JPS63777B2 - - Google Patents

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JPS63777B2
JPS63777B2 JP16507683A JP16507683A JPS63777B2 JP S63777 B2 JPS63777 B2 JP S63777B2 JP 16507683 A JP16507683 A JP 16507683A JP 16507683 A JP16507683 A JP 16507683A JP S63777 B2 JPS63777 B2 JP S63777B2
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JP
Japan
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foreign matter
metal frame
transparent substrate
minute
pellicle
Prior art date
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Expired
Application number
JP16507683A
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English (en)
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JPS6057841A (ja
Inventor
Toshihiko Nakada
Yasuo Nakagawa
Yoshisada Oshida
Mitsuyoshi Koizumi
Masataka Shiba
Yukio Uto
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58165076A priority Critical patent/JPS6057841A/ja
Publication of JPS6057841A publication Critical patent/JPS6057841A/ja
Publication of JPS63777B2 publication Critical patent/JPS63777B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、半導体製造に用いられるフオトマス
クやレチクル等の透明基板をペリクル膜で覆つて
異物の付着を防止する場合、上記の透明基板とペ
リクル膜との間に混入して封入された微小な異物
を固定して無害化する方法、およびその装置に関
するものである。ここに微小な異物とは、空中に
浮遊する程度の大きさの異物粒子を意味する。
〔発明の背景〕
半導体製造用のフオトマスクやレチクル等の透
明基板への異物付着を防止するため、ニトロセル
ローズ製の薄膜を金属製の枠に貼りつけた構造の
ペリクル膜が用いられる。第1図はその斜視図で
ある。
1は透明基板、2はその表面である。一方、ニ
トロセルローズ製の薄膜を金属枠3に貼りつけて
ペリクル膜5を構成し、これを透明基板1の表面
に装着して異物の付着を防止する。本図には片面
しか現われていないが、通常、透明基板1の両面
にそれぞれペリクル膜5が装着される。この操作
は無塵室内で行なわれるが、極微量の浮遊異物が
ペリクル膜と透明基板との間に混入することは避
け難い。
第2図aは微小異物の混入状態の説明図で、読
図を容易ならしめるように微小異物を拡大して描
いてある。
異物は大別すると、湿気や油により高い粘着性
を示すものと、乾燥して電荷を帯びたものとの2
種類に分けることができる。
第2図aに示した8a,8dは金属枠3の内面
4に付着した微小異物を表わしている。このよう
に金属枠内面4に付着した異物は、その検出が特
に困難である。
7a,7bは空間6内に浮遊している微小異物
を、8b,8cはペリクル膜5に付着している微
小異物を、それぞれ表わしている。
前記のように金属枠内面4に付着した微小異物
は検出が困難なため、半導体製造工程の途中で見
逃がされ易い。この付着異物がそのまま付着し続
けていれば障害を及ぼさないのであるが、第2図
bに示すように、搬送時の振動や、微小異物の帯
電が自然放電で失われることなどによつてこれら
の異物が移動、透明基板1に付着する虞れが有
り、この状態で露光を行なうとウエハに欠陥を生
じる。
〔発明の目的〕
本発明は上述の事情に鑑みて為され、ペリクル
膜と透明基板との間に混入して封入されてしまつ
た微小な異物を固定して無害化し得る方法、およ
び上記の方法を実施するに好適な装置を提供する
ことを目的とする。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するため、本発明は金属枠に
支承されたペリクル膜で透明基板を覆つて異物の
付着を防止する方法において、上記金属枠の内面
に予め粘着性物質の薄膜を設けておき、ペリクル
膜と透明基板との間に封入された微小な異物が浮
遊した場合、この微小異物を前記の粘着性物質に
付着せしめて固定し、該微小異物を無害化する一
方、前記のペリクル膜で覆つた透明基板を電界中
に位置せしめ、前記の微小異物をクーロン力によ
つて金属枠に引きつけ、前記の粘着性物質に付着
せしめて固定し、該微小異物を無害化するもので
ある。
〔発明の実施例〕
第3図は、本発明を適用した異物固定装置によ
つて本発明の異物固定方法を実施する1例の説明
図である。
ペリクル膜5を支承している金属枠3の内面4
に粘着性物質の薄膜9を構成する。
本実施例においては、金属枠3の内側に両面粘
着テープを貼りつけて貼着性薄膜9を形成してあ
る。
透明基板1とペリクル膜5との間の空間6内に
混入して封入された浮遊微小異物10a〜10h
は、それぞれ波線矢印で示したように不規則に移
動するが、時間の経過とともに或る確率で粘着性
薄膜9に接触する。接触した微小異物は、一旦粘
着性薄膜9に触れると粘着力によつて捕捉され、
その位置に固定されて第3図bに示す状態とな
る。
第4図a〜dは上記と異なる実施例の説明図で
ある。透明基板1、金属枠3、ペリクル膜5およ
び粘着性薄膜9は前記の実施例におけると同様の
構成部材である。そして、上記金属枠3に電極1
1が接続されており、さらにペリクル膜5の上面
にはペリクル膜を全てカバーする大きさで電極1
1とは逆の極性をもつ電極12が設置されてい
る。なお電極12は、ペリクル膜を傷つけないよ
う数mm程ペリクル膜5から離してある。15は電
極11および同12に高電圧を印加するための高
圧電源であり、14はその高電圧の極性を切換え
るための極性切換装置である。
今、同図aに示すように、電極11すなわち金
属枠3に正の電圧を、電極12に負の電圧を印加
すると、両者の間に発生する電気力線は16のよ
うに金属枠3から電極12に向かう曲線となる。
本実施例においては、金属枠3と透明基板1との
間に無縁性材料13を介装し、電気力線16が透
明基板1を通らないようにしてある。これによ
り、同図bに示すように、空間6内に存在する帯
電微小異物のうち、正の電荷を帯びた異物17は
(電極12との間に働くクーロン力によりペリク
ル膜5の表面に付着する。一方負の電荷を帯びた
異物18は同様にして金属枠3に引き寄せられ、
粘着性物質9の表面上に付着し半永久的に固定さ
れる。
次に、同図cに示すように、極性切換装置14
により金属枠3と電極12の極性を逆にすると両
者の間に発生する電気力線は電極12から金属枠
3に向かう曲線となる。従つて同図dに示す如く
ペリクル膜表面に付着した正の電荷を帯びた異物
17は、金属枠3に引き寄せられ、粘着性物質9
の表面上に付着して半永久的に固定される。一
方、既に粘着性物質9の表面上に固定されていた
負の電荷を帯びた異物18は、電極12との間に
働くクーロン力が粘着性物質9の粘着力よりも小
さいため、そのまま粘着性物質9の表面に固定さ
れる。このように、電界をかけ且つ電界の方向を
切換えると、空間6内に存在した正、負の帯電微
小異物17,18は全て金属枠3の内面に固定さ
れて無害となる。
第5図a,bは、第4図に示した実施例と異な
る実施例の説明図であつて、前例と異なるところ
は次のごとくである。
前例(第4図)においては電極11が金枠3に
電位を与えるように構成したが、本例(第5図)
は電極19が2個の金枠3にそれぞれ電位を与え
るとともに、電極20が透明基板1に反対電位
(電極19と反対の意)を与えるように構成して
ある。
今、同図aに示すように、電極すなわち金属枠
3に正の電圧を、電極12及び20に負の電圧を
印加すると、空間6内に存在する帯電微小異物の
うち正の電荷を帯びた異物17は、電極12及び
透明基板1との間に働くクーロン力によりペリク
ル膜5の表面及び透明基板1の表面2に付着す
る。一方、負の電荷を帯びた異物18は、同様に
して金属枠3に引き寄せられ、粘着性物質9の表
面上に付着し半永久的に固定される。
次に同図bに示すように、極性切換装置14に
より金属枠3と電極12及び20の極性を逆にす
ると、同図aと同様の動作によりペリクル膜表面
に付着した正の電荷を帯びた異物17は、金属枠
3に引き寄せられ、粘着性物質9の表面上に付着
し半永久的に固定される。一方、既に粘着性物質
9の表面に固定されていた負の電荷を帯びた異物
18は、電極12との間に働くクーロン力が粘着
性物質9の粘着力よりも小さいため、そのまま粘
着性物質9の表面上に固定されている。このよう
にして、空間6内の正帯微小異物17および負帯
電微小異物18が総べて粘着性の薄膜9に捕捉、
固定されて無害な状態となる。
第6図aは更に異なる実施例を示す。第4図の
実施例に於て1板の平板状に構成した電極12に
対応する部材として、本実施例では複数の同心状
電極21〜25を構成する。26〜29は電気絶
縁物である。
第6図bに示すように、上記の各電極21〜2
5に対してそれぞれ個別に電位を与え得るよう極
性切換装置30を設ける。第7図a〜cは上記実
施例の用法および作用の説明図である。
第7図aに示すごとく、中央部の電極21に正
の電圧を、電極11及び同22〜25に負の電圧
を印加すると、空間6内の帯電微小異物のうち、
正に帯電した異物17は、金属枠3及び電極22
〜25相互の間のクーロン力により、あるものは
金属枠3に引き寄せられ粘着性物質9の表面上に
付着し半永久的に固定され、別のあるものはペリ
クル膜5の表面のうち電極22〜25に面する領
域に付着する。一方、負の電荷を帯びたもの18
は、同様にしてペリクル膜5の表面のうち電極2
1に面する領域に付着する。
次に同図bに示すように、極性連続切換装置3
0により電極22の極性を逆にし他はそのままに
しておくと、ペリクル膜5の表面のうち電極22
に面する領域に付着していた正の電荷を帯びた異
物17は、粘着性物質9の表面上に付着し半永久
的に固定されたり、あるいはペリクル膜5の表面
のうち電極23〜25に面する領域に付着する。
同様にして電極23〜25の極性を次々と外周方
向に向かつて逆転させていくと、最終的に同図c
に示すように正の電荷を帯びた異物17は、全て
粘着性物質9の表面上に付着し半永久的に固定さ
れる。
一方、この時点で負の電荷を帯びた異物18
は、同図cに示すようにペリクル膜5の全面に付
着している。そこで第8図aに示すように、電極
11すなわち金属枠3及び電極21の極性を逆に
すると、ペリクル膜5の表面のうち電極21に面
する領域に付着していた負の電荷を帯びた異物1
8は、金属枠3に引き寄せられ粘着性物質9の表
面上に付着し半永久的に固定されたり、あるいは
ペリクル膜5の表面のうち電極22〜25に面す
る領域に付着する。次に同図bに示すように、電
極22の極性を逆にし他はそのままにしておく
と、同様にペリクル膜5の表面のうち電極22に
面する領域に付着していた負の電荷を帯びた異物
18は、粘着性物質9の表面上に半永久的に固定
されたり、あるいはペリクル膜5の表面のうち電
極23〜25に面する領域に付着する。同様にし
て電極23〜25の極性を次々と外周方向に向か
つて逆転させていくと、最終的に同図cに示すよ
うに負の電荷を帯びた異物18は、総て粘着性物
質9の表面上に付着し半永久的に固定される。以
上の動作により、空間6内に存在する正及び負の
帯電微小異物17及び18を全て粘着性物質9の
表面上に半永久的に固定させることができる。
上記の作用において、同心状に構成した電極2
1〜25のうち、隣接する2個の電極間の距離が
短かいので、印加電圧に比して大きいクーロン力
を得ることができ、帯電微小異物の固定が確実に
行なわれる。
〔発明の効果〕
以上詳述したように、本発明方法によればペリ
クル膜と透明基板との間の空間内に混入して封入
されてしまつた微小な異物を固定して無害にする
ことができる。また本発明の装置によれば上記の
本発明方法を容易に実施してその効果を充分に発
揮させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、ペリクル膜を装着した透明基板を示
す斜視図、第2図は、ペリクル膜上及び金属枠表
面に付着した帯電微小異物の挙動を示す説明図、
第3図a,b及び第4図a,b,c,dはそれぞ
れ本発明装置の構成及び本発明方法の作用、効果
を説明する為の、一実施例の断面図、第5図a,
bは同じく、上記と異なる実施例の断面図、第6
図aは上記と異なる実施例の平面図、同図bは同
じく断面図である。第7図a〜c及び第8図a〜
cは第6図a,bに示した実施例の作用を説明す
るための断面図である。 1……透明基板、3……金属枠、5……ペリク
ル膜、9……粘着性物質、11,12,19〜2
5……電極、13,26〜29……絶縁性物質、
14……極性切換装置、30……極性連続切換装
置、15……高圧電源。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 金属枠に支承されたペリクル膜で透明基板を
    覆つて異物の付着を防止する方法において、上記
    金属枠の内面に予め粘着性物質の薄膜を設けてお
    き、ペリクル膜と透明基板との間に混入した微小
    な異物が浮遊した場合、この微小異物を前記の粘
    着性物質に付着せしめて固定し、該微小異物を無
    害化することを特徴とする異物固定方法。 2 前記のペリクル膜で覆つた透明基板を電界中
    に位置せしめ、前記の微小異物をクーロン力によ
    つて金属枠に引きつけ前記の粘着性物質に付着せ
    しめて固定し該微小異物を無害化することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載の異物固定方
    法。 3 金属枠で支障したペリクル膜によつて透明基
    板を覆つた異物付着防止構造において、上記の金
    属枠の内面に粘着性物質の薄膜を設けて、ペリク
    ル膜と透明基板との間に混入した微小異物が浮遊
    した際、該微小異物を粘着性物質の薄膜に付着せ
    しめ、これを固定して微小異物を無害化し得べく
    為したることを特徴とする異物固定装置。 4 前記の金属枠で支承したペリクル膜は、電界
    を印加する手段を備えたものであることを特徴と
    する特許請求の範囲第3項に記載の異物固定装
    置。
JP58165076A 1983-09-09 1983-09-09 異物固定方法及び装置 Granted JPS6057841A (ja)

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JPS6057841A JPS6057841A (ja) 1985-04-03
JPS63777B2 true JPS63777B2 (ja) 1988-01-08

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0779551A2 (en) 1995-12-15 1997-06-18 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Frame-supported dustproof pellicle for photolithographic photomask

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