JPS6377973A - ナフトラクタム４角酸色素及びこれを含有する光学的記録用媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なナフトラクタム４角酸色素、及びこれ
を有効物質とする光学的記録用媒体に関する。

高いエネルギー密度を有する光線例えばレーザー光線に
より、局部的に限られた状態変化を生じる光学的記録用
媒体は公知である。この熱により起こされる状態変化は
、光学的性質の変化と結びついており、そして情報記録
及びデータ記録に利用される。

情報蓄積用のこの種の記録用材料としては、金属又は合
金の薄層が用いられる。しかしこの材料は酸化及び水分
に対し敏感であるため、耐久性が低い。

蓄積媒体として使用するためには、無定形層が長期にわ
たり不変であることが必要である。

老化の進行例えば光及び熱による結晶化又は退色（それ
によって蓄積層の形態が変わる）は、薄い蒸着された層
において比較的多゛く起こる。

吸収用化合物としてオキサジン（特開昭５８−１３２２
６１）、シアニン色素（特開昭５８−１１２７９０及び
１２５２４６）、フタロシアニル化合物（欧州特許８４
７２９、米国特許４２４１３５５及び特開昭５８−５６
８９２）又は供与作用を有する置換基を有するナフトキ
ノン−１，４化合物を含有する光学的蓄積系も知られて
いる。この系はＨｅ−Ｎｅレーザー（６３６１１ｍ）に
より記入できる。

そのほか半導体照射レーザー線により操作するための多
くの記録用媒体が報告されている。

有機工Ｒ色素としては、特にフタロシアニン化合物、メ
チン色素及び４角酸誘導体が用いられた。

本発明の課題は、光学的記録用媒体の製造に好適な新規
なナフトラクタム４角酸色素を開発することであった。

本発明は、次式 （Ｒ１及びＲ２は互いに無関係に置換されていてもよい
Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル基（このアルキル鎖は酸素原子
により中断されていてもよい）、置換されていてもよい
０１〜Ｃ４−アルアルキル基、置換されていてもよいＣ
６〜Ｃ？−シクロアルキル基又は置換されていてもよい
フェニル基であり、環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは置換されてい
てもよく及び／又はベンゾ縮合していてもよい）で表わ
されるナフトラクタム４角酸色素である。

前記のアルキル基は、いずれも直鎖状でも分岐状でもよ
い。

Ｒ１及びＲ２のためのＣ５〜Ｃ２２−アルキル基は、フ
ェニル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４−アルカノイル基
、カルボキシル基、０１〜Ｃ４−アルカノイルアミノ基
、０１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４−
アルコキシカルボニルアミノ基又はＣ１〜Ｃ４−アルキ
ルアニリノ基により置換されていてもよく、その際アル
キル鎖は酸素原子により中断されていてもよい。個々の
例は次の基である。ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−
ブチル、イソブチル、三級ブチル、ｎ−ペンチル、２−
メチルプチル、ｎ−ヘキシル、２−メチルペンデル、Ｑ
−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、イソ
オクチル、ノニル、イノノニル、デシル、イソデシル、
ドデシル、ウンデセン−１０−イル−１，３，５，５，
７−チトラメチルノニル、イントリデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナ
デシル、エイコシル、トコシル（イソオクチル、イソノ
ニル、イソデシル及びイントリデシルは通俗基であって
、オキソ合成により得られるアルコールニ依存スル。ウ
ルマンスΦエンチクロペテイ・デル・テヒニジシエン拳
ヘミー４版７巻２１６〜２１７頁及び１１巻４６５〜４
３６頁参照）、ヘプタフルオロプロピル、２−メトキシ
エチル、２−エトキシプロピル、３−エトキシプロピル
、３，６−ジオキサヘプチル、６．６−ジオキサオクチ
ル、　　３，６．９−　）リオキサデシル、フロパン−
２−オン−１−イル、ブタン−３−オン−１−イル、２
−エチルペンタン−６−、ｔノー１−イル、２−カルボ
キシエチル、６−カルボキシプロピル、４−カルボキシ
ブチル、５−カルボキシペンチル、４−カルボキシー６
−オキサブチル、６−メドキシカルボニルプロビル。

アルアルキル基としては、例えばベンジル、２−フェニ
ルエチル及び２−又は６−フェニルプロピル等の基があ
げられる。

Ｒ１及びＲ２のための場合によりＣ，−’−Ｃ４−アル
キル基又はハロゲン原子により置換されたＣ３〜Ｃ７−
シクロアルキル基としては、次の基があげられる。シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、６−メ
チルシクロペンチル、４−エチルシクロヘキシル又は２
，３−ジクロロシクロヘキシル。

場合により置換されたフェニル基は、フェニル基及び０
１〜Ｃ３−アルキル基、Ｃ，％Ｃ，Ｃブーコキシ基、ハ
ロゲン原子又は０１〜Ｃ４−ジアルキルアミノ基により
置換されたフェニル基であって、その例は次の基である
。４−メチルフェニル、４−イングロビルフェニル、４
−メトキシフェニル、２．４−−）メトキシフェニル、
２−クロルフェニル、４−ブロムフェニル又は４−ジメ
チルアミノフェニル。

式■の環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、非置換であるか、あるい
は例えば場合によりフェニル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜
Ｃ４−アルカノイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ４−
アルカノイルアミノ基、０１〜Ｃ４−フルコキシカルボ
ニル基、Ｃ１〜Ｃ，−フルコキシカルボニルアミノ基又
はＣ１〜Ｃ４−アルキルアニリノ基により置換され、そ
してアルキル鎖が場合により酸素原子により中断されて
いてモヨい０１〜Ｃ６〜Ｃ２２−アルキル基、フェニル
ｉ、ｃ、〜Ｃ６〜Ｃ２２−アルコキシ基、０１〜Ｃ２０
−アルキルチオ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基
、Ｃ１〜Ｃ４−モノ−もしくはジアルキルアミノ基、１
−アザシクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ２−アルキルスルホ
ニル基、０１〜Ｃ４−アルコキシスルホニル基、フェニ
ルスルホニル基、ｃ１％ｃ４−アルキルフェニルスルホ
ニル基、ヒドロキシスルホニル基、アニリノ基、０１〜
Ｃ４−フルキルアニリノ基、Ｃ１〜Ｃ４−アルカノイル
基、０１〜Ｃ４−フルカッイルアミン基、０１〜Ｃ４−
アルコキシカルボニル基、、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシカ
ルボニルアミノ基、カルバモイル基、Ｃ１〜Ｃ，−Ｎ−
モノ−もしくはｃ、〜ｃ、−Ｎ、Ｎ−ジアルキルカルバ
モイル基、スルファモイル基、Ｃ１〜Ｃ４−Ｎ−モノ−
もしくはＮ、Ｎ　−Ｃ’。

〜Ｃ４−ジアルキルスルファモイル基、ウレイド基、０
１〜Ｃ４−アルキル置換ウレイド基、フェノキシ基、フ
ェニルチオ基又は基 により置換され又はベンゾ縮合していてもよい。

１−アザシクロアルキル基は、例えば５質ないし６員の
飽和窒素含有複素環残基で窒素を介して結合するもので
、そのほかにも複素原子を含有しうる。その例は次のも
のである。

−０，０−Ｃ０、−ｆｌＨ−Ｃ’Ｈ３、−一ノ　　　　
　　−一ノ ナフトラクタム系における置換型の例は次のとおりであ
る。

ナフトラクタム４角酸色素（１）において、好ましくは
Ｒ１及びＲ２はＣ６〜Ｃ６〜Ｃ２２−アルキル基特に０
１□〜Ｃ２２−アルキル基、２−メトキシエチル基、２
．３．３−　トリメチル−４−ヒドロキシブチル基、２
−エトキシエチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−
ベンジルオキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、８
−ヒドロキシオクチル基、り、６−ジオキサヘプチル基
、６，６−ジオキサオクチル基、６，６−ジオキサデシ
ル基、６，６−シオキ？−７−フェニルヘプチル基、６
−ジオキサヘキシル基、３，６．９−トリオキサデシル
基、？ｌ、６．９−　トリオキサウンデシル基、３．６
．９−　トリオキサトリデシル基、３，６．９−　）ジ
オキサ−１０−フェニルデシル基、３，６，９−　）リ
カキサ−１０−ヒドロキシデシル基、ベンジル基又ハウ
ンデセンー１０−イル−１基であり、そして環Ａ又はＢ
ならびにＣ又はＤの一方は非置換であるか、あるいはＣ
Ｉ”Ｃ２２−アルキル基、１，３−ジオキサブチル基、
１，３−ジオキサペンチル基、１，３−ジオキサヘプチ
ル基、１．′！Ｊ−ジオキサー４＝フェニルブチル基、
１，６−シオキサブロビル基、１，３，６−　）ジオキ
サヘプチル基、１，６．６−ドリオキサオクチル基、１
，３．６−　）　’）オキサデシル基、１，６．６−ト
ＩＪオキサ−７−フェニルヘプチル基、１，３．６−　
）　！Ｊオキサヘキシル基、１．３，６．９−テトラオ
キサデシル基、１，３，６．９−テトラオキサウンデシ
ル基、１．３，６．９−テトラオキサトリデシル基、１
，３，６．９−テトラオキサ−１０−フェニルデシル基
、１，３，６．９−テトラオキサ−１０−ヒドロキシデ
シル基、フェニル基、０１〜Ｃ６〜Ｃ２２−アルコキシ
基、Ｃ１〜ｃｔｏ−アルキルチオ基、シアノ基、”１〜
ｅｔａ−モノ−もしくはＣ１〜Ｃ１６−ジアルキルアミ
ノ基、１−アザシクロアルキル基、塩素原子、臭素原子
、ヒドロキシスルホニル基、フェニルチオ基又は基によ
り置換されている。

特に好ましいナフトラクタム色素（１）は、式中のＲ１
及びＲ２カＣＩ２〜ＣＺｔ−アルキル基、ベンジル基、
ウンデセン−１０−イル−１基、３，６−ジオキサヘキ
シル基、６，６−ジオキサヘプチル基、６−ジオキサデ
シル基、６−ジオキサ−７−フェニルヘプチル基、３．
６．９−　）　！Ｊオキサゾ゛シル基、３，６．９−　
トリオキサウンデシル基又は８−ヒドロキシオクチル基
であり、そして環Ａ１Ｂ、Ｃ及びＤが非置換のものであ
る。

本発明の色素は、次式 （Ｒ１、Ａ及びＢは前記の意味を有し、ＸはＪｌＣｌ又
はＢｒである）のシクロアンモニウム化合物を、４角酸
と溶剤中で２０〜１２０℃の温度で縮合させることによ
り製造される。

出発物質として必要な式■のシクロアンモニウム化合物
はは知であるか、あるいは既知の方法により製造できる
。反応のための溶剤としては、例えばドルオール、ブタ
ノール、プロパツール又はその混合物が適する。

式■のナフトラクタム４角酸色素は、７００〜１２００
　ｎｍの範囲できわめて高い分子吸収を有する。これは
有機溶剤及び／又は熱可塑性の又は架橋された合成樹脂
に易溶である。

本発明はさらに、支持体とレーザー光線に対し敏感な色
素を含有する色素層又は熱可塑性の又は架橋された重合
体の層から成る光学的記録用媒体であって、その色素層
及び重合体層は、少なくとも１種の式■のナフトラクタ
ム色素を含有する。

本発明の記録系は、約７５０〜９５０　ｎｍの半導体レ
ーザーの波長において高度の吸収能を有する。重合体層
は光反射層の上に、高い光学的品の 質Ｊたい吸収層（満足すべき波長エネルギーを有する）
を与え、そして蓄積される情報を高いシグナル対ノイズ
比で記入しうるように付着される。

本発明の記録用媒体は、半導体レーザーを用いて記入及
び解読でき、そして大気の影響及び日光に対しきわめて
安定である。色素の高い光吸収性によって、本発明の記
録用媒体は、（）ａ　Ａ　ＩＡＳ半導体レーザーの光線
に対しきわめて敏感である。

れたシグナル／ノイズ比が得られる。

用 記録媒体の構造は公知である（　Ｊ、Ｖａｃ、　Ｓｃｉ
。

＾ Ｔｅｃｈｎｏｌ、　１８　（１）　Ｊａｎ、　／Ｆｅｂ
、　１９８１年１０５頁参照）。

光吸収層と支持体の間に反射層を設けてもよく、これに
よって照射されて有色層を進行した光線（吸収されない
限り）が反射層上で反射されて、再度有色層中を進行す
る。

照射は透明基質を通して行うことができる。

層の順序としては、基質−吸収層−場合により反射層の
配置が用いられる。

適当な光反射材料の例は、アルミニウム、ロジウム、金
、すす、鉛、ビスマス、銅及び導電性スビーゲルである
。光反射層の厚さは、これが使用した光線を吸収し又は
走査するため完全に反射するように定められる。

この目的のためには、熱伝導性の低いスピーゲルが好ま
しい。支持体及び光反射層は、光学的に平滑な平らな表
面を有し、そして表面が吸収された光線をその上に固着
するようにあるべきである。表面の品質及び付着性を良
好にするために、支持体及び／又は反射体に、熱硬化性
又は熱可塑性の材料からの光沢層を設けることができる
。

金属性反射層の付着は、好ましくは常法により、支持体
上への真空蒸着あるいは適当な金属箔の付着により行わ
れる。本発明によるレーザー光線に対し敏感な層の付着
は、好ましくは結合剤の存在下の溶解又は分散された色
素の遠心塗布により行われる。層の製造手段として、ド
クター塗布又は浸漬も用いられる。

溶液から吸収層を付着させるためには、適当な溶剤例え
ば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、アセトン
、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ドルオール
、アセトニトリル、酢酸エステル、メタノール又はこれ
らの混合物の中で、色素又は色素混合物及び結合剤とし
ての重合体の溶液（又は場合により懸濁液）を調製する
。

結合剤としては、照射又は熱により硬化しうる樹脂例え
ば光重合体、シリコーン樹脂又はエポキシ樹脂、あるい
は熱可塑性合成樹脂が用いられる。

結晶部のない又はそれがわずかな、ガラス転移温度が３
５℃以上特に７５°Ｃ以上の熱可塑性合成樹脂が好まし
い。そのほか結合剤例えば樹脂又は熱可塑性合成樹脂は
、式Ｉのナフトラクタム色素との親和性が良好であるこ
とを必要とする。例えばナフトラクタム色素に対する高
い溶解能を有する水不溶性結合剤、例えば（メト）アク
リレート単独重合体及び共重合体、スチロール単独重合
体及び共重合体、ポリビニルカルバゾール、ポリビニル
エステル共重合体、ポリ塩化ビニル及びセルロースエス
テルが適する。

色素調製物は、ドクター塗布、浸漬又は特に好ましくは
遠心塗布により、あらかじめ清浄化され又は予備された
基質（補充層）に付着され、そしてこの層を空気中で乾
燥又は硬化させる。

この膜は真空中で、高温で又は場合により照射によって
乾燥し又は硬化させることもできる。

系の構造によって、まず重合体中の色素層を、次いで反
射層を付着させ、あるいはその逆にする。中間層及び保
護層あるいは反射の付着は、場合により省略できる。

中間層を省略しないときは、用いられる材料の屈折率及
び用いられるレーザー光線の波長を考慮して、中間層の
厚さを妨害となる干渉が起こらないように選ぶべきであ
る。

重合体中の色素層が充分な機械的安定性を有しないとき
は、これは透明な保護層で被覆することができる。この
ためには多数の重合体が溶解された形で用いられ、溶解
重合体の遠心塗布、ドクター塗布又は浸漬により、ある
いは例えば弗素化重合体の真空蒸着により付着させるこ
とができる。

系（データ蓄積体）が２個の同一の又は異なる記録用媒
体からサンドインチ状に構成されているときは、保護層
を省略できる。このサンドインチ構造は、大きい機械的
及び回転力学的安定性のほかに、２倍の蓄積容積を有す
ることを利点とする。

下記実施例中の記号は次の意味を有する。

ＤＡＡ　＝ジアセトンアルコール ＴＨＦ　＝テトラヒドロフラン ＤＭＦ　＝　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドＰＭＭＡ　
＝ポリメチルメタクリレ−トム０色素の製造 実施例１ ４角酸６５０１ｎ９　（５，７ｍモル）を、ブタノール
４Ｑｍｌ及びドルオール４０ｍ１に熱時溶解し、これに
１−ドデシル−２−メチル−ベンゾ（ｃ、ｄ）インドリ
ウムヨーシト３，０１　ｇ（１１，４ｍモル）を添加し
、２時間還流加熱する。反応溶液を回転蒸発器により蒸
発濃縮し、アセトン１００ｍＪと共に０℃で２時間攪拌
したのち吸引濾過する。

得られた赤色粉末を、ブタノン−２と共に０℃で２時間
攪拌し、吸引濾過１．、エーテルで洗浄する。次式の色
素が２．４ｇ得られる。吸収極大：　８７９　ｎｍ　（
ＤＡＡ）。

ｅ 実施例２〜１７ 下記表に示す色素は、実施例１と同様にして製造された
ものである。吸収極大の測定において用いられた溶剤は
、波長の後の括弧内に示される。

Ｂｒ　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｂｒ０ｅ ”＋、、−ＣＨ＝　ＣＨ，、９゜（ＴＨＦ）８９５（Ｔ
ＨＦ） Ｂ、光学的記録用媒体の製造 高分子ＰＭＭＡ　Ｏ，０８６６ｇを酢酸エステル０゜３
４６ｇに溶解し、色素Ａ７の０．２０２．９及びドルオ
ール６、５６　ｇを添加した。１時間攪拌しタッチ、飽
和溶液ヲ濾過し、２０００ｒｌｌｌｌでＰＭＭＡ基体上
に遠心塗布した。均質層は８　Ｄ　ｎｍの層厚を有し、
８００　ｎｍの極大で幅広い吸収帯を有する。８６０　
ｎｍで０，３の消光を示す。回転盤上に据えつけたＡｎ
（）ａＡｓレーザー（λ＝８２０ｎｍ　）により、活性
層に約１μの大きさの個々の孔を記入した。層の感度は
１ｎＪ／孔より良好で、この点を解読する際に優れたシ
グナル／ノイズ比が認められた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔Ｒ＾１及びＲ＾２は互いに無関係に置換されていても
   よいＣ＿３〜Ｃ＿２＿２−アルキル基（このアルキル鎖
   は酸素原子により中断されていてもよい）、置換されて
   いてもよいＣ＿１〜Ｃ＿４−アルアルキル基、置換され
   ていてもよいＣ＿５〜Ｃ＿７−シクロアルキル基又は置
   換されていてもよいフェニル基であり、環Ａ、Ｂ、Ｃ及
   びＤは置換されていてもよく及び／又はベンゾ縮合して
   いてもよい〕で表わされるナフトラクタム４角酸色素。 ２、Ｒ＾１及びＲ＾２が互いに無関係にフェニル基、ハ
   ロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルカノイル基、カルボ
   キシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルカノイルアミノ基、Ｃ
   ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
   ４−アルコキシカルボニルアミノ基もしくはＣ＿１〜Ｃ
   ＿４−アルキルアニリノ基により置換されていてもよい
   Ｃ＿３〜Ｃ＿２＿２−アルキル基で、そのアルキル鎖は
   酸素原子により置換されていてもよく、そして環Ａ、Ｂ
   、Ｃ及びＤがＣ＿１〜Ｃ＿２＿２−アルキル基、フェニ
   ル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿２＿２−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿２＿０−アルキルチオ基、ハロゲン原子、ニトロ基、
   シアノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−モノ−もしくはジアルキル
   アミノ基、１−アザシクロアルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
   −アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
   スルホニル基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
   −アルキルフェニルスルホニル基、ヒドロキシスルホニ
   ル基、アニリノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアニリノ
   基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルカノイル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
   −アルカノイルアミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
   カルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル
   アミノ基、カルバモイル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−Ｎ−モノ
   −もしくはＣ＿１〜Ｃ＿４−Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバ
   モイル基、スルファモイル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−Ｎ−モ
   ノ−もしくはＮ，Ｎ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−ジアルキルスル
   ファモイル基、ウレイド基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル
   置換ウレイド基、フェノキシ基、フェニルチオ基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ により置換され又はベンゾ縮合していてもよいことを特
   徴とする、特許請求の範囲第１項に記載の色素。 ３、Ｒ＾１及びＲ＾２が互いに無関係にＣ＿６〜Ｃ＿２
   ＿２−アルキル基、２−メトキシエチル基、２，３，３
   −トリメチル−４−ヒドロキシブチル基、２−エトキシ
   エチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−ベンジルオ
   キシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、８−ヒドロキ
   シオクチル基、３，６−ジオキサヘプチル基、３，６−
   ジオキサオクチル基、３，６−ジオキサデシル基、３，
   ６−ジオキサ−７−フェニルヘプチル基、３，６−ジオ
   キサヘキシル基、３，６，９−トリオキサデシル基、３
   ，６，９−トリオキサウンデシル基、３，６，９−トリ
   オキサトリデシル基、３，６，９−トリオキサ−１０−
   フェニルデシル基、３，６，９−トリオキサ−１０−ヒ
   ドロキシデシル基、ベンジル基又はウンデセン−１０−
   イル−１基であり、そして環Ａ又はＢならびにＣ又はＤ
   の一方が非置換であるか、あるいはＣ＿１〜Ｃ＿２＿２
   −アルキル基、１，３−ジオキサブチル基、１，３−ジ
   オキサペンチル基、１，３−ジオキサヘプチル基、１，
   ３−ジオキサ−４−フェニルブチル基、１，３−ジオキ
   サプロピル基、１，３，６−トリオキサヘプチル基、１
   ，３，６−トリオキサオクチル基、１，３，６−トリオ
   キサデシル基、１，３，６−トリオキサ−７−フェニル
   ヘプチル基、１，３，６−トリオキサヘキシル基、１，
   ３，６，９−テトラオキサデシル基、１，３，６，９−
   テトラオキサウンデシル基、１，３，６，９−テトラオ
   キサトリデシル基、１，３，６，９−テトラオキサ−１
   ０−フェニルデシル基、１，３，６，９−テトラオキサ
   −１０−ヒドロキシデシル基、フェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿２＿２−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０−アルキ
   ルチオ基、シアノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿６−モノ−もし
   くはジアルキルアミノ基、１−アザシクロアルキル基、
   塩素原子、臭素原子、ヒドロキシスルホニル基、フェニ
   ルチオ基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ により置換されていることを特徴とする、特許請求の範
   囲第１項に記載の色素。 ４、Ｒ＾１及びＲ＾２がＣ＿１＿２〜Ｃ＿２＿２−アル
   キル基、ベンジル基、ウンデセン−１０−イル−１基、
   ３，６−ジオキサヘキシル基、３，６−ジオキサヘプチ
   ル基、３，６−ジオキサデシル基、３，６−ジオキサ−
   ７−フェニルヘプチル基、３，６，９−トリオキサデシ
   ル基、３，６，９−トリオキサトリデシル基又は８−ヒ
   ドロキシオクチル基であり、そして環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤ
   が非置換であることを特徴とする、特許請求の範囲第１
   項に記載の色素。 ５、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔Ｒ＾１及びＲ＾２は互いに無関係に置換されていても
   よいＣ＿３〜Ｃ＿２＿２−アルキル基（このアルキル鎖
   は酸素原子により中断されていてもよい）、置換されて
   いてもよいＣ＿１〜Ｃ＿４−アルアルキル基、置換され
   ていてもよいＣ＿５〜Ｃ＿７−シクロアルキル基又は置
   換されていてもよいフェニル基であり、環Ａ、Ｂ、Ｃ及
   びＤは置換されていてもよく及び／又はベンゾ縮合して
   いてもよい）で表わされるナフトラクタム４角酸色素か
   らのレーザー光線に対し敏感な色素層又はこの色素を含
   有する熱可塑性の又は架橋された重合体の層と、支持体
   とから成る光学的記録用媒体。 ６、Ｒ＾１及びＲ＾２が互いに無関係にフェニル基、ハ
   ロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルカノイル基、カルボ
   キシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルカノイルアミノ基、Ｃ
   ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
   ４−アルコキシカルボニルアミノ基もしくはＣ＿１〜Ｃ
   ＿４−アルキルアニリノ基により置換されていてもよい
   Ｃ＿３〜Ｃ＿２＿２−アルキル基で、そのアルキル鎖は
   酸素原子により中断されていてもよく、そして環Ａ、Ｂ
   、Ｃ及びＤがＣ＿１〜Ｃ＿２＿２−アルキル基、フェニ
   ル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿２＿２−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿２＿０−アルキルチオ基、ハロゲン原子、ニトロ基、
   シアノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−モノ−もしくはジアルキル
   アミノ基、１−アザシクロアルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
   −アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
   スルホニル基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
   −アルキルフェニルスルホニル基、ヒドロキシスルホニ
   ル基、アニリノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアニリノ
   基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルカノイル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
   −アルカノイルアミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
   カルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル
   アミノ基、カルバモイル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−Ｎ−モノ
   −もしくはＣ＿１〜Ｃ＿４−Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバ
   モイル基、スルファモイル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−Ｎ−モ
   ノ−もしくはＮ，Ｎ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−ジアルキルスル
   ファモイル基、ウレイド基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル
   置換ウレイド基、フェノキシ基、フェニルチオ基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ により置換され又はベンゾ縮合していてもよいことを特
   徴とする、特許請求の範囲第５項に記載の光学的記録用
   媒体。 ７、Ｒ＾１及びＲ＾２が互いに無関係にＣ＿６〜Ｃ＿２
   ＿２−アルキル基、２−メトキシエチル基、２，３，３
   −トリメチル−４−ヒドロキシブチル基、２−エトキシ
   エチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−ベンジルオ
   キシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、８−ヒドロキ
   シオクチル基、３，６−ジオキサヘプチル基、３，６−
   ジオキサオクチル基、３，６−ジオキサデシル基、３，
   ６−ジオキサ−７−フェニルヘプチル基、３，６−ジオ
   キサヘキシル基、３，６，９−トリオキサデシル基、３
   ，６，９−トリオキサウンデシル基、３，６，９−トリ
   オキサトリデシル基、３，６，９−トリオキサ−１０−
   フェニルデシル基、３，６，９−トリオキサ−１０−ヒ
   ドロキシデシル基、ベンジル基又はウンデセン−１０−
   イル−１基で、そして環Ａ又はＢならびにＣ又はＤの一
   方が非置換であるか、あるいはＣ＿１〜Ｃ＿２＿２−ア
   ルキル基、１，３−ジオキサブチル基、１，３−ジオキ
   サペンチル基、１，３−ジオキサヘプチル基、１，３−
   ジオキサ−４−フェニルプチル基、１，３−ジオキサプ
   ロピル基、１，３，６−トリオキサヘプチル基、１，３
   ，６−トリオキサオクチル基、１，３，６−トリオキサ
   デシル基、１，３，６−トリオキサ−７−フェニルヘプ
   チル基、１，３，６−トリオキサヘキシル基、１，３，
   ６，９−テトラオキサデシル基、１，３，６，９−テト
   ラオキサウンデシル基、１，３，６，９−テトラオキサ
   トリデシル基、１，３，６，９−テトラオキサ−１０−
   フェニルデシル基、１，３，６，９−テトラオキサ−１
   ０−ヒドロキシデシル基、フェニル基、Ｃ＿１−Ｃ＿２
   ＿２−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０−アルキルチ
   オ基、シアノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿６−モノ−もしくは
   Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿６−ジアルキルアミノ基、１−アザシ
   クロアルキル基、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシスル
   ホニル基、フェニルチオ基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ により置換されていることを特徴とする、特許請求の範
   囲第５項に記載の光学的記録用媒体。 ８、Ｒ＾１及びＲ＾２がＣ＿１＿２〜Ｃ＿２＿２−アル
   キル基、ベンジル基、ウンデセン−１０−イル−１基、
   ３，６−ジオキサヘキシル基、３，６−ジオキサヘプチ
   ル基、３，６−ジオキサデシル基、３，６−ジオキサ−
   ７−フェニルヘプチル基、３，６，９−トリオキサデシ
   ル基、３，６，９−トリオキサトリデシル基又は８−ヒ
   ドロキシオクチル基であり、そして環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤ
   が非置換であることを特徴とする、特許請求の範囲第５
   項に記載の光学的記録用媒体。