JPS6379978A - 無電解めつき浴 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/48—Coating with alloys
- C23C18/50—Coating with alloys with alloys based on iron, cobalt or nickel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気ディスク等の磁気記録体に用いられる磁気
記録媒体を作製するための無電解めっき浴に関するもの
である。
記録媒体を作製するための無電解めっき浴に関するもの
である。
(従来の技術)
近年、高密度磁気記録体として記録媒体がめつき法によ
り作製されためっき磁気ディスク、めっき磁気ドラム等
が用いられ始めた。これらの磁気記録体の記録媒体に要
求される基本的特性は、保磁力(llc)、残留磁束密
度(Ilr)、角形比(Br/Bs、但しBsは飽和磁
束密度)等の磁気特性、及び、膜厚(t )である。こ
れらの値は、磁気記録体が用いられる磁気記録装置の種
類により決まり、線記録密度、及び、出力との間にはお
よそ次の様な関係がある。
り作製されためっき磁気ディスク、めっき磁気ドラム等
が用いられ始めた。これらの磁気記録体の記録媒体に要
求される基本的特性は、保磁力(llc)、残留磁束密
度(Ilr)、角形比(Br/Bs、但しBsは飽和磁
束密度)等の磁気特性、及び、膜厚(t )である。こ
れらの値は、磁気記録体が用いられる磁気記録装置の種
類により決まり、線記録密度、及び、出力との間にはお
よそ次の様な関係がある。
(線記録密度)−(Ilc/Br−t)”” −(]
J(出力) −(Br−t−He)”” −f
21また、(11、(21式はBr/Bsの値により変
化し、例えばBr/Bsが1に近くなるに従って線記録
密度及び出力は増大する。
J(出力) −(Br−t−He)”” −f
21また、(11、(21式はBr/Bsの値により変
化し、例えばBr/Bsが1に近くなるに従って線記録
密度及び出力は増大する。
従って、記録密度及び出力を増大させて磁性膜の高性能
化を図るにはHeを増大させ磁性膜の減磁を減少させる
必要がある。
化を図るにはHeを増大させ磁性膜の減磁を減少させる
必要がある。
一方、近年の高トラツク密度化に対応して種々のトラッ
クサーボ方式が提案され、研究が進められている。なか
でもデータ情報を記録する磁性膜(以下データ層という
)とトラックサーボ情報を記録する磁性膜(以下サーボ
層という)を2重層化したベリードサーボ方式が有効な
方法の1つであると考えられている。このベリードサー
ボ方式においては、サーボ層の上に直接ないしは非磁性
の分離層を介してデータ層が形成され、トラック位置情
報を読み出してヘッド位置決めをするとともにその上の
データ層にデータ情報の記録再生が行なわれる。従来広
く用いられているサーボ面サーボ方式においては、トラ
ック位置情報が記録されているサーボディスクとデータ
情報が記録されているデータディスクが異なるためサー
マルオフトラックが生じるおそれがあり、トラック密度
はせいぜい1500TPI(インチ当たりのトラック数
)が限度である。しかし、データ情報が記録されている
位置に1対1に対応したトラック位置情報を直接読み出
してボジショニングするベリードサーボ方式では、サー
ボ面サーボ方式の10倍以上の位置決め精度があると考
えられている。ここに用いられるデータ層およびサーボ
層の材料は限定されないが、両者の磁気特性、特にHe
の差が大きいことが好ましい。データ層については線記
録密度の向上のため磁性膜のHeを増加させる傾向があ
る。データ情報を記録するための磁気ヘッドにはより大
きな起磁力が要求され、このためデータ層の下にあるサ
ーボ層の磁化状態が影響を受け、場合によってはトラッ
ク位置情報が消去される可能性が増大する。従って、デ
ータ層のHeを所要の値とするとともにサーボ層のHe
はより大きな値にする必要があり、両者の磁性膜を作製
するためHcをできるだけ広範囲に変化し得ることが望
まれている。
クサーボ方式が提案され、研究が進められている。なか
でもデータ情報を記録する磁性膜(以下データ層という
)とトラックサーボ情報を記録する磁性膜(以下サーボ
層という)を2重層化したベリードサーボ方式が有効な
方法の1つであると考えられている。このベリードサー
ボ方式においては、サーボ層の上に直接ないしは非磁性
の分離層を介してデータ層が形成され、トラック位置情
報を読み出してヘッド位置決めをするとともにその上の
データ層にデータ情報の記録再生が行なわれる。従来広
く用いられているサーボ面サーボ方式においては、トラ
ック位置情報が記録されているサーボディスクとデータ
情報が記録されているデータディスクが異なるためサー
マルオフトラックが生じるおそれがあり、トラック密度
はせいぜい1500TPI(インチ当たりのトラック数
)が限度である。しかし、データ情報が記録されている
位置に1対1に対応したトラック位置情報を直接読み出
してボジショニングするベリードサーボ方式では、サー
ボ面サーボ方式の10倍以上の位置決め精度があると考
えられている。ここに用いられるデータ層およびサーボ
層の材料は限定されないが、両者の磁気特性、特にHe
の差が大きいことが好ましい。データ層については線記
録密度の向上のため磁性膜のHeを増加させる傾向があ
る。データ情報を記録するための磁気ヘッドにはより大
きな起磁力が要求され、このためデータ層の下にあるサ
ーボ層の磁化状態が影響を受け、場合によってはトラッ
ク位置情報が消去される可能性が増大する。従って、デ
ータ層のHeを所要の値とするとともにサーボ層のHe
はより大きな値にする必要があり、両者の磁性膜を作製
するためHcをできるだけ広範囲に変化し得ることが望
まれている。
高Hcの磁性膜を作製するための無電解めっき浴として
従来、クエン酸を錯化剤としたCo−Pめっき浴に亜鉛
の塩を添加することが検討されている。
従来、クエン酸を錯化剤としたCo−Pめっき浴に亜鉛
の塩を添加することが検討されている。
洛中の塩化亜鉛の濃度を増加することにより最大120
00e弱程度の高He膜が得られている。(アイイーイ
ーイー トランザクションズ オン マグネチックス、
第2巻、第4号、p681〜686.1966年) (発明が解決しようとする問題点) クエン酸を錯化剤として用いている前記めっき浴(クエ
ン酸浴)では、クエン酸の錯化力が非常に強いため浴分
解を生じにくいという意味での安定性に優れているが、
得られる磁性膜の磁気特性の制御が困難であった。前記
めっき浴で亜鉛を加えることにより高保磁力膜を得るこ
とはできる力釈クエン酸の錯化力が強すぎるため洛中に
クエン酸を少量しか加えることができず、このため得ら
れる磁気特性の再現性は極めて乏しがった。また亜鉛の
添加はめっき浴の反応性を低下させるため、これもまた
めっき析出を困難とし再現性を低下させる要因であった
。
00e弱程度の高He膜が得られている。(アイイーイ
ーイー トランザクションズ オン マグネチックス、
第2巻、第4号、p681〜686.1966年) (発明が解決しようとする問題点) クエン酸を錯化剤として用いている前記めっき浴(クエ
ン酸浴)では、クエン酸の錯化力が非常に強いため浴分
解を生じにくいという意味での安定性に優れているが、
得られる磁性膜の磁気特性の制御が困難であった。前記
めっき浴で亜鉛を加えることにより高保磁力膜を得るこ
とはできる力釈クエン酸の錯化力が強すぎるため洛中に
クエン酸を少量しか加えることができず、このため得ら
れる磁気特性の再現性は極めて乏しがった。また亜鉛の
添加はめっき浴の反応性を低下させるため、これもまた
めっき析出を困難とし再現性を低下させる要因であった
。
本発明の目的は、従来の問題を改善して、高保磁力の磁
性膜を再現性良く作製し得る無電解めっき浴を提供する
ことにある。
性膜を再現性良く作製し得る無電解めっき浴を提供する
ことにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明による無電解めっき浴は、金属イオンとして少な
くともコバルトイオンおよび亜鉛イオンを含み、添加剤
として少なくともこれら金属イオンの還元剤を含む水溶
液に前記金属イオンの錯化剤として少なくともマロン酸
基、酒石酸基およびピロリン酸基を含むことを特徴どし
ている。
くともコバルトイオンおよび亜鉛イオンを含み、添加剤
として少なくともこれら金属イオンの還元剤を含む水溶
液に前記金属イオンの錯化剤として少なくともマロン酸
基、酒石酸基およびピロリン酸基を含むことを特徴どし
ている。
本発明による無電解めっき浴の主要成分としては、金属
イオンとして少なくともコバルトイオンおよび亜鉛イオ
ンを含み、添加剤として少なくとも前記金属イオンの還
元剤を含む水溶液において、前記金属イオンの錯化剤と
して少なくともマロン酸基、酒石酸基およびピロリン酸
基を含むが、本発明の目的、効果を損なわない範囲にお
いて、他の錯化剤、PH緩衝剤、光沢剤、平滑剤、励起
剤、ピンホール防止剤、界面活性剤等の添加剤が用いら
れることがある。
イオンとして少なくともコバルトイオンおよび亜鉛イオ
ンを含み、添加剤として少なくとも前記金属イオンの還
元剤を含む水溶液において、前記金属イオンの錯化剤と
して少なくともマロン酸基、酒石酸基およびピロリン酸
基を含むが、本発明の目的、効果を損なわない範囲にお
いて、他の錯化剤、PH緩衝剤、光沢剤、平滑剤、励起
剤、ピンホール防止剤、界面活性剤等の添加剤が用いら
れることがある。
コバルトイオンおよび亜鉛イオンは、コバルトないしは
亜鉛の硫酸塩、塩化塩等の無機酸塩、酢酸塩、酒石酸塩
等の有機酸塩などの可溶性塩を無電解めっき洛中に溶解
することによって供給される。コバルトイオンの濃度は
、0.004〜2rno nIQの範囲が用いられるが
、好ましくは0.01〜0.25rnoj、/Hの範囲
である。亜鉛イオンの濃度としては、0.00001〜
1.5moQバの範囲が用いられるが、好ましくは0.
005〜0.15mo nIQの範囲である。本発明に
おいて用いられる金属イオンとしては、CoおよびZn
を主成分とするが、その他の成分として、Ni、Re、
Mn、W、Li、Be、Mg、 A fl 、Ru、S
i、Fe。
亜鉛の硫酸塩、塩化塩等の無機酸塩、酢酸塩、酒石酸塩
等の有機酸塩などの可溶性塩を無電解めっき洛中に溶解
することによって供給される。コバルトイオンの濃度は
、0.004〜2rno nIQの範囲が用いられるが
、好ましくは0.01〜0.25rnoj、/Hの範囲
である。亜鉛イオンの濃度としては、0.00001〜
1.5moQバの範囲が用いられるが、好ましくは0.
005〜0.15mo nIQの範囲である。本発明に
おいて用いられる金属イオンとしては、CoおよびZn
を主成分とするが、その他の成分として、Ni、Re、
Mn、W、Li、Be、Mg、 A fl 、Ru、S
i、Fe。
Sr、Y、Zr、Nb、Cd、 In、Sb、Ta、
Ir、Hg、T Q 、Ti 、V、Cr、Cu。
Ir、Hg、T Q 、Ti 、V、Cr、Cu。
Ga、Ge、Mo、Tc、Rb、Ra、l(f、Rh、
Pd、Ag、Au、PL、Sn、Te。
Pd、Ag、Au、PL、Sn、Te。
Ba 、 Cs 、 Os 、 Sc 、 Se 、
Pb 、 B iおよびSm、Gd、Tbなどのランタ
ン系列希土類元素等の元素が本発明の効果に影響を与え
ない範囲で含まれていてもよく、これらのイオンはそれ
ぞれの可溶性塩によって供給される。めっき膜中にはこ
れらの元素のほか、還元剤の種類によっては、P、II
等、添加剤の種類によってはC,N、0.S、As、N
a、に、F、CQ 、Br、 T、Ca等の非金属が含
有されることがある。
Pb 、 B iおよびSm、Gd、Tbなどのランタ
ン系列希土類元素等の元素が本発明の効果に影響を与え
ない範囲で含まれていてもよく、これらのイオンはそれ
ぞれの可溶性塩によって供給される。めっき膜中にはこ
れらの元素のほか、還元剤の種類によっては、P、II
等、添加剤の種類によってはC,N、0.S、As、N
a、に、F、CQ 、Br、 T、Ca等の非金属が含
有されることがある。
還元剤としては、次亜リン酸塩、水素化はう素化合物、
ヒドラジン、アミノボラン、ジメヂルボラン、ジエチル
アミンボラン、ジエチルアミンボランおよびこれらの誘
導体の1種または2種以」二が、0.01〜1.3rn
o fl/Q 、女子ましくけ0.05〜[1,35m
o nIQの範囲で用いられる。
ヒドラジン、アミノボラン、ジメヂルボラン、ジエチル
アミンボラン、ジエチルアミンボランおよびこれらの誘
導体の1種または2種以」二が、0.01〜1.3rn
o fl/Q 、女子ましくけ0.05〜[1,35m
o nIQの範囲で用いられる。
錯化剤として少なくともマロン酸基、酒石酸基およびピ
ロリン酸基が使用される。マロン酸基は、マロン酸また
はマロン酸の可溶性塩が0.001〜4.0rr1 o
UIQの範囲で用いられるが、0.1〜2.3no
nIQの範囲が好ましい。酒石酸基は、酒石酸または酒
石酸の可溶性塩が0ロロ1〜2.Om o UIQの範
囲で用いられるが、[1,1〜]、、6mo見/IIの
範囲が好ましい。またピロリン酸基は、ピロリン酸また
はピロリン酸の可溶性塩がo、ooot〜1.50mo
Q/立の範囲で用いられるが、0.001〜O,Bmo
Q/1!の範囲が好ましい。
ロリン酸基が使用される。マロン酸基は、マロン酸また
はマロン酸の可溶性塩が0.001〜4.0rr1 o
UIQの範囲で用いられるが、0.1〜2.3no
nIQの範囲が好ましい。酒石酸基は、酒石酸または酒
石酸の可溶性塩が0ロロ1〜2.Om o UIQの範
囲で用いられるが、[1,1〜]、、6mo見/IIの
範囲が好ましい。またピロリン酸基は、ピロリン酸また
はピロリン酸の可溶性塩がo、ooot〜1.50mo
Q/立の範囲で用いられるが、0.001〜O,Bmo
Q/1!の範囲が好ましい。
また錯化剤としてほかに、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、シュウ酸、コハ
ク酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、イタコン酸、トリカルバリル酸、グリコール酸、チ
オグリコール酸、乳酸、β−ヒドロキシプロピオン酸、
リンゴ酸、クエン酸、イソクエン酸、アロイソクエン酸
、ピルビン酸、オキサル酢酸、ジグリコール酸、千オシ
グリコール酸、メルカプトコハク酸、ジメルカプトコハ
ク酸、安息香酸、マンデル酸、フタル酸、サリチル酸、
タル1〜ロン酸、アスコルビン酸、スルホサリチル酸、
トロボロン、3−メチルトロボロン、タイロン等のカル
ボン酸、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ト
リエチレンテ1〜ラアミン、ピリジン等のアミンおよび
その誘導体、イミノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、二
1−リロトリ酢酸、ニトリロトリプロピオン酸、エチレ
ンジアミンジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、エチ
レンジアミンテトラプロピオン酸、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸等のアミノポリカルボン酸、アラニン、ザ
ルコシン、バリン、ノルロイシン、チロシン、システィ
ン、グルタミン酸、グリシン、アスパラギン酸、アスパ
ラギン、ヒスチジン等のアミノ酸、グルコン酸、アロン
酸、イドン酸、ガラクトン酸、グロン酸、グロン酸、マ
ンノン酸等のヘキソン酸などの弱酸またはそれらの可溶
性塩の1種または2種以上の組み合わせが用いられるこ
とがある。これらの錯化剤の濃度は、0.001〜3.
0m o nIQの範囲が用いられ、0.1〜1.5m
o UIQの範囲が好ましい。
酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、シュウ酸、コハ
ク酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、イタコン酸、トリカルバリル酸、グリコール酸、チ
オグリコール酸、乳酸、β−ヒドロキシプロピオン酸、
リンゴ酸、クエン酸、イソクエン酸、アロイソクエン酸
、ピルビン酸、オキサル酢酸、ジグリコール酸、千オシ
グリコール酸、メルカプトコハク酸、ジメルカプトコハ
ク酸、安息香酸、マンデル酸、フタル酸、サリチル酸、
タル1〜ロン酸、アスコルビン酸、スルホサリチル酸、
トロボロン、3−メチルトロボロン、タイロン等のカル
ボン酸、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ト
リエチレンテ1〜ラアミン、ピリジン等のアミンおよび
その誘導体、イミノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、二
1−リロトリ酢酸、ニトリロトリプロピオン酸、エチレ
ンジアミンジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、エチ
レンジアミンテトラプロピオン酸、ジエチレントリアミ
ンペンタ酢酸等のアミノポリカルボン酸、アラニン、ザ
ルコシン、バリン、ノルロイシン、チロシン、システィ
ン、グルタミン酸、グリシン、アスパラギン酸、アスパ
ラギン、ヒスチジン等のアミノ酸、グルコン酸、アロン
酸、イドン酸、ガラクトン酸、グロン酸、グロン酸、マ
ンノン酸等のヘキソン酸などの弱酸またはそれらの可溶
性塩の1種または2種以上の組み合わせが用いられるこ
とがある。これらの錯化剤の濃度は、0.001〜3.
0m o nIQの範囲が用いられ、0.1〜1.5m
o UIQの範囲が好ましい。
pH緩衝剤としてはアンモニウム塩、炭酸塩、有機酸塩
などが使用され、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム
、ホウ酸等を用いることが好ましい。濃度範囲は0.0
1〜3moQ/l、好ましくは0.03〜1.rhou
lが用いられる。
などが使用され、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム
、ホウ酸等を用いることが好ましい。濃度範囲は0.0
1〜3moQ/l、好ましくは0.03〜1.rhou
lが用いられる。
pH調節剤としては、アンモニアまたは苛性アルカリと
してNaOH,LiOH,KOH,Rb01l、CsO
H,FrOH。
してNaOH,LiOH,KOH,Rb01l、CsO
H,FrOH。
Be(OH)2. Mg<01()2. Ca(O
H)2. Sr(OH)2. Ba(OB)2゜R
a(OH)2等の金属の水酸化物が、1種または2種以
上を組み合わせて用いられる。
H)2. Sr(OH)2. Ba(OB)2゜R
a(OH)2等の金属の水酸化物が、1種または2種以
上を組み合わせて用いられる。
通常、pH調節剤を加えない建浴前のめっき液はほぼ中
性ないし酸性域にあり、前記水酸化物を加えてアルカリ
性にpH調節される。所要のpHを上回った場合、pI
(降下には塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の酸が用いられる
。pH範囲は3〜14.5、好ましくは8.5〜11.
0の間で用いられる。めっき浴の温度は40〜100℃
、好ましくは70〜85℃の範囲が用いられる。
性ないし酸性域にあり、前記水酸化物を加えてアルカリ
性にpH調節される。所要のpHを上回った場合、pI
(降下には塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の酸が用いられる
。pH範囲は3〜14.5、好ましくは8.5〜11.
0の間で用いられる。めっき浴の温度は40〜100℃
、好ましくは70〜85℃の範囲が用いられる。
磁性膜厚は0.005〜5μmの範囲が用いられるが、
高密度記録用には0.2μm以下が好ましい。
高密度記録用には0.2μm以下が好ましい。
磁性膜を形成する基板としては通常金属基板が用いられ
るが、適当な活性化処理により非金属基板にも適用でき
る。
るが、適当な活性化処理により非金属基板にも適用でき
る。
(作用)
無電解めっき浴において錯化剤の果たす役割は重要であ
る。錯化剤の錯化力が弱すぎるとめっき浴は自己分解し
易く、浴寿命を長く保つことができない。また、錯化剤
の錯化力が強ずぎると金属イオンの還元析出が困難とな
り、めっき反応を進行させることができなくなる。本発
明の目的とする無電解めっき浴を得るためには、適度の
錯化力の錯化剤を用いて所要の磁気特性が得られる必要
がある。そこで発明者等は広範囲に各種錯化剤の検討を
行なった結果、本発明において用いているマロン酸基、
酒石酸基およびピロリン酸基の組み合わせにより適度な
錯化力が得られ、高保磁力の磁性膜を再現性良く作製し
得ることが見いだされた。錯化剤と磁気特性の関係は現
在のところ理論的に明らかになっていないが、本発明に
おいて得られる効果は次のことによると考えられる。先
ずめっき洛中にマロン酸基を含むと浴の安定性が向上す
ることが見いだされた。めっき洛中に酒石酸基ないしピ
ロリン酸基を含むことにより高保磁力の磁性膜が得られ
やすいことが見いだされた。そこで、めっき洛中にマロ
ン酸基およびピロリン酸基を加えたところ、これらの効
果に加えて磁気特性の再現性も向」ニするという予期で
きない相乗効果もあることが見いだされた。これは結果
的にマロン酸基、酒石酸基およびピロリン酸基の組み合
わせが亜鉛イオンの錯形成に適しており、めっき浴の反
応性を保つことに寄与したものと考えられる。本発明は
、このような知見を得たことによりもたらされたもので
ある。
る。錯化剤の錯化力が弱すぎるとめっき浴は自己分解し
易く、浴寿命を長く保つことができない。また、錯化剤
の錯化力が強ずぎると金属イオンの還元析出が困難とな
り、めっき反応を進行させることができなくなる。本発
明の目的とする無電解めっき浴を得るためには、適度の
錯化力の錯化剤を用いて所要の磁気特性が得られる必要
がある。そこで発明者等は広範囲に各種錯化剤の検討を
行なった結果、本発明において用いているマロン酸基、
酒石酸基およびピロリン酸基の組み合わせにより適度な
錯化力が得られ、高保磁力の磁性膜を再現性良く作製し
得ることが見いだされた。錯化剤と磁気特性の関係は現
在のところ理論的に明らかになっていないが、本発明に
おいて得られる効果は次のことによると考えられる。先
ずめっき洛中にマロン酸基を含むと浴の安定性が向上す
ることが見いだされた。めっき洛中に酒石酸基ないしピ
ロリン酸基を含むことにより高保磁力の磁性膜が得られ
やすいことが見いだされた。そこで、めっき洛中にマロ
ン酸基およびピロリン酸基を加えたところ、これらの効
果に加えて磁気特性の再現性も向」ニするという予期で
きない相乗効果もあることが見いだされた。これは結果
的にマロン酸基、酒石酸基およびピロリン酸基の組み合
わせが亜鉛イオンの錯形成に適しており、めっき浴の反
応性を保つことに寄与したものと考えられる。本発明は
、このような知見を得たことによりもたらされたもので
ある。
次に具体的に実施例および比較例により本発明を説明す
る。
る。
(比較例)
アルミ合金基板内径100m m外径2]Orom上に
非磁性N1−P層をめっきし、表面を鏡面研磨した後そ
の上に下記のめっき浴およびめっき条件にて膜厚0.1
0μmのCo−7,n−P合金磁性膜を形成して磁気デ
ィスクを作製した。
非磁性N1−P層をめっきし、表面を鏡面研磨した後そ
の上に下記のめっき浴およびめっき条件にて膜厚0.1
0μmのCo−7,n−P合金磁性膜を形成して磁気デ
ィスクを作製した。
アルミ合金基板」二に非磁性N1−P層をめっきし、表
面を鏡面研磨した後その上に下記のめつき浴およびめっ
き条件にて膜厚0.1μmのCo−Zn−P合金磁性膜
を形成した。
面を鏡面研磨した後その上に下記のめつき浴およびめっ
き条件にて膜厚0.1μmのCo−Zn−P合金磁性膜
を形成した。
めっき浴(1)
めっき浴組成
硫酸コバルl−0,03moQ/Q
硫酸亜鉛 0.004 m o I
J / Q次亜リン酸ナトリウム 0.05
mofL/uクエン酸ナトリウム 0〜0.5
mofl/u′Fa酸アンモニウム 0.25
mo見/l!めっき条件 浴温 80℃ めっき浴のpH9’、O(室温にてNI+4011でI
IH調節)めっき液の容量 100Q こうして得られた磁性膜のHeがめつき洛中のクエン酸
ナトリウムの濃度によって変化する様子を第7図に示す
。Hcはクエン酸ナトリウム濃度とともに増加し0.1
2tTlou/uで最大値をとったのち減少するが、0
.1.2moui近辺で急激に変化している。
J / Q次亜リン酸ナトリウム 0.05
mofL/uクエン酸ナトリウム 0〜0.5
mofl/u′Fa酸アンモニウム 0.25
mo見/l!めっき条件 浴温 80℃ めっき浴のpH9’、O(室温にてNI+4011でI
IH調節)めっき液の容量 100Q こうして得られた磁性膜のHeがめつき洛中のクエン酸
ナトリウムの濃度によって変化する様子を第7図に示す
。Hcはクエン酸ナトリウム濃度とともに増加し0.1
2tTlou/uで最大値をとったのち減少するが、0
.1.2moui近辺で急激に変化している。
クエン酸浴では所要のHe値を得るため、めっき洛中の
クエン酸ナトリウム濃度を非常に狭い範囲で制御しなけ
ればならない。事実)、HcO値を自由に制御すること
は困難であり、必要な磁気特性を再現性良く得ることは
できない。
クエン酸ナトリウム濃度を非常に狭い範囲で制御しなけ
ればならない。事実)、HcO値を自由に制御すること
は困難であり、必要な磁気特性を再現性良く得ることは
できない。
つぎに再現性試験によりこのことを確認した。
第8図に本比較例でクエン酸ナトリウム0.16moΩ
/見の浴より得られる磁性膜のIlcがめつき枚数とと
もに変化していく様子を示す。磁気ディスクは1枚づつ
作製し磁気特性の測定を行なったが、20枚ごとのHc
の値をここに示している。めっき開始時のHcは850
0eであるが、めっき枚数の増加とともに大きく変動し
、300枚めっきが終了した時点で初期のHe値の11
0%の範囲におさまったのは65枚に過ぎなかった。本
比較例のようにクエン酸を錯化剤としたCo−Zn−P
浴ではの高保磁力の磁性膜を再現性良く得ることが困難
であった。
/見の浴より得られる磁性膜のIlcがめつき枚数とと
もに変化していく様子を示す。磁気ディスクは1枚づつ
作製し磁気特性の測定を行なったが、20枚ごとのHc
の値をここに示している。めっき開始時のHcは850
0eであるが、めっき枚数の増加とともに大きく変動し
、300枚めっきが終了した時点で初期のHe値の11
0%の範囲におさまったのは65枚に過ぎなかった。本
比較例のようにクエン酸を錯化剤としたCo−Zn−P
浴ではの高保磁力の磁性膜を再現性良く得ることが困難
であった。
(実施例1)
比較例と同様の手順で磁性膜のめっきを行なったが、本
実施例では下記のめっき浴およびめっきン・ 一1Vσ− 条件を用いた。
実施例では下記のめっき浴およびめっきン・ 一1Vσ− 条件を用いた。
めっき浴(2)
めっき浴
硫酸コバルI〜 ロ05 m o 、
Q 7→硫酸亜鉛 0.07 m
all、/f1次亜リン酸ナトリウム 0.20
moQ/Qマロン酸ナトリウム 0〜2.1.
mo1!/Q酒石酸ナトリウム 0.50
mo楚/Qピロリン酸ナトリウム 0.30
moQ/Q硫酸アンモニウム 0.25
moQ/Qめっき条件 浴温 75℃ めっき浴のpH9,2(室温にてNH4OHでpH調節
)めっき液の容量 100見 こうして得られた磁性膜のHcがめつき洛中のマロン酸
すI・リウムの濃度によって変化する様子を第1図に示
す。Hcはマロン酸ナトリウム濃度とともに増加し0.
1.8molE!で最大値をとったのち減少するが、比
較例の場合に比べて変化の度合いははるかに緩やかであ
る。従って、必要な磁気特性の磁性膜を再現性良く作製
することが可能であった。つぎに再現性試験によりこの
ことを確認した。第2図に本実施例でマロン酸すI−リ
ウム]、1.m o Q/l!の浴より得られる磁性膜
のlieがめつき枚数とともに変化していく様子を比較
例と同様にして調べた結果を示す。めっき開始時のHc
は1.3700eであるが、めっき枚数の増加とともに
しだいに減少し340枚めっきが終了した時点でのll
cは]−2400eとなり、更にめっき枚数が増加する
とこれらの値はより減少した。本実施例においてもめっ
き枚数の増加とともにHcが変化するが、変動の度合い
は比較例に比べてはるかに少なかった。
Q 7→硫酸亜鉛 0.07 m
all、/f1次亜リン酸ナトリウム 0.20
moQ/Qマロン酸ナトリウム 0〜2.1.
mo1!/Q酒石酸ナトリウム 0.50
mo楚/Qピロリン酸ナトリウム 0.30
moQ/Q硫酸アンモニウム 0.25
moQ/Qめっき条件 浴温 75℃ めっき浴のpH9,2(室温にてNH4OHでpH調節
)めっき液の容量 100見 こうして得られた磁性膜のHcがめつき洛中のマロン酸
すI・リウムの濃度によって変化する様子を第1図に示
す。Hcはマロン酸ナトリウム濃度とともに増加し0.
1.8molE!で最大値をとったのち減少するが、比
較例の場合に比べて変化の度合いははるかに緩やかであ
る。従って、必要な磁気特性の磁性膜を再現性良く作製
することが可能であった。つぎに再現性試験によりこの
ことを確認した。第2図に本実施例でマロン酸すI−リ
ウム]、1.m o Q/l!の浴より得られる磁性膜
のlieがめつき枚数とともに変化していく様子を比較
例と同様にして調べた結果を示す。めっき開始時のHc
は1.3700eであるが、めっき枚数の増加とともに
しだいに減少し340枚めっきが終了した時点でのll
cは]−2400eとなり、更にめっき枚数が増加する
とこれらの値はより減少した。本実施例においてもめっ
き枚数の増加とともにHcが変化するが、変動の度合い
は比較例に比べてはるかに少なかった。
(実施例2)
比較例と同様の手順で磁性膜のめっきを行なったが、本
実施例では下記のめっき浴およびめっき条件を用いた。
実施例では下記のめっき浴およびめっき条件を用いた。
めっき浴(3)
めっき浴
硫酸コバルト 0.10 m o E
! / 1!硫酸亜鈴 0.04
moQt→次亜リン酸す)−リウム 0.30
mol」マロン酸ナトリウム 1 、 [1m
o身/■酒石酸ナトリウム 0〜1.3 m
oQ/uピロリン酸ナトリウム 0.05 m
oQ/Q硫酸アンモニウム 0.40 m
ail/flめっき条件 浴温 85℃ めっき浴のpH9,5(室温にてN1(4叶でpH調節
)めっき液の容量 100楚 こうして得られた磁性膜のllcがめつき洛中の酒石酸
ナトリウムの濃度によって変化する様子を第3図に示す
。llcは酒石酸ナトリウム濃度とともに増加し0.]
、OmoU/I!で最大値をとったのち減少するが、比
較例の場合に比べて変化の度合いははるかに緩やかであ
る。従って、実施例1と同様必要な磁気特性の磁性膜を
再現性良く作製することが可能であった。
! / 1!硫酸亜鈴 0.04
moQt→次亜リン酸す)−リウム 0.30
mol」マロン酸ナトリウム 1 、 [1m
o身/■酒石酸ナトリウム 0〜1.3 m
oQ/uピロリン酸ナトリウム 0.05 m
oQ/Q硫酸アンモニウム 0.40 m
ail/flめっき条件 浴温 85℃ めっき浴のpH9,5(室温にてN1(4叶でpH調節
)めっき液の容量 100楚 こうして得られた磁性膜のllcがめつき洛中の酒石酸
ナトリウムの濃度によって変化する様子を第3図に示す
。llcは酒石酸ナトリウム濃度とともに増加し0.]
、OmoU/I!で最大値をとったのち減少するが、比
較例の場合に比べて変化の度合いははるかに緩やかであ
る。従って、実施例1と同様必要な磁気特性の磁性膜を
再現性良く作製することが可能であった。
つぎに再現性試験によりこのことを確認した。
第4図に本実施例で酒石酸ナトリウム0.3mofA1
の浴より得られる磁性膜のHcがめつき枚数ととも−1
,7− に変化していく様子を比較例と同様にして調べた結果を
示ず。めっき開始時のIlcは9200eであるが、め
っき枚数の増加とともにしだいに減少し320枚めっき
が終了した時点でのticは8300eとなり、更にめ
っき枚数が増加するとこれらの値はより減少した。本実
施例においてもめっき枚数の増加とともにHcが変化す
るが、変動の度合いは比較例に比べてはるかに少なかっ
た。
の浴より得られる磁性膜のHcがめつき枚数ととも−1
,7− に変化していく様子を比較例と同様にして調べた結果を
示ず。めっき開始時のIlcは9200eであるが、め
っき枚数の増加とともにしだいに減少し320枚めっき
が終了した時点でのticは8300eとなり、更にめ
っき枚数が増加するとこれらの値はより減少した。本実
施例においてもめっき枚数の増加とともにHcが変化す
るが、変動の度合いは比較例に比べてはるかに少なかっ
た。
(実施例3)
比較例と同様の手順で磁性膜のめっきを行なったが、本
実施例では下記のめっき浴およびめっき条件を用いた。
実施例では下記のめっき浴およびめっき条件を用いた。
めっき浴(4)
めっき浴
硫酸コバルト 0.04 mol!/
+!硫酸亜鉛 0.03 moQ
/見次亜リン酸ナトリウム 0.25 mol
l/Aマロン酸ナトリウム 0.70 mo
Q/u酒石酸ナトリウム 0.60 mo
Q/Qピロリン酸ナトリウム 0〜0.8 mal
l、/fl硫酸アンモニウム 0.50
mo見/息めっき条件 浴温 80℃ めっき浴ノpH9,1(室温にてNH40)1でp)I
調節)めっき液の容量 100見 こうして得られた磁性膜のllcがめつき洛中のピロリ
ン酸ナトリウムの濃度によって変化する様子を第5図に
示す。Heはビロリン酸ナトリウム濃度とともに増加し
0.lbr+ o fL/11で最大値13700eと
なるが、比較例の場合に比べて変化の度合いははるかに
緩やかである。従って、実施例1と同様必要な磁気特性
の磁性膜を再現性良く作製することが可能であった。
+!硫酸亜鉛 0.03 moQ
/見次亜リン酸ナトリウム 0.25 mol
l/Aマロン酸ナトリウム 0.70 mo
Q/u酒石酸ナトリウム 0.60 mo
Q/Qピロリン酸ナトリウム 0〜0.8 mal
l、/fl硫酸アンモニウム 0.50
mo見/息めっき条件 浴温 80℃ めっき浴ノpH9,1(室温にてNH40)1でp)I
調節)めっき液の容量 100見 こうして得られた磁性膜のllcがめつき洛中のピロリ
ン酸ナトリウムの濃度によって変化する様子を第5図に
示す。Heはビロリン酸ナトリウム濃度とともに増加し
0.lbr+ o fL/11で最大値13700eと
なるが、比較例の場合に比べて変化の度合いははるかに
緩やかである。従って、実施例1と同様必要な磁気特性
の磁性膜を再現性良く作製することが可能であった。
つぎに再現性試験によりこのことを確認した。
第6図に本実施例でピロリン酸ナトリウム0.2mo
Q/Qの浴より得られる磁性膜のHeがめつき枚数とと
もに変化していく様子を比較例と同様にして調べた結果
を示す。めっき開始時のHeは8000eであるが、め
っき枚数の増加とともにしだいに減少し280枚めっき
が終了した時点でのHcは7200eとなり、更にめっ
き枚数が増加するとこれらの値はより減少した。本実施
例においてもめっき枚数の増加とともにllcが変化す
るが、変動の度合いは比較例に比べてはるかに少なかっ
た。
Q/Qの浴より得られる磁性膜のHeがめつき枚数とと
もに変化していく様子を比較例と同様にして調べた結果
を示す。めっき開始時のHeは8000eであるが、め
っき枚数の増加とともにしだいに減少し280枚めっき
が終了した時点でのHcは7200eとなり、更にめっ
き枚数が増加するとこれらの値はより減少した。本実施
例においてもめっき枚数の増加とともにllcが変化す
るが、変動の度合いは比較例に比べてはるかに少なかっ
た。
(発明の効果)
以上、比較例および実施例で示されたように、本発明に
よれば、金属イオンとして少なくともコバルトイオンお
よび亜鉛イオンを含み、添加剤として少なくともこれら
金属イオンの還元剤を含む水溶液に前記金属イオンの錯
化剤として少なくともマロン酸基、酒石酸基およびピロ
リン酸基を含むことにより、高保磁力の磁性膜を再現性
良く作製し得る無電解めっき浴が得られる。
よれば、金属イオンとして少なくともコバルトイオンお
よび亜鉛イオンを含み、添加剤として少なくともこれら
金属イオンの還元剤を含む水溶液に前記金属イオンの錯
化剤として少なくともマロン酸基、酒石酸基およびピロ
リン酸基を含むことにより、高保磁力の磁性膜を再現性
良く作製し得る無電解めっき浴が得られる。
第1図、第3図および第5図は、それぞれ実施例1.2
および3において、本発明の無電解めっき浴より得られ
る磁性膜のHcがそれぞれマロン酸す1〜リウム、酒石
酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムの濃度とともに変
化していく様子を示す図である。第2図、第4図および
第6図は、それぞれ実施例1.2および3において、本
発明の無電解めっき浴より得られる磁性膜のHeがめつ
き枚数とともに変化していく様子を示す図である。第7
図および第8図は、それぞれ比較例において用いた無電
解めっき浴より得られる磁性膜の同様の関第 1
図 0 1.0 2.0 マロン酸ナトリウム (mol/ l )めっき枚数
(枚) 第 3 図 0 1.0 2.0 酒石酸ナトリウム (mol/I) 第 4 図 めっき枚数 (枚) 第 5 図 0 1.0 2.0 ピロリン酸ナトリウム (mol/ l )第 6
図 めっき枚数 (枚) 第 7 図 0 1.0 2.0
および3において、本発明の無電解めっき浴より得られ
る磁性膜のHcがそれぞれマロン酸す1〜リウム、酒石
酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムの濃度とともに変
化していく様子を示す図である。第2図、第4図および
第6図は、それぞれ実施例1.2および3において、本
発明の無電解めっき浴より得られる磁性膜のHeがめつ
き枚数とともに変化していく様子を示す図である。第7
図および第8図は、それぞれ比較例において用いた無電
解めっき浴より得られる磁性膜の同様の関第 1
図 0 1.0 2.0 マロン酸ナトリウム (mol/ l )めっき枚数
(枚) 第 3 図 0 1.0 2.0 酒石酸ナトリウム (mol/I) 第 4 図 めっき枚数 (枚) 第 5 図 0 1.0 2.0 ピロリン酸ナトリウム (mol/ l )第 6
図 めっき枚数 (枚) 第 7 図 0 1.0 2.0
Claims (1)
- 金属イオンとして少なくともコバルトイオンおよび亜鉛
イオンを含み、添加剤として少なくともこれら金属イオ
ンの還元剤を含む水溶液に前記金属イオンの錯化剤とし
て少なくともマロン酸基、酒石酸基およびピロリン酸基
を含むことを特徴とする無電解めっき浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22540886A JPS6379978A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 無電解めつき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22540886A JPS6379978A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 無電解めつき浴 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6379978A true JPS6379978A (ja) | 1988-04-09 |
Family
ID=16828899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22540886A Pending JPS6379978A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 無電解めつき浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6379978A (ja) |
-
1986
- 1986-09-22 JP JP22540886A patent/JPS6379978A/ja active Pending
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