高く、また目づまシによ
る圧損の増加も著るしく、フィルターカ命も短かく、フ
ィルターの維持、管理或いは交換が面倒であるばかりで
なく、フィルターの交換を行う場合、その間作業をスト
ップする必要があ)、復帰までには長時間を要しておシ
、生産能率が悪いという欠点があった。
また、空気の清浄度を上げる為に換気回数(ファンによ
る空気循環回数)を増加することも行われているが、こ
の場合動力費が高くつくという欠点があった。
る空気循環回数)を増加することも行われているが、こ
の場合動力費が高くつくという欠点があった。
また、従来のフィルターによる方法は微粒子の除去だけ
を目的としているので、工業用クリーンルーム用として
は使用できるが、フィルターには必ずと言ってよい程ピ
ンホールがあう、汚染空気の一部がリークするため、バ
イオロジカルクリーンルームでの使用には限界があった
。
を目的としているので、工業用クリーンルーム用として
は使用できるが、フィルターには必ずと言ってよい程ピ
ンホールがあう、汚染空気の一部がリークするため、バ
イオロジカルクリーンルームでの使用には限界があった
。
また、静電的に微粒子の捕集を行う方式においては、予
備荷電部に例えば15〜70 kV という高電圧を
必要とするため、装置が大型となシ、また安全性、維持
管理の面で問題があり九一方、ガス状汚染物質は、これ
らを含有しているガスを吸着剤例えば活性炭を充填した
層\に通過させ、吸着剤に吸着させることによシ行って
いた。
備荷電部に例えば15〜70 kV という高電圧を
必要とするため、装置が大型となシ、また安全性、維持
管理の面で問題があり九一方、ガス状汚染物質は、これ
らを含有しているガスを吸着剤例えば活性炭を充填した
層\に通過させ、吸着剤に吸着させることによシ行って
いた。
このように、粒子状物質及びガス状汚染物質の除去(捕
集)は夫々別個の方式、装置を用いて行っていたため、
装置が複雑化、大型化し、また保守管理が面倒であると
いう欠点があった。
集)は夫々別個の方式、装置を用いて行っていたため、
装置が複雑化、大型化し、また保守管理が面倒であると
いう欠点があった。
一方、粒子状物質の除去方法として、本発明者は、さき
に紫外線照射又は放射線照射による空気清浄方式を提案
した(特願昭60−18723号)。この方式も荷電粒
子状物質の捕集方法として集じん板(集じん電極)を用
いるのでガス状の汚染物質は捕集できないという欠点が
あった。
に紫外線照射又は放射線照射による空気清浄方式を提案
した(特願昭60−18723号)。この方式も荷電粒
子状物質の捕集方法として集じん板(集じん電極)を用
いるのでガス状の汚染物質は捕集できないという欠点が
あった。
また、紫外線照射や放射線照射による方法では、微量の
オゾンが生成する場合があり、その適用分野や用途によ
っては間魂となる場合があった。
オゾンが生成する場合があり、その適用分野や用途によ
っては間魂となる場合があった。
本発明は、ガス流中の粒子状物質及びガス状汚染物質を
同時に除去する方法及び装置を提供することを目的とす
る。
同時に除去する方法及び装置を提供することを目的とす
る。
本発明は、粒子状物質及びガス状汚染物質を含有してい
るガスに紫外線及び/又は放射線を光電子放出材上に照
射することによう放出された光電子によってガス流中の
粒子状物質を荷電せしめた後イオン交換フィルターに通
ずることにより、荷電された粒子と共にガス状汚染物質
例えばS02.H2S、NoX、Hel!、HNO3,
NH3,03の外各種の溶媒・溶剤類及び/又はメルカ
プタン、サルファイド類、チオフェン類、タール状物質
の如き悪臭物質をも除去するものである。
るガスに紫外線及び/又は放射線を光電子放出材上に照
射することによう放出された光電子によってガス流中の
粒子状物質を荷電せしめた後イオン交換フィルターに通
ずることにより、荷電された粒子と共にガス状汚染物質
例えばS02.H2S、NoX、Hel!、HNO3,
NH3,03の外各種の溶媒・溶剤類及び/又はメルカ
プタン、サルファイド類、チオフェン類、タール状物質
の如き悪臭物質をも除去するものである。
つぎに、図面に基いて本発明の詳細な説明する。
第1図はバイオロジカルクリーンルームにおけるバイオ
クリーンユニット併用方式、即ち、作業領域内の一部だ
けを高清浄度にした方式の概略図を示し、第2図は、紫
外線照射部、光電子放出部及び微粒子、生成ガス捕集部
の実施例を示す概略図である。
クリーンユニット併用方式、即ち、作業領域内の一部だ
けを高清浄度にした方式の概略図を示し、第2図は、紫
外線照射部、光電子放出部及び微粒子、生成ガス捕集部
の実施例を示す概略図である。
クリーンルーム1内には、配管2から導入される外気中
の粗粒子をプレフィルタ−3で濾過した後、クリーンル
ーム1の空気取出し口4から取シ出された空気と共に7
7ン5を介して空気調和装置6にて温度及び湿度を調節
した後、HEPAフィルター7によシ微粒子を除去した
空気が循環供給されており、清浄度(クラス)10.0
00程度に保持されている。
の粗粒子をプレフィルタ−3で濾過した後、クリーンル
ーム1の空気取出し口4から取シ出された空気と共に7
7ン5を介して空気調和装置6にて温度及び湿度を調節
した後、HEPAフィルター7によシ微粒子を除去した
空気が循環供給されており、清浄度(クラス)10.0
00程度に保持されている。
一方、クリーンルーム1内のファン及び粗フィルタ一部
8、紫外線照射部9,19□、イオン交換フィルター1
0..102を設けたバイオクリーンユニット11内の
作業台13上は、高清浄度(クラス1o)の無菌雰囲気
に保たれ、又、バイオクリーンユニット11からの排出
空気も無菌、清浄空気となシ排出される。
8、紫外線照射部9,19□、イオン交換フィルター1
0..102を設けたバイオクリーンユニット11内の
作業台13上は、高清浄度(クラス1o)の無菌雰囲気
に保たれ、又、バイオクリーンユニット11からの排出
空気も無菌、清浄空気となシ排出される。
即ち、バイオクリーンユニット11においては、クリー
ンルーム1内の清浄度(クラス)10.000程度の空
気がファン及び粗フィルタ一部8のファンによシ吸引さ
れ、入口の紫外線照射部9.で紫外線を照射することに
より空気中の微粒子は荷電されると共に、ウィルス、バ
クテリヤ、酵母、かび等の微生物が殺菌された後、入口
のフィルター10.で荷電された微粒子を除去すること
により、作業台13上は高清浄度に保持される。
ンルーム1内の清浄度(クラス)10.000程度の空
気がファン及び粗フィルタ一部8のファンによシ吸引さ
れ、入口の紫外線照射部9.で紫外線を照射することに
より空気中の微粒子は荷電されると共に、ウィルス、バ
クテリヤ、酵母、かび等の微生物が殺菌された後、入口
のフィルター10.で荷電された微粒子を除去すること
により、作業台13上は高清浄度に保持される。
作業台において発生した微生物、細菌類を含んだ微粒子
及び作業により発生した臭気性ガス等の二次生成ガスは
、出口の紫外線照射部92で紫外線を照射され、殺菌作
用を受けると同時に荷電され出口のフィルター10□で
夫々捕集され、無菌、高清浄空気が排出される。バイオ
クリーンユニット11の特長は、主に光電子放出材上に
紫外線又は放射線を照射する紫外線照射部、光電子放出
部及びフィルタ一部より成り、その概略図が第2図に示
されている。即ち、粗フイルタ−100,7アン20、
紫外線ランプ30.51、光電子放出材40,41、フ
ィルター(イオン交換フィルター)so、sz、作業台
15よ多構成され、作業台13への器具、製品等の出し
入れは可動シャッター12により行う。
及び作業により発生した臭気性ガス等の二次生成ガスは
、出口の紫外線照射部92で紫外線を照射され、殺菌作
用を受けると同時に荷電され出口のフィルター10□で
夫々捕集され、無菌、高清浄空気が排出される。バイオ
クリーンユニット11の特長は、主に光電子放出材上に
紫外線又は放射線を照射する紫外線照射部、光電子放出
部及びフィルタ一部より成り、その概略図が第2図に示
されている。即ち、粗フイルタ−100,7アン20、
紫外線ランプ30.51、光電子放出材40,41、フ
ィルター(イオン交換フィルター)so、sz、作業台
15よ多構成され、作業台13への器具、製品等の出し
入れは可動シャッター12により行う。
クリーンルーム1内の空気60は、ファン20により粗
フイルタ−100で粗い粒子を除去後、吸引される。
フイルタ−100で粗い粒子を除去後、吸引される。
入口の紫外線ラング30により、光電子放出材40が照
射され、光電子を放出し、これにより、空気流中の微粒
子が効率良く荷電される。
射され、光電子を放出し、これにより、空気流中の微粒
子が効率良く荷電される。
又、微生物、細菌類は紫外線エネルギー、紫外線照射に
よυ生成するオゾン等で死滅する。死滅微生物、細菌類
を含む荷電微粒子及び生成オゾンはフィルター50で捕
集され、高清浄度でかつ無菌の空気が作業台13に供給
される。
よυ生成するオゾン等で死滅する。死滅微生物、細菌類
を含む荷電微粒子及び生成オゾンはフィルター50で捕
集され、高清浄度でかつ無菌の空気が作業台13に供給
される。
ここで、作業台における作業が、オゾンを含む清浄空気
雰囲気で行う方が好ましr場合は、フィルター50の性
状を変えることで微粒子のみ捕集し、オゾンは通過させ
ることも出来る。
雰囲気で行う方が好ましr場合は、フィルター50の性
状を変えることで微粒子のみ捕集し、オゾンは通過させ
ることも出来る。
作業台13における作業では、倒えば微生物や細菌類の
操作、遺伝子組替え操作により、新たな微生物、細菌類
が発生し、後流へ流出する場合がある。又、試薬やガス
類等の使用により、酸性ガス、アルカリ性ガス、臭気性
ガス(ガス状汚染物質)が発生し、後流へ流出する。そ
こで作業台13の後流でも前述と同様に紫外線ランプ3
1によシ光電子放出材41が闇討される。
操作、遺伝子組替え操作により、新たな微生物、細菌類
が発生し、後流へ流出する場合がある。又、試薬やガス
類等の使用により、酸性ガス、アルカリ性ガス、臭気性
ガス(ガス状汚染物質)が発生し、後流へ流出する。そ
こで作業台13の後流でも前述と同様に紫外線ランプ3
1によシ光電子放出材41が闇討される。
ここでは、紫外線エネルギー、生成オゾン等で微生物、
細菌類は殺菌され、又臭気性ガスはオゾン等により酸化
分解され発生した微生物、細菌類を含む微粒子状物質が
荷電され、死滅した微生物、細菌類を含む荷電微粒子及
び前述のリークオゾンを含む発生ガスがフィルター51
で捕集され、高清浄度かつ無菌の空気61が排出される
。
細菌類は殺菌され、又臭気性ガスはオゾン等により酸化
分解され発生した微生物、細菌類を含む微粒子状物質が
荷電され、死滅した微生物、細菌類を含む荷電微粒子及
び前述のリークオゾンを含む発生ガスがフィルター51
で捕集され、高清浄度かつ無菌の空気61が排出される
。
前記説明において気流の方向は上から下へ流れる場合に
ついて説明したが気流方向には何ら制限はなく、横方向
など作業の形態、種類、装置の規模、形状、経済性等で
適宜法めることが出来る。
ついて説明したが気流方向には何ら制限はなく、横方向
など作業の形態、種類、装置の規模、形状、経済性等で
適宜法めることが出来る。
光電子放出材40.41は、紫外線照射により光電子を
放出するものであれば何れでも良く、光電的な仕事関数
の小さいもの程好ましい。効果や経済性の面から、Ba
、Sr、f:ia、Y、Gd、ha、Co。
放出するものであれば何れでも良く、光電的な仕事関数
の小さいもの程好ましい。効果や経済性の面から、Ba
、Sr、f:ia、Y、Gd、ha、Co。
Nd、Th、Pr、Be、Zr、Fe、Ml、Zn、C
u、kg、P’t、、Cd、Pb、kl。
u、kg、P’t、、Cd、Pb、kl。
C,Mg、 Au、In、Bi、Nb、Si、Ti、T
a、Sn、P のいずれか又はこれらの化合物又は合
金が好ましく、これらは単独で又は二種以上を複合して
用いられる。
a、Sn、P のいずれか又はこれらの化合物又は合
金が好ましく、これらは単独で又は二種以上を複合して
用いられる。
複合材としては、アマルガムの如く物理的な複合材も用
いうる。
いうる。
例えば、化合物としては酸化物、はう化物、炭化物があ
シ、酸化物にはBaO,SrO,CaO,Y2O6゜G
d2O3,Ha20.、Th02.ZrO,Fe2O,
、ZnO,CuO,^g20゜PtO,PbO,A/2
0.、MgO,In2O3,BiO,NbO,Booな
どがあジ、またほう化物にはYB6.GdBe、LaB
6.CeB6゜PrB6.ZrB2などがあり、さらに
炭化物としてはZrO,TaC,Tie、 NbCなど
がある。
シ、酸化物にはBaO,SrO,CaO,Y2O6゜G
d2O3,Ha20.、Th02.ZrO,Fe2O,
、ZnO,CuO,^g20゜PtO,PbO,A/2
0.、MgO,In2O3,BiO,NbO,Booな
どがあジ、またほう化物にはYB6.GdBe、LaB
6.CeB6゜PrB6.ZrB2などがあり、さらに
炭化物としてはZrO,TaC,Tie、 NbCなど
がある。
また、合金としては黄銅、青銅、リン青銅、八gとMg
との合金(Mgが2〜20wt%)、cuとBeとの合
金(Beが1〜1owtX)及びBaとA/との合金を
用いることができ、上記AgとMgとの合金、CuとB
eとの合金及びBaとA/ との合金が好ましい。酸
化物は金属表面のみを空気中で加熱したシ、或いは薬品
で酸化することによっても得ることができる。
との合金(Mgが2〜20wt%)、cuとBeとの合
金(Beが1〜1owtX)及びBaとA/との合金を
用いることができ、上記AgとMgとの合金、CuとB
eとの合金及びBaとA/ との合金が好ましい。酸
化物は金属表面のみを空気中で加熱したシ、或いは薬品
で酸化することによっても得ることができる。
さらに他の方法としては使用前に加熱し、表面に酸化層
を形成して長期にわたって安定な酸化層を得ることもで
きる。この例としてはMgとAg との合金を水蒸気
中で300〜400Cの温度の条件下でその表面に酸化
薄膜を形成させることができ、この酸化薄膜は長期間に
わたって安定なものである。
を形成して長期にわたって安定な酸化層を得ることもで
きる。この例としてはMgとAg との合金を水蒸気
中で300〜400Cの温度の条件下でその表面に酸化
薄膜を形成させることができ、この酸化薄膜は長期間に
わたって安定なものである。
これらの材料の使用形状は、板状、プリーツ状、曲面状
、網状例れの形状でもよいが、紫外線の照射面積及び空
気との接触面積の大きな形状のものが好ましく、このよ
うな観点からは網状のものが好ましい。
、網状例れの形状でもよいが、紫外線の照射面積及び空
気との接触面積の大きな形状のものが好ましく、このよ
うな観点からは網状のものが好ましい。
紫外線の種類は、その照射によシ光電子放出材が光電子
を放出しうるものであれば何れでもよいが、殺菌作用を
併せてもつものが好ましい。
を放出しうるものであれば何れでもよいが、殺菌作用を
併せてもつものが好ましい。
適用分野、作業内容、用途、経済性などによシ適宜決め
ることができる。
ることができる。
フィルターは必要に応じカートリッジ構造とし、圧力損
失の検出等によシ交換するようにすることにより長時間
にわたって安定した運転が可能となる。
失の検出等によシ交換するようにすることにより長時間
にわたって安定した運転が可能となる。
次に、本発明で用いるイオン交換フィルターについて詳
しく説明する。
しく説明する。
イオン変換フィルターは、ガス流から荷電粒子状物質及
び酸性ガス、アルカリ性ガス並びに臭気性ガスを捕集し
うるものであればどのようなものでも用いうる。
び酸性ガス、アルカリ性ガス並びに臭気性ガスを捕集し
うるものであればどのようなものでも用いうる。
イオン交換フィルターとしてはネット状、織物状或いは
繊維状の空隙性高分子支持体上にイオン交換体をグラフ
ト重合により支持させたものが用いられ、これらは周知
の方法により適宜製造することができる。
繊維状の空隙性高分子支持体上にイオン交換体をグラフ
ト重合により支持させたものが用いられ、これらは周知
の方法により適宜製造することができる。
イオン交換体としては、アニオン交換体或いはカチオン
交換体が使用できるが通常はこの両者を適当な割合で温
合して用いられる。
交換体が使用できるが通常はこの両者を適当な割合で温
合して用いられる。
支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
ブチレン、ポリブテン等の脂肪族系不飽和炭化水素の重
合体、ポリスチレン、ポリα−メチルスチレン等の芳香
族系炭化水素の重合体、ポリビニルシクロヘキサン等の
脂環式系炭化水素の重合体、あるいはこれらの炭化水素
の共重合体、あるいは、ポリ四フッ化エチレン、ポリ7
ノ化ビニリデン、エチレン−四フン化エチレン共重合体
、四フッ化エチレンー六7フ化プロピレン共重合体、7
ツ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体等のフッ
素含有不飽和炭化水素の重合体又はその共重合体などが
用いられる。
ブチレン、ポリブテン等の脂肪族系不飽和炭化水素の重
合体、ポリスチレン、ポリα−メチルスチレン等の芳香
族系炭化水素の重合体、ポリビニルシクロヘキサン等の
脂環式系炭化水素の重合体、あるいはこれらの炭化水素
の共重合体、あるいは、ポリ四フッ化エチレン、ポリ7
ノ化ビニリデン、エチレン−四フン化エチレン共重合体
、四フッ化エチレンー六7フ化プロピレン共重合体、7
ツ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体等のフッ
素含有不飽和炭化水素の重合体又はその共重合体などが
用いられる。
また、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリエステ
ル、セルロース、羊毛、絹するいはこれらの混合物を用
いることもできる。
ル、セルロース、羊毛、絹するいはこれらの混合物を用
いることもできる。
これら支持体は、空隙性支持体として用いられ、その形
状はガス流との接触面積が広く、かつ、抵抗の少ない形
状であればよく、例えば適宜の薄膜状の布、好ましくは
ネット状などの織吻状あるいは繊維状等、適宜の形状の
ものが用いられる。
状はガス流との接触面積が広く、かつ、抵抗の少ない形
状であればよく、例えば適宜の薄膜状の布、好ましくは
ネット状などの織吻状あるいは繊維状等、適宜の形状の
ものが用いられる。
空隙性支持体の空隙率は10〜?5%好ましくは50〜
85%でちる。空隙性支持体の形状、厚さ、空隙率は装
置の形状、使用する材質、構造、期待する効果等により
適宜法めることが出来る。
85%でちる。空隙性支持体の形状、厚さ、空隙率は装
置の形状、使用する材質、構造、期待する効果等により
適宜法めることが出来る。
本発明で使用しうるイオン交換体としては、特に限定さ
れることはなく、種々の隣イオン交換体あるいは陰イオ
ン変換体が使用される。
れることはなく、種々の隣イオン交換体あるいは陰イオ
ン変換体が使用される。
例1えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、
フェノール性水酸基などの陽イオン交換基含有交換体、
第1級〜第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、スル
ホニウム基、ホスホニウム基などの陰イオン交換基含有
交換体、あるいは前記陽及び陰画イオン交換基を含有す
る重合型または縮合型の均質型または不均質型のイオン
交換体が挙けられる。
フェノール性水酸基などの陽イオン交換基含有交換体、
第1級〜第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、スル
ホニウム基、ホスホニウム基などの陰イオン交換基含有
交換体、あるいは前記陽及び陰画イオン交換基を含有す
る重合型または縮合型の均質型または不均質型のイオン
交換体が挙けられる。
代表例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マタはス
チレン、ハロメチルスチレン、アシルオキシスチレン、
ヒドロキシスチレン、アミノスチレン、ビニルベンゼン
スルホン酸等のスチレン化合物、ビニルピリジン、2−
メチル−5−ビニルピリジン、2−メチル−5ビニルイ
ミダゾール、アクリルニトリル、あるいは砧酸、クロル
スルホン酸、スルホン酸などの陽または陰イオン交換基
、またはこれに転換し得る基を有するモノマーの重合体
またはこれらのモノマートジピニルベンゼン、トリビニ
ルベンゼン、フタジエン、エチレングリコールジビニル
エーテル、エチレングリコールジメタクリレート、など
の二個以上の二重結合を有するモノマーとの共重合体、
またはポリエチレン、ポリビニルフルオロカーボンエー
テルもしくはポリテトラフルオロエチレンにスチレンを
グラフト重合したポリマー等に夫々必要に応じて陽およ
び/または陰のイオン交換基を導入するか、またはイオ
ン交換基に転換してなるイオン交換体、テトラフルオロ
エチレン、クロロトリフルオロエチレンなどのビニルモ
ノマーとイオン交換基またはイオン交換基に変換しうる
基を有するパーフルオロビニルモノマーとのコポリマー
からなるイオン交換体がちる。
チレン、ハロメチルスチレン、アシルオキシスチレン、
ヒドロキシスチレン、アミノスチレン、ビニルベンゼン
スルホン酸等のスチレン化合物、ビニルピリジン、2−
メチル−5−ビニルピリジン、2−メチル−5ビニルイ
ミダゾール、アクリルニトリル、あるいは砧酸、クロル
スルホン酸、スルホン酸などの陽または陰イオン交換基
、またはこれに転換し得る基を有するモノマーの重合体
またはこれらのモノマートジピニルベンゼン、トリビニ
ルベンゼン、フタジエン、エチレングリコールジビニル
エーテル、エチレングリコールジメタクリレート、など
の二個以上の二重結合を有するモノマーとの共重合体、
またはポリエチレン、ポリビニルフルオロカーボンエー
テルもしくはポリテトラフルオロエチレンにスチレンを
グラフト重合したポリマー等に夫々必要に応じて陽およ
び/または陰のイオン交換基を導入するか、またはイオ
ン交換基に転換してなるイオン交換体、テトラフルオロ
エチレン、クロロトリフルオロエチレンなどのビニルモ
ノマーとイオン交換基またはイオン交換基に変換しうる
基を有するパーフルオロビニルモノマーとのコポリマー
からなるイオン交換体がちる。
支持体にイオン交換体を担持させる方法は、特に限定さ
れることはなく、周知の方法で実施しうる。
れることはなく、周知の方法で実施しうる。
例えば支持体に、紫外線またはα線、β線、電子線、γ
線などの電離性放射線の照射、あるいは酸素、オゾン、
クロルスルホン酸、過酸化水素、過酸化ベンゾイル、過
酢酸などの酸化剤による処理、またはこれらの2種以上
の処理を行なった後モノマーをグラフトし、イオン交換
体を担持させる方法、あるいは、支持体(例えばポリエ
チレン)に電離性放射線を照射した後、アクリル酸およ
び/またはメタクリル酸の水溶液を反応させてグラフト
重合体を得、これを水酸化ナトリウム水溶液で処理する
方法等が挙げられる。
線などの電離性放射線の照射、あるいは酸素、オゾン、
クロルスルホン酸、過酸化水素、過酸化ベンゾイル、過
酢酸などの酸化剤による処理、またはこれらの2種以上
の処理を行なった後モノマーをグラフトし、イオン交換
体を担持させる方法、あるいは、支持体(例えばポリエ
チレン)に電離性放射線を照射した後、アクリル酸およ
び/またはメタクリル酸の水溶液を反応させてグラフト
重合体を得、これを水酸化ナトリウム水溶液で処理する
方法等が挙げられる。
別の方法として、支持体にイオン交換体との親和性の大
きい重合層(接着層)を介して、イオン交換体を支持さ
せる方法がある。この方法は、先ず支持体に、イオン交
換体との接着層を形成スるためモノマーをグラフト重合
させる。
きい重合層(接着層)を介して、イオン交換体を支持さ
せる方法がある。この方法は、先ず支持体に、イオン交
換体との接着層を形成スるためモノマーをグラフト重合
させる。
接着層を形成するためのモノマーは、その重合体がイオ
ン交換体に対して、大きい親和力乃至は接着性を有する
ものが使用される。このようなモノマーとしては例えば
プロピレンなどのオレフィンモノマー、塩化ビニルなど
のハロゲン化ビニルモノマー、スチレン誘導体、アクリ
ロニトリルなどのニトリル基を有するモノマー、ブタジ
ェンのようなジエンモノマー、酢酸ビニル、アクリル酸
エチルのような酸エステル基を有するモノマーがある。
ン交換体に対して、大きい親和力乃至は接着性を有する
ものが使用される。このようなモノマーとしては例えば
プロピレンなどのオレフィンモノマー、塩化ビニルなど
のハロゲン化ビニルモノマー、スチレン誘導体、アクリ
ロニトリルなどのニトリル基を有するモノマー、ブタジ
ェンのようなジエンモノマー、酢酸ビニル、アクリル酸
エチルのような酸エステル基を有するモノマーがある。
これらのモノマーを支持体に前述の電離性放射線照射及
び/又は酸化剤処理などの手段にてグラフト重合させる
。即ち、支持体を予めこれら手段にて前処理した後、上
記グラフトさせるべき七ツマー溶液を含浸させて重合さ
せるか、或いは紫外線、放射線の場合は支持体にモノマ
ー溶液を含浸させた状態で照射しても良い。次に、支持
体に前記イオン交換体を支持させる。
び/又は酸化剤処理などの手段にてグラフト重合させる
。即ち、支持体を予めこれら手段にて前処理した後、上
記グラフトさせるべき七ツマー溶液を含浸させて重合さ
せるか、或いは紫外線、放射線の場合は支持体にモノマ
ー溶液を含浸させた状態で照射しても良い。次に、支持
体に前記イオン交換体を支持させる。
この方法は、イオン交換体の種類やその製造法などによ
り異なるが、例えば次の様に行う。前記イオン交換体の
原料モノマー混合物を重(縮)合する前に支持体に含浸
させ、含浸後に該モノマー混合物を重(縮)合させるか
、或いは予め部分的に重(縮)合させた初期重(縮)合
体をそのまま、又は必要に応じて適宜の溶媒に溶解させ
て支持体に含浸させ、含浸後に重(縮)合を完結させる
。
り異なるが、例えば次の様に行う。前記イオン交換体の
原料モノマー混合物を重(縮)合する前に支持体に含浸
させ、含浸後に該モノマー混合物を重(縮)合させるか
、或いは予め部分的に重(縮)合させた初期重(縮)合
体をそのまま、又は必要に応じて適宜の溶媒に溶解させ
て支持体に含浸させ、含浸後に重(縮)合を完結させる
。
この方法の特長は、支持体にはイオン交換体形成モノマ
ーと親和性の大きいグラフト重合物が存在するので、モ
ノマー混合物又はその初期重(縮)金物によって、支持
体の接着層は、膨潤又は溶解し、含浸が充分に行なわれ
る。この結果状いて行われる七ツマー混合物又はその初
期重(縮)金物の重合によシ、その重合物がグラフト重
合層を介して支持体と緊密に一体化した構造が得られる
。
ーと親和性の大きいグラフト重合物が存在するので、モ
ノマー混合物又はその初期重(縮)金物によって、支持
体の接着層は、膨潤又は溶解し、含浸が充分に行なわれ
る。この結果状いて行われる七ツマー混合物又はその初
期重(縮)金物の重合によシ、その重合物がグラフト重
合層を介して支持体と緊密に一体化した構造が得られる
。
支持体に含浸し重合させた重合物が、十分にイオン交換
基を有しない場合は、続いて周知の手段によシ陽又は陰
イオン交換基が導入され、イオン交換フィルターが得ら
れる。
基を有しない場合は、続いて周知の手段によシ陽又は陰
イオン交換基が導入され、イオン交換フィルターが得ら
れる。
この様にして、イオン交換フィルターが製造され、暢維
状又は織物状のアニオン交換フィルター及びカチオン交
換フィルターが得られる。
状又は織物状のアニオン交換フィルター及びカチオン交
換フィルターが得られる。
使用するアニオン交換フィルター及びカチオン交換フィ
ルターの種類、充填量、及びその比率は、ガス流中荷電
微粒子の荷電状態や濃度、或いはガス流中の汚染物質並
びに悪臭物質の種類や濃度等により適宜法めることが出
来る。
ルターの種類、充填量、及びその比率は、ガス流中荷電
微粒子の荷電状態や濃度、或いはガス流中の汚染物質並
びに悪臭物質の種類や濃度等により適宜法めることが出
来る。
例えば、アニオン交換フィルターは負荷電の微粒子や酸
性ガス例えばH2Sの捕集に、又カチオン交換フィルタ
ーは正荷電の微粒子やアルカリ性ガス例えばNH3の捕
集に効果的である。又、充填量やその比率は、前記捕集
物質の濃度や濃度北軍に対応して見合う量を、装置の形
状、構造、圧損等を考慮し、適宜法めれば良い。標準的
には、アニオン交換フィルター60(V/VS)、に対
しカチオン交換フィルター40(V/V%)の割合で充
填されたものを用うればよいO 図面に関する説明では、予備荷電部後流のフィルター1
0..102.50 、51のみにイオン交換フィルタ
ーを使用する方式を説明したが、フィルター8,100
も同様にイオン交換フィルターを使用出来ることは言う
までもない。
性ガス例えばH2Sの捕集に、又カチオン交換フィルタ
ーは正荷電の微粒子やアルカリ性ガス例えばNH3の捕
集に効果的である。又、充填量やその比率は、前記捕集
物質の濃度や濃度北軍に対応して見合う量を、装置の形
状、構造、圧損等を考慮し、適宜法めれば良い。標準的
には、アニオン交換フィルター60(V/VS)、に対
しカチオン交換フィルター40(V/V%)の割合で充
填されたものを用うればよいO 図面に関する説明では、予備荷電部後流のフィルター1
0..102.50 、51のみにイオン交換フィルタ
ーを使用する方式を説明したが、フィルター8,100
も同様にイオン交換フィルターを使用出来ることは言う
までもない。
前述ノバイオクリーンユニット11は、室内空気をファ
ン8,20により吸引、吐出を行へ作業台近傍を正圧と
する方式であるが、後流で吸引を行い、作業台近傍を負
圧とする方式でも良いことは言うまでもない。又、空気
清浄機構を作業空間を挟み吸込側、吐出側の両側に備え
た装置を説明したが、適用分野、用途、装置規模、形式
経済性等によシどちらか1方でも良いことは言う迄もな
い。
ン8,20により吸引、吐出を行へ作業台近傍を正圧と
する方式であるが、後流で吸引を行い、作業台近傍を負
圧とする方式でも良いことは言うまでもない。又、空気
清浄機構を作業空間を挟み吸込側、吐出側の両側に備え
た装置を説明したが、適用分野、用途、装置規模、形式
経済性等によシどちらか1方でも良いことは言う迄もな
い。
つぎに第3図は家庭、事務所、病院等で使用される本発
明の空気清浄器の1例を示す概略図でちる。
明の空気清浄器の1例を示す概略図でちる。
室内の汚染突気101はファン102によシ吸引される
。粗い粒子は粗フイルタ−103で除去される。微粒子
は、紫外線ランプ104の照射を受けた光電子放出材と
しての網状の金属面105より放出される光電子によシ
荷電される。
。粗い粒子は粗フイルタ−103で除去される。微粒子
は、紫外線ランプ104の照射を受けた光電子放出材と
しての網状の金属面105より放出される光電子によシ
荷電される。
紫外線ランプ近傍では、紫外線エネルギーや生成オゾン
等により殺菌作用が保持される。臭気性ガスは生成オゾ
ン等によシ分解され、脱臭される。荷電微粒子、残存オ
ゾン及び場合によっては、未反応のリーク臭気性ガスは
、後流のイオン交換フィルター106で捕集され、高清
浄度な空気107が排出される。
等により殺菌作用が保持される。臭気性ガスは生成オゾ
ン等によシ分解され、脱臭される。荷電微粒子、残存オ
ゾン及び場合によっては、未反応のリーク臭気性ガスは
、後流のイオン交換フィルター106で捕集され、高清
浄度な空気107が排出される。
夫々の構成、作用は第1図及び第2図において説明した
通シである。本例ではイオン交換フィルターを後流側の
みに設置した場合を示したが、前流すなわち粗フイルタ
−103も同様にイオン交換フィルターを用いても良い
事は言うまでもない。
通シである。本例ではイオン交換フィルターを後流側の
みに設置した場合を示したが、前流すなわち粗フイルタ
−103も同様にイオン交換フィルターを用いても良い
事は言うまでもない。
一般に臭気性ガス濃度が濃い場合は粗フイルタ−105
にもイオン変換フィルターを用いることにより、後流、
例えば紫外線照射部、金属面部の汚染等による保守等が
容易となるので好ましい。 ゛ イオン交換フィルターの使用個所は前倒でも同様である
が、適用分野、用途、装置の形状、構造、効果、経済性
等で適宜法めることが出来る。
にもイオン変換フィルターを用いることにより、後流、
例えば紫外線照射部、金属面部の汚染等による保守等が
容易となるので好ましい。 ゛ イオン交換フィルターの使用個所は前倒でも同様である
が、適用分野、用途、装置の形状、構造、効果、経済性
等で適宜法めることが出来る。
上記各図面に基いた説明においては荷電方式として、電
場を形成しないで行う方式について説明したが、比較的
高電圧を印加した電場において光電子放出材に紫外線又
は放射線照射を行い、効率良く光電子を放出させ荷電を
行うことが出来る。これらの電場や照射の方法は本発明
者がすでに提案した(特願昭60−18723号)。尚
、前記説明では紫外線照射の例について説明したが、放
射線照射を行う場合においても同様であることは言う迄
もない。
場を形成しないで行う方式について説明したが、比較的
高電圧を印加した電場において光電子放出材に紫外線又
は放射線照射を行い、効率良く光電子を放出させ荷電を
行うことが出来る。これらの電場や照射の方法は本発明
者がすでに提案した(特願昭60−18723号)。尚
、前記説明では紫外線照射の例について説明したが、放
射線照射を行う場合においても同様であることは言う迄
もない。
実施例1
下記の手段で製造したイオン交換フィルターを用い第3
図に示した空気清浄器を用いて試験を行った。
図に示した空気清浄器を用いて試験を行った。
ただし、
紫外線光源;水銀−キセノンランプ
光電子放出材;黄銅
充填割合;アニオン交換フィルター70容量%:カチオ
ン交換フィルター30容量% (フィルターは繊維状である) 発生微粒子は、煙草の煙(平均粒径0.3〜0.4μm
)を用い、適宜清浄空気で希釈し2 o 、、137m
工nで送気して、入口(粗フィルター後方)及び出口(
イオン交換フィルター後方)で粒子測定器を用い濃度を
測定した。
ン交換フィルター30容量% (フィルターは繊維状である) 発生微粒子は、煙草の煙(平均粒径0.3〜0.4μm
)を用い、適宜清浄空気で希釈し2 o 、、137m
工nで送気して、入口(粗フィルター後方)及び出口(
イオン交換フィルター後方)で粒子測定器を用い濃度を
測定した。
また、H2S及びNH3各I Q ppH1を同様に送
気して、濃度を測定した。又o3 濃度も測定した。
気して、濃度を測定した。又o3 濃度も測定した。
結果を表1に示す。
表−1
■ アニオン交換フィルター二繊維状のポリプロピレン
に窒素中で電子線20 Mrad を照射シ、次いで
ヒドロキシスチレンモノマートイソプレンを夫々60%
及び4o%含む溶液に浸漬し、35Cの温度に加熱して
グラフト重合反応を行った。反応後、四級アミン化を行
イ、アニオン交換フィルターヲ得り。
に窒素中で電子線20 Mrad を照射シ、次いで
ヒドロキシスチレンモノマートイソプレンを夫々60%
及び4o%含む溶液に浸漬し、35Cの温度に加熱して
グラフト重合反応を行った。反応後、四級アミン化を行
イ、アニオン交換フィルターヲ得り。
■ カチオン交換フィルター:rR維状のポリプロピレ
ンに窒素中で電子線20 Mrad を照射し、次い
でアクリル酸45%を含む水溶液に浸漬し、35Cの温
度に加熱してグラフト重合反応を行った。反応後、水酸
fヒナトリウム溶液で、処理し、カチオン交換フィルタ
ーを得た。
ンに窒素中で電子線20 Mrad を照射し、次い
でアクリル酸45%を含む水溶液に浸漬し、35Cの温
度に加熱してグラフト重合反応を行った。反応後、水酸
fヒナトリウム溶液で、処理し、カチオン交換フィルタ
ーを得た。
t 粒子状物質及び酸性ガス、アルカリ性ガス、臭気ガ
スの捕集方法としてイオン交換フィルターを用いたこと
により、 (11ガス流中の粒子状物質及び酸性ガス、アルカリ性
ガス、臭気性ガスを1つの装置誰で高効率で除去するこ
とができる。
スの捕集方法としてイオン交換フィルターを用いたこと
により、 (11ガス流中の粒子状物質及び酸性ガス、アルカリ性
ガス、臭気性ガスを1つの装置誰で高効率で除去するこ
とができる。
(2)捕集粒子等捕集物の再飛散が無く、定常運転状態
を長期部にわたって保つことができる。
を長期部にわたって保つことができる。
2、 イオン交換フィルターの形状をネット状などの織
物状又は繊維状としたことにより、+11 抵抗の少
ない実用的なアニオン交換フィルター、カチオン交換フ
ィルターヲ提供できた。
物状又は繊維状としたことにより、+11 抵抗の少
ない実用的なアニオン交換フィルター、カチオン交換フ
ィルターヲ提供できた。
五 紫外線照射又は放射線照射法により粒子の予備荷電
を行ない、その下流側でイオン交換フィルターで荷電粒
子の捕集を行うことによシ (1) ガス流中の粒子等の汚染物質は後流への流れ
が実質的に無視できる位高効率で捕集され、殺菌された
超高清浄度のガス流が得られた。
を行ない、その下流側でイオン交換フィルターで荷電粒
子の捕集を行うことによシ (1) ガス流中の粒子等の汚染物質は後流への流れ
が実質的に無視できる位高効率で捕集され、殺菌された
超高清浄度のガス流が得られた。
(2)各分野、用途への適用が可能でちシ、特に従来法
では限界があシ、かつ、困難であったクリーンルーム関
連の、なかでもバイオテクノロジー関連の如く微生物の
存在が特に影響を及ぼす分野に特に有効な設備を提供で
きた。
では限界があシ、かつ、困難であったクリーンルーム関
連の、なかでもバイオテクノロジー関連の如く微生物の
存在が特に影響を及ぼす分野に特に有効な設備を提供で
きた。
4、7ニオン交換フイルター及びカチオン交換フィルタ
ーを粒子状物質及び酸性ガス、アルカリ性ガス、臭気性
ガスの濃度や種類或いは使用目的により適宜使い分け、
或いは組合せることができるので、適用分野、用途、装
置の構造、経済性等目的に適合する装置を提供できる。
ーを粒子状物質及び酸性ガス、アルカリ性ガス、臭気性
ガスの濃度や種類或いは使用目的により適宜使い分け、
或いは組合せることができるので、適用分野、用途、装
置の構造、経済性等目的に適合する装置を提供できる。
5、 従来の静電的に微粒子を捕集する方式に比較して
、高電圧の電気を使用する必要がないため、安全で維持
管理が容易であり、かつ、1つの装置で汚染ガスをも捕
集できるコンパクトで多機能を有する空気清浄装置を提
供できた。
、高電圧の電気を使用する必要がないため、安全で維持
管理が容易であり、かつ、1つの装置で汚染ガスをも捕
集できるコンパクトで多機能を有する空気清浄装置を提
供できた。
6 実用的で有利な装置が供給できた。
生国面の簡単な説明
第1図、第2図及び第3図は本発明の夫々異なる装置を
説明するための概略図である。
説明するための概略図である。
1・・・クリーンルーム、3・・・プレフィルタ−15
・・・ファン、6・・・空気調和装置、7・・・HEP
Aフィルター、8・・・ファン及び粗フイルタ−,9,
,9231,104・・・紫外線照射ランプ、40 、
41゜105・・・光電子放出材、100,103・・
・粗フィルター 第3図
・・・ファン、6・・・空気調和装置、7・・・HEP
Aフィルター、8・・・ファン及び粗フイルタ−,9,
,9231,104・・・紫外線照射ランプ、40 、
41゜105・・・光電子放出材、100,103・・
・粗フィルター 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、紫外線及び/又は放射線を光電子放出材上に照射す
ることにより放出された光電子によってガス流中の粒子
状物質を荷電させた後該ガス流をイオン交換フィルター
に通すことを特徴とするガス流中の微粒子と共に酸性ガ
ス、アルカリ性ガス及び/又は臭気性ガスをも同時に捕
集するガス流の清浄方法。 2、イオン交換フィルターが空隙性支持体にイオン交換
体をグラフト重合することにより得られたものである特
許請求の範囲第1項記載のガス流の清浄方法。 3、イオン交換フィルターが織物状又は繊維状である特
許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法。 4、ガス流吸入口からガス流排出口までのガス流路上に
、少くとも光電子放出材上に紫外線又は放射を照射する
紫外線又は放射線照射部並びにイオン交換フィルターを
設けてなる粒子状物質と共に酸性ガス、アルカリ性ガス
及び/又は臭気性ガスをも同時に除去する装置。 5、紫外線又は放射線照射部に更に電場をかけるように
構成してなる特許請求の範囲第4項記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22179286A JPH0687997B2 (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | ガス流の清浄方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22179286A JPH0687997B2 (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | ガス流の清浄方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6377557A true JPS6377557A (ja) | 1988-04-07 |
| JPH0687997B2 JPH0687997B2 (ja) | 1994-11-09 |
Family
ID=16772272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22179286A Expired - Lifetime JPH0687997B2 (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | ガス流の清浄方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0687997B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01262953A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Ebara Res Co Ltd | 空気中の微生物を殺菌除去する方法及びその装置 |
| JPH01262954A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Ebara Res Co Ltd | 気体の清浄方法及びその装置 |
| US5060805A (en) * | 1989-06-20 | 1991-10-29 | Ebara Research Co., Ltd. | Photoelectron emitting member |
| US5154733A (en) * | 1990-03-06 | 1992-10-13 | Ebara Research Co., Ltd. | Photoelectron emitting member and method of electrically charging fine particles with photoelectrons |
| US5225000A (en) * | 1990-11-02 | 1993-07-06 | Ebara Research Co., Ltd. | Method for cleaning closed spaces with ultraviolet rays |
| JPH06154650A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-03 | Ebara Infilco Co Ltd | 光電子による空間中の微粒子の荷電方法及び装置 |
| JPH06198215A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-07-19 | Ebara Infilco Co Ltd | 気体の清浄方法及び装置 |
| JP2009538410A (ja) * | 2006-05-24 | 2009-11-05 | アメリカン イノベーティブ リサーチ コーポレイション | 正の気圧隔離システム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56151628U (ja) * | 1980-04-14 | 1981-11-13 | ||
| JPS60183022A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-18 | Toray Ind Inc | 空気中の変異原物質捕係用フイルタ− |
| JPS61178050A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-09 | Ebara Corp | 紫外線照射による空気清浄方法及びその装置 |
-
1986
- 1986-09-22 JP JP22179286A patent/JPH0687997B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56151628U (ja) * | 1980-04-14 | 1981-11-13 | ||
| JPS60183022A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-18 | Toray Ind Inc | 空気中の変異原物質捕係用フイルタ− |
| JPS61178050A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-09 | Ebara Corp | 紫外線照射による空気清浄方法及びその装置 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01262953A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Ebara Res Co Ltd | 空気中の微生物を殺菌除去する方法及びその装置 |
| JPH01262954A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Ebara Res Co Ltd | 気体の清浄方法及びその装置 |
| US5060805A (en) * | 1989-06-20 | 1991-10-29 | Ebara Research Co., Ltd. | Photoelectron emitting member |
| US5154733A (en) * | 1990-03-06 | 1992-10-13 | Ebara Research Co., Ltd. | Photoelectron emitting member and method of electrically charging fine particles with photoelectrons |
| US5225000A (en) * | 1990-11-02 | 1993-07-06 | Ebara Research Co., Ltd. | Method for cleaning closed spaces with ultraviolet rays |
| JPH06198215A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-07-19 | Ebara Infilco Co Ltd | 気体の清浄方法及び装置 |
| JPH06154650A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-03 | Ebara Infilco Co Ltd | 光電子による空間中の微粒子の荷電方法及び装置 |
| JP2009538410A (ja) * | 2006-05-24 | 2009-11-05 | アメリカン イノベーティブ リサーチ コーポレイション | 正の気圧隔離システム |
| JP2012179428A (ja) * | 2006-05-24 | 2012-09-20 | American Innovative Research Corp | 正の気圧隔離システム |
| US8485874B2 (en) | 2006-05-24 | 2013-07-16 | American Innovative Research Corp. | Positive air pressure isolation system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0687997B2 (ja) | 1994-11-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61178050A (ja) | 紫外線照射による空気清浄方法及びその装置 | |
| JPH08211B2 (ja) | 密閉空間の清浄方法及び装置 | |
| US20100089234A1 (en) | Device and Method for Separating Particulate Material from a Gas Flow | |
| JP3129910B2 (ja) | 快適空気発生器とそれを用いた快適住居 | |
| JPH0687997B2 (ja) | ガス流の清浄方法及びその装置 | |
| JPS6377514A (ja) | 空気清浄器 | |
| JP2623290B2 (ja) | 気体の清浄方法及びその装置 | |
| JPS6312315A (ja) | 気体浄化装置用フイルタ | |
| JPS6354958A (ja) | ガス流の清浄方法及びその装置 | |
| JPH0687995B2 (ja) | 空気の清浄方法及びその装置 | |
| JPS6354959A (ja) | ガス流から粒子状物質を除去する方法及びその装置 | |
| JP3543593B2 (ja) | 気体の清浄化方法及び装置 | |
| DE202020004562U1 (de) | Luftreiniger mit Sterilisationsunterstützung | |
| JP2750694B2 (ja) | 気体の清浄方法及びその装置 | |
| CN213577834U (zh) | 一种新型中央空调除尘杀菌装置 | |
| JPH0674910B2 (ja) | 気体の清浄方法及びその装置 | |
| JP2000312713A (ja) | 負イオン富化空気の供給方法及び装置 | |
| JPS63147565A (ja) | 気体の清浄方法及びその装置 | |
| JPH07110342B2 (ja) | 気体の清浄方法及びその装置 | |
| JPH0687996B2 (ja) | 集塵及び汚染ガスの除去方法及びその装置 | |
| JPH0674908B2 (ja) | 気体の清浄方法及びその装置 | |
| JP2000167435A (ja) | 負イオンの発生方法及びその装置 | |
| JPH0674909B2 (ja) | 気体の清浄方法及びその装置 | |
| JP3145736B2 (ja) | 低級脂肪酸の捕集材 | |
| JPS6397247A (ja) | 紫外線照射による空気の清浄方法及びその装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |