JPS6383036A - プロピレングリコールモノｔ―ブチルエーテルの製法 - Google Patents
プロピレングリコールモノｔ―ブチルエーテルの製法Info
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高純度のプロピレングリコールモノｔ−ブトキ
シエーテル即ち１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを
生成採取する方法に関する。
シエーテル即ち１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを
生成採取する方法に関する。
オレフィンとグリコールとの反応による非対称エーテル
を含むエーテルの製造は当業者に周知である。θ「望の
グリコールエーテル生成物、望まない副生物及び未反応
の反応物例えばグリコールを含む得られる反応混合物は
蒸貿次にもし用いられるならば触媒又は縮合剤の除去に
よシ従来の方法で通常分離される。１〜ｔ−ブトキシ−
２−プロパノールの！！造の場合インブチレンは適切な
反応温度及び圧力で固体樹脂エステル化触媒の存在下過
剰量のプロピレングリコールと反応して所望の１〜ｔ−
ブトキシ−２−プロパノール（ＰＴＢ−１）、剃生２−
ｔ−ブトキシ−１〜グロパノール（ＰＴＢ−２） 、未
反応イソブチレン及びプロピレングリコール及び少食の
第三級ブチルアルコール及び水よυなる粗反応生成物を
製造する。生成されたグリコールエーテル生成物のヒド
ロキシル基はさらにインブチレンと反応して望ましくな
い副生成物であるジエーテルである１、２−ジ（１〜ブ
トキシ）プロパン（ＤＰＴＢ）を形成する。反応混合物
の蒸気液体平衡データは１７８ｍの圧力で相対的揮発度
の下記の比を示す。
を含むエーテルの製造は当業者に周知である。θ「望の
グリコールエーテル生成物、望まない副生物及び未反応
の反応物例えばグリコールを含む得られる反応混合物は
蒸貿次にもし用いられるならば触媒又は縮合剤の除去に
よシ従来の方法で通常分離される。１〜ｔ−ブトキシ−
２−プロパノールの！！造の場合インブチレンは適切な
反応温度及び圧力で固体樹脂エステル化触媒の存在下過
剰量のプロピレングリコールと反応して所望の１〜ｔ−
ブトキシ−２−プロパノール（ＰＴＢ−１）、剃生２−
ｔ−ブトキシ−１〜グロパノール（ＰＴＢ−２） 、未
反応イソブチレン及びプロピレングリコール及び少食の
第三級ブチルアルコール及び水よυなる粗反応生成物を
製造する。生成されたグリコールエーテル生成物のヒド
ロキシル基はさらにインブチレンと反応して望ましくな
い副生成物であるジエーテルである１、２−ジ（１〜ブ
トキシ）プロパン（ＤＰＴＢ）を形成する。反応混合物
の蒸気液体平衡データは１７８ｍの圧力で相対的揮発度
の下記の比を示す。
ＰＴＢ−１／ＰＴＢ−２＝１．３８
ＰＴＢ−１７ＤＰＴＢ＝１．５４
ＰＴＢ−２／ＤＰＴＢ＝１．１２
しかし実際のバッチ蒸留データでは１，２−ジ（ｔ−プ
トキ７）プロパンが相対的揮発度の比により示されたの
より級いことが分った。
トキ７）プロパンが相対的揮発度の比により示されたの
より級いことが分った。
従って工業上の応用例えばコーティング、クリナー、電
気化学品及びインキに所望のプロピレングリコールモノ
第三級ブチルエーテルを工業的に使用できるに址るはい
１，２−ジ（ｔ−プトキ７）プロパン言ｔ’に示す１〜
ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを粗エーテル化反応生
成物から採取するのは峻しいことが分っている。
気化学品及びインキに所望のプロピレングリコールモノ
第三級ブチルエーテルを工業的に使用できるに址るはい
１，２−ジ（ｔ−プトキ７）プロパン言ｔ’に示す１〜
ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを粗エーテル化反応生
成物から採取するのは峻しいことが分っている。
それ故インブチレンとプロピレングリコールとの反応か
ら得られる反応生成物から最低量の２−ｔ−ブト牟シー
１〜プロパツール及び特に最低量の望ましくない１，２
−ジ（１〜ブトキシ）プロパンを含む一方実質的な損失
なしに高純度の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを
採取する方法を提供するのが本発明の目的である。他の
目的は下記の記述から当業者にと９明らかになるだろう
。
ら得られる反応生成物から最低量の２−ｔ−ブト牟シー
１〜プロパツール及び特に最低量の望ましくない１，２
−ジ（１〜ブトキシ）プロパンを含む一方実質的な損失
なしに高純度の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを
採取する方法を提供するのが本発明の目的である。他の
目的は下記の記述から当業者にと９明らかになるだろう
。
驚くべきことに所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノ
ールの採取に含まれる分留段階の配列が得られる所望の
モノエーテルの最終の純度特に１゜２−ジ（ｔ−ブトキ
シ）プロパンの含量に関して主な作用を及ぼすことが見
い出された。未反応プロピレングリコールの除去が蒸留
段階（１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールが望ましく
ないジ（ｔ−ブトキシ）プロパン及び誦沸点物貿から外
心される）の前に行われるとき実質的に改良された結果
が得られることが本発明によシ見い出された。その上蒸
留段階の配列に分離性能が依存することは余シＶＣａ著
なので所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールの損
失が最低で満足しうる純度を達成するために好ましい配
列を用いることが極めて主な経済上の重要さとなる。こ
の結果は極めて異常なことであシそして粗エーテル化反
応生成物に含まれる成分の代表的な蒸気液体平衡データ
に一致しない。
ールの採取に含まれる分留段階の配列が得られる所望の
モノエーテルの最終の純度特に１゜２−ジ（ｔ−ブトキ
シ）プロパンの含量に関して主な作用を及ぼすことが見
い出された。未反応プロピレングリコールの除去が蒸留
段階（１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールが望ましく
ないジ（ｔ−ブトキシ）プロパン及び誦沸点物貿から外
心される）の前に行われるとき実質的に改良された結果
が得られることが本発明によシ見い出された。その上蒸
留段階の配列に分離性能が依存することは余シＶＣａ著
なので所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールの損
失が最低で満足しうる純度を達成するために好ましい配
列を用いることが極めて主な経済上の重要さとなる。こ
の結果は極めて異常なことであシそして粗エーテル化反
応生成物に含まれる成分の代表的な蒸気液体平衡データ
に一致しない。
本発明によれば固体樹脂エーテル化触媒の存在下イソブ
チレン及びプロピレングリコールによシ得られる反応生
成物から実質的な損失なしに高純度の１〜ｔ−ブトキシ
−２−プロパノールを回収する方法が提供され粗反応生
成物はプロビレングリコールモノーｔ−ブト争ジエーテ
ル、望−ｔＬ＜ない１，２−ジ（１〜ブトキシ）プロパ
ン、未反応プロピレングリコール及びイソブチレン及び
少量の第三級ブチルアルコール及び水及び他の高佛点物
質を含む。方法は（ｉ）第一の分留塔へ該粗エーテル化
反応生成物を導入しそしてプロピレングリコールのそれ
よυ低い沸点を有する全反応生成物よシなる第一の蒸留
留出物をそれより引き出し、それによシ蒸留物（塔底外
）としてプロピレングリコールのそれよシも高り沸点を
有する成分及び未反応プロピレングリコールを残し、そ
して（１１）第一の留出物を第二の分留塔へ導入しそし
て所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールより主と
してなる第二の蒸留留出物の塔頂分又は副流をそれから
引き出し、それによシ蒸留物（塔底外）として２−ブト
キシ−１〜プロパツール及び望ましくない１． ２−ジ
（ｔ−ブト中７）プロパンを含む１〜ｔ−ブト午シー２
−プロパノールのそれよυ高い沸点を有する成分を残す
、一連の段階を含む。
チレン及びプロピレングリコールによシ得られる反応生
成物から実質的な損失なしに高純度の１〜ｔ−ブトキシ
−２−プロパノールを回収する方法が提供され粗反応生
成物はプロビレングリコールモノーｔ−ブト争ジエーテ
ル、望−ｔＬ＜ない１，２−ジ（１〜ブトキシ）プロパ
ン、未反応プロピレングリコール及びイソブチレン及び
少量の第三級ブチルアルコール及び水及び他の高佛点物
質を含む。方法は（ｉ）第一の分留塔へ該粗エーテル化
反応生成物を導入しそしてプロピレングリコールのそれ
よυ低い沸点を有する全反応生成物よシなる第一の蒸留
留出物をそれより引き出し、それによシ蒸留物（塔底外
）としてプロピレングリコールのそれよシも高り沸点を
有する成分及び未反応プロピレングリコールを残し、そ
して（１１）第一の留出物を第二の分留塔へ導入しそし
て所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールより主と
してなる第二の蒸留留出物の塔頂分又は副流をそれから
引き出し、それによシ蒸留物（塔底外）として２−ブト
キシ−１〜プロパツール及び望ましくない１． ２−ジ
（ｔ−ブト中７）プロパンを含む１〜ｔ−ブト午シー２
−プロパノールのそれよυ高い沸点を有する成分を残す
、一連の段階を含む。
第二の蒸留の塔頂分は一般に少くとも約９８％の量で所
望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを含み残）の
成分は少量の２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツール及び
望まれていない１．２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパンよ
シなる。軽質の沸点成分例えはイソブチレン、第三級ブ
チルアルコール及び水は第一の分留塔の頂部からパージ
されるか又は任意Ｖｃ１〜ｔ−ブトキシー２−プロパノ
ールのそれよシ低い蒸留温度で第二の分留塔でパージと
して塔頂から除去されよう。エーテル化反応器への各分
留塔の塔底外の再循環は、２−ｔ−ブトキシ−１〜プロ
パツール及び１．２−ジ（１〜ブトキシ）プロパツール
の形成を抑制して動的平衡が達成されるとこれらの成分
の真の生成が実質的にないことが分った。
望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールを含み残）の
成分は少量の２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツール及び
望まれていない１．２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパンよ
シなる。軽質の沸点成分例えはイソブチレン、第三級ブ
チルアルコール及び水は第一の分留塔の頂部からパージ
されるか又は任意Ｖｃ１〜ｔ−ブトキシー２−プロパノ
ールのそれよシ低い蒸留温度で第二の分留塔でパージと
して塔頂から除去されよう。エーテル化反応器への各分
留塔の塔底外の再循環は、２−ｔ−ブトキシ−１〜プロ
パツール及び１．２−ジ（１〜ブトキシ）プロパツール
の形成を抑制して動的平衡が達成されるとこれらの成分
の真の生成が実質的にないことが分った。
１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールの製造は固体酸樹
脂触媒の存在下インブチレンとプロピレングリコールと
の反応により行われよう。一般に過剰のプロピレングリ
コールが用いられ従ってプロピレングリコール対インブ
チレンのモル比は約、Ｘご １．０：１．℃〜５．０：１．０に及びが約１．５：１
．℃〜２．５：１．０の範囲が好ましい。
脂触媒の存在下インブチレンとプロピレングリコールと
の反応により行われよう。一般に過剰のプロピレングリ
コールが用いられ従ってプロピレングリコール対インブ
チレンのモル比は約、Ｘご １．０：１．℃〜５．０：１．０に及びが約１．５：１
．℃〜２．５：１．０の範囲が好ましい。
エーテル化反応を行うのに用いられる反応条件はこの反
応に従来用いられているものである。従って温度は約２
５℃〜２００℃好ましくは約３０℃〜１００℃の間ｌこ
及びそして圧力はゲージ王約１、０５〜７０ Ｋ４／
ｃｍ” （約１５〜１０００ ｐ ｓ ｉ ）好ましく
はゲージ王約０．７〜１４ Ｋｆ／ ｃｙｔ” （約１
℃〜２００ｐａｔ）の間に及ぶ。
応に従来用いられているものである。従って温度は約２
５℃〜２００℃好ましくは約３０℃〜１００℃の間ｌこ
及びそして圧力はゲージ王約１、０５〜７０ Ｋ４／
ｃｍ” （約１５〜１０００ ｐ ｓ ｉ ）好ましく
はゲージ王約０．７〜１４ Ｋｆ／ ｃｙｔ” （約１
℃〜２００ｐａｔ）の間に及ぶ。
エーテル化反応は固体樹脂エーテル化触媒の存在下で行
われる。これらの触媒は少くとも１個のスルホン酸基を
含む比較的高分子量の含炭素物質のものである。この反
応に用いられうる代表的な固体触媒はスルホン化石炭例
えば「ゼオ−カーブ（Ｚｏｏ−Ｋｅｒｂ） ＨＪ及び「
ナルシェ（Ｎａｌｅｉｅ）Ｘ Ｊ及びフェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂と硫酸との反応生成物例えば「アンバ
ーライ）ＩＲ−１００Ｊ及び「ナルサイト（Ｎａｌｃｉ
ｔｅ）ＭＸ Ｊを含むスルホン化樹脂型触媒を含む。エ
ーテル化反応で触媒として用いられうる好ましい樹脂は
スルホン化ポリスチレン樹脂よシ主としてなる陽イオン
交換樹脂例えば官能性核スルホン酸基をその中に再する
約２５９６以内の共重合したジビニルベンゼンを有すル
シヒニルベンセン橋カケ結合ポリステレンマ） ＩＪソ
ックスある。これらの樹脂は糎々の商品名例えば「ナル
サイ）ＨＣＲＪ及び「アンバーリスト（Ａｍｂｅｒｌｙ
ａｔ）１５ Ｊの下で工業的に製造販売されている。こ
れらの樹脂の工業上の態様は一般に約１℃〜５０メツシ
ユ（米国ふるい規格）の粒径を示しそしてそれ自体で又
は混入物の約５０重量％以内の溶媒含量を有して用いら
れよう。
われる。これらの触媒は少くとも１個のスルホン酸基を
含む比較的高分子量の含炭素物質のものである。この反
応に用いられうる代表的な固体触媒はスルホン化石炭例
えば「ゼオ−カーブ（Ｚｏｏ−Ｋｅｒｂ） ＨＪ及び「
ナルシェ（Ｎａｌｅｉｅ）Ｘ Ｊ及びフェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂と硫酸との反応生成物例えば「アンバ
ーライ）ＩＲ−１００Ｊ及び「ナルサイト（Ｎａｌｃｉ
ｔｅ）ＭＸ Ｊを含むスルホン化樹脂型触媒を含む。エ
ーテル化反応で触媒として用いられうる好ましい樹脂は
スルホン化ポリスチレン樹脂よシ主としてなる陽イオン
交換樹脂例えば官能性核スルホン酸基をその中に再する
約２５９６以内の共重合したジビニルベンゼンを有すル
シヒニルベンセン橋カケ結合ポリステレンマ） ＩＪソ
ックスある。これらの樹脂は糎々の商品名例えば「ナル
サイ）ＨＣＲＪ及び「アンバーリスト（Ａｍｂｅｒｌｙ
ａｔ）１５ Ｊの下で工業的に製造販売されている。こ
れらの樹脂の工業上の態様は一般に約１℃〜５０メツシ
ユ（米国ふるい規格）の粒径を示しそしてそれ自体で又
は混入物の約５０重量％以内の溶媒含量を有して用いら
れよう。
流出液の痕跡の酸度が次の蒸留回収段階で所望の１〜ｔ
−ブトキシ−２−プロパノール生成物の分解を生じさせ
るので例えば鉱酸による処理による活性化の次に触媒樹
脂から遊離の酸度を除く必要がある。このような除去は
流出水のｐＨが約５よシ高いｐＨで安定化するまで新し
い脱イオン化水を触媒床に通すことによシ従来の方法で
容易に行われよう。水切り後床に残るすべての水は反応
の最初の段階中で第三級ブチルアルコールへ転換されそ
して蒸留回収工程中で軽質物として除去）るＯ 反応は攪拌スラリーバッチ反応器又は固定床連続流動反
応器の何れかで行われよう。一般に攪拌反応器では触媒
濃度は反応内容物の約０．５〜２０重量％（乾燥物基準
）に及びそして２〜１０％が好ましい範囲でめり、触媒
濃度には厳密性を必要とせずそして所望の触媒作用をも
たらすのに充分なすべての触媒濃度が用いられうろこと
は理解されよう。反応時間は広く変化しそして一般に約
１〜約２０時間好ましくは約１〜約５時間に及ぶ。
−ブトキシ−２−プロパノール生成物の分解を生じさせ
るので例えば鉱酸による処理による活性化の次に触媒樹
脂から遊離の酸度を除く必要がある。このような除去は
流出水のｐＨが約５よシ高いｐＨで安定化するまで新し
い脱イオン化水を触媒床に通すことによシ従来の方法で
容易に行われよう。水切り後床に残るすべての水は反応
の最初の段階中で第三級ブチルアルコールへ転換されそ
して蒸留回収工程中で軽質物として除去）るＯ 反応は攪拌スラリーバッチ反応器又は固定床連続流動反
応器の何れかで行われよう。一般に攪拌反応器では触媒
濃度は反応内容物の約０．５〜２０重量％（乾燥物基準
）に及びそして２〜１０％が好ましい範囲でめり、触媒
濃度には厳密性を必要とせずそして所望の触媒作用をも
たらすのに充分なすべての触媒濃度が用いられうろこと
は理解されよう。反応時間は広く変化しそして一般に約
１〜約２０時間好ましくは約１〜約５時間に及ぶ。
前記の第二の蒸留塔頂分として回収される１〜ｔ−ブト
千シー２−プロパノール生成物は少くとも９８％の純度
普通少くとも約９９．０％の純度のものでアシ、そして
一般に約１チ以下の２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパノー
ル。約０．５％以下の１゜２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロ
パン、約０．１％以下のプロビレングリコールそして約
０．１％以下のイソブチレンを含む。
千シー２−プロパノール生成物は少くとも９８％の純度
普通少くとも約９９．０％の純度のものでアシ、そして
一般に約１チ以下の２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパノー
ル。約０．５％以下の１゜２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロ
パン、約０．１％以下のプロビレングリコールそして約
０．１％以下のイソブチレンを含む。
本発明は本発明の回収工程の一つの態様を示す添付図面
の第１図に関して記述される。
の第１図に関して記述される。
本発明の方法に原料として働く粗１〜ｔ−ブトキシー２
−プロパノール含有生成物は床を通るバッチタンクから
の原料反応物の外部循環を用いつつ固定床中の酸性イオ
ン又換樹脂触媒代表的にはアンバーリスト−１５イオン
交換樹脂によシ触媒化されるイソブチレン及びプロピレ
ングリコールの液相反応により得られよう。イソブチレ
ンは固定床入口の前で循、！ｊｌＲ，に注入される。約
５０″Ｃの温度及びゲージ圧約ａ、ｓＫｒ／国２（約５
０ｐａｌ）の圧力で行われる反応は約１７時間で完了し
所望ならば未反応インブチレンは安全な処分へ放出され
よう。実質的な量のプロビレングリコール一般にその約
１℃〜約７５重量％を含む粗反応生成物は次に貯槽へ圧
入されるか又は実質的に純粋な１〜ｔ−ブトキシ−２−
プロパノール生成物の最終的な回収に関する本発明の方
法へ直接送られよう。
−プロパノール含有生成物は床を通るバッチタンクから
の原料反応物の外部循環を用いつつ固定床中の酸性イオ
ン又換樹脂触媒代表的にはアンバーリスト−１５イオン
交換樹脂によシ触媒化されるイソブチレン及びプロピレ
ングリコールの液相反応により得られよう。イソブチレ
ンは固定床入口の前で循、！ｊｌＲ，に注入される。約
５０″Ｃの温度及びゲージ圧約ａ、ｓＫｒ／国２（約５
０ｐａｌ）の圧力で行われる反応は約１７時間で完了し
所望ならば未反応インブチレンは安全な処分へ放出され
よう。実質的な量のプロビレングリコール一般にその約
１℃〜約７５重量％を含む粗反応生成物は次に貯槽へ圧
入されるか又は実質的に純粋な１〜ｔ−ブトキシ−２−
プロパノール生成物の最終的な回収に関する本発明の方
法へ直接送られよう。
粗反応生成物からの所望の１〜ｔ−ブト午シー２−プロ
パノールの回収はバッチ又は連続法の倒れかで行われる
二段階分署で達成される。従って上述のエーテル化反応
から得られる租トｉ−ブトキシー２−プロパノール反応
生成物は第一の分留塔１１の蒸留帯ヘライン１０を通っ
て導入される。用いられるエーテル化反応条件に応じて
粗反応生成物は一般に下記の特徴の組成へ一致する。
パノールの回収はバッチ又は連続法の倒れかで行われる
二段階分署で達成される。従って上述のエーテル化反応
から得られる租トｉ−ブトキシー２−プロパノール反応
生成物は第一の分留塔１１の蒸留帯ヘライン１０を通っ
て導入される。用いられるエーテル化反応条件に応じて
粗反応生成物は一般に下記の特徴の組成へ一致する。
成 分 重量％１〜ｔ
−ブトキシ−２−プロパノール ４℃〜７０２−ｔ
−ブトキシ−１〜グロパノール ２〜１０プロピ
レングリコール １℃〜７５イソブ
チレン ０．０５〜５．０１．２−ジ
（ｔ−ブトキシ）プロパン １〜１０第三級ブチ
ルアルコール ０．０５〜５．０還流
比で２００ｍ 塔頂圧で２０段の理論段カラム中で連
続的に行われるときプロピレングリコールのない副流即
ち約０．１％よシ少いプロピレングリコールを含む留出
物が例えば得られる条件でおる。
−ブトキシ−２−プロパノール ４℃〜７０２−ｔ
−ブトキシ−１〜グロパノール ２〜１０プロピ
レングリコール １℃〜７５イソブ
チレン ０．０５〜５．０１．２−ジ
（ｔ−ブトキシ）プロパン １〜１０第三級ブチ
ルアルコール ０．０５〜５．０還流
比で２００ｍ 塔頂圧で２０段の理論段カラム中で連
続的に行われるときプロピレングリコールのない副流即
ち約０．１％よシ少いプロピレングリコールを含む留出
物が例えば得られる条件でおる。
従って実質的にすべての高沸点物質（プロピレングリコ
ールを含む）はライン１３を経て第一の液状塔底生成物
中に除去される。分留塔１１は一般に絶対圧約０．０７
〜１．４Ｖ４／閏２（約１〜２０ｐｓｉ）の圧力そして
約６０℃〜約１７５℃好ましくは約７５℃〜約１４０℃
の塔頂温間で操業される。七の頂部帯が約０．５６〜ｏ
、ｓ ４Ｋｆ／ｃＷ１” （絶対圧）（約８〜１２ｐａ
ｉ）の圧力であるように分留塔１１を操業するのが特に
有利である。分留塔１１は一般、に約１℃〜４０段の理
論上の蒸気・液体接触段を含む。
ールを含む）はライン１３を経て第一の液状塔底生成物
中に除去される。分留塔１１は一般に絶対圧約０．０７
〜１．４Ｖ４／閏２（約１〜２０ｐｓｉ）の圧力そして
約６０℃〜約１７５℃好ましくは約７５℃〜約１４０℃
の塔頂温間で操業される。七の頂部帯が約０．５６〜ｏ
、ｓ ４Ｋｆ／ｃＷ１” （絶対圧）（約８〜１２ｐａ
ｉ）の圧力であるように分留塔１１を操業するのが特に
有利である。分留塔１１は一般、に約１℃〜４０段の理
論上の蒸気・液体接触段を含む。
実質的にナベでの未反応プロピレングリコールを含む高
沸点成分より実質的になる分留塔１１からの蒸留物塔底
分は新しいプロピレングリコール原料とともに次の反応
原料を構成するのに用いることができる。
沸点成分より実質的になる分留塔１１からの蒸留物塔底
分は新しいプロピレングリコール原料とともに次の反応
原料を構成するのに用いることができる。
分留塔１１から発生する留出物は例えば分留塔１４によ
り示される如く第二の段階の蒸留へ導入される原料とし
て中間の貯槽へ採取されるか又はこのような蒸留操業へ
直接送ることができる。所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−
プロパノールを含むことに加えて分留塔１１から得られ
る留出物は又約０．５ ％以下のインブチレン、約１０
％以下の２−ｔ−ブト争シー１〜グロパノール、約１０
％以下の１，２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパン及び少量
の第三級ブチルアルコール及び他の＠質不純物を含むだ
ろ５゜所望ならば軽質不純物は第二の分留塔１４へ分留
塔１１からの留出物を送る前にパージされよう。例えば
第二の蒸留カラムの分留塔１４は第一のカラムからの充
分な留出物が貯えられるならば操業されよう。一般に分
留塔１４は絶対圧約０．０７〜約１．０５Ｋｆ／ｃＩｎ
” （約１〜約１５ｐａｉ）の圧力そして約６０℃〜
約１７０℃好ましくは約７５℃〜約１２５℃の塔頂（頂
部）帯温度で有利に操業される。特に好ましい操業は約
２００鱈の塔頂の圧力及び１０／１還流比を含む。約１
℃〜約４０段の理論上の蒸気・液体接触段例えば３０段
の理論段が分留塔１４に含まれる。
り示される如く第二の段階の蒸留へ導入される原料とし
て中間の貯槽へ採取されるか又はこのような蒸留操業へ
直接送ることができる。所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−
プロパノールを含むことに加えて分留塔１１から得られ
る留出物は又約０．５ ％以下のインブチレン、約１０
％以下の２−ｔ−ブト争シー１〜グロパノール、約１０
％以下の１，２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパン及び少量
の第三級ブチルアルコール及び他の＠質不純物を含むだ
ろ５゜所望ならば軽質不純物は第二の分留塔１４へ分留
塔１１からの留出物を送る前にパージされよう。例えば
第二の蒸留カラムの分留塔１４は第一のカラムからの充
分な留出物が貯えられるならば操業されよう。一般に分
留塔１４は絶対圧約０．０７〜約１．０５Ｋｆ／ｃＩｎ
” （約１〜約１５ｐａｉ）の圧力そして約６０℃〜
約１７０℃好ましくは約７５℃〜約１２５℃の塔頂（頂
部）帯温度で有利に操業される。特に好ましい操業は約
２００鱈の塔頂の圧力及び１０／１還流比を含む。約１
℃〜約４０段の理論上の蒸気・液体接触段例えば３０段
の理論段が分留塔１４に含まれる。
又イソブチレン及び他の軽質物質例えば第三級ブチルア
ルコール及び水の除去のための軽質物のパージは分留塔
１４の一部として含まれそして第１図に示されるように
ライン１°７を経て塔通分として除去することができる
。所望の生成物である１ −ｔ−：ｌ；／ト中７−２−
プロパノールはライン１５を経て蒸留塔ＴＪＡ分として
採取される。この第二の分留塔の蒸留塔頂分は少量の２
−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツール及び約０．５％よシ
少い１゜２−ジ（１〜ブトキシ）プロパンとともに少く
とも約９８チ一般に少くとも９９．０ ％純度の所望の
１〜ｔ−ブト＝？シー２−プロパノール生成物を含む。
ルコール及び水の除去のための軽質物のパージは分留塔
１４の一部として含まれそして第１図に示されるように
ライン１°７を経て塔通分として除去することができる
。所望の生成物である１ −ｔ−：ｌ；／ト中７−２−
プロパノールはライン１５を経て蒸留塔ＴＪＡ分として
採取される。この第二の分留塔の蒸留塔頂分は少量の２
−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツール及び約０．５％よシ
少い１゜２−ジ（１〜ブトキシ）プロパンとともに少く
とも約９８チ一般に少くとも９９．０ ％純度の所望の
１〜ｔ−ブト＝？シー２−プロパノール生成物を含む。
高沸点成分即ち１〜ｔ−ブトキシ−２−プロパノールの
沸点より高い沸点の物質はライン１５を経て第二の液状
塔底分として除去されこれらの成分は望ましくない１，
２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパン及びＺ−ｔ−ブトキシ
−１〜プロパツールを含む。分留塔１１及び分留塔１４
の両方からの塔底分は反応エーテル化段階へ再循環され
て望ましくない１，２−ジ（１〜ブトキシ）プロパン及
び２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツールの形成を抑制す
る。
沸点より高い沸点の物質はライン１５を経て第二の液状
塔底分として除去されこれらの成分は望ましくない１，
２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパン及びＺ−ｔ−ブトキシ
−１〜プロパツールを含む。分留塔１１及び分留塔１４
の両方からの塔底分は反応エーテル化段階へ再循環され
て望ましくない１，２−ジ（１〜ブトキシ）プロパン及
び２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツールの形成を抑制す
る。
下記の第１表に示されるように本発明の採取法における
系の蒸気液体平衡比に複雑である。
系の蒸気液体平衡比に複雑である。
組成物Ａ
１０６．７／１７８ ＰＴＢ−１８７，１２８２，９
ＰＴＢ−２５，１２６，６９ ＰＤＴＢ ７．１３ １０．４組成物Ｂ １２７．８／２９５．５ ＰＴＢ−１７３，２５３，
３ＰＴＢ−２３，７７３，９４ ＰＤＴＢ １１．５ ６．６３プロピレング
リコールの存在下１．２−ジ（ｔ−ブトキン）プロパン
は第１表によシ証明されるように最も軽い成分となるが
逆にプロピレングリコールの不存在下では上述の第１表
から証明されるように望ましくない１，２−ジ（ｔ−ブ
トキシ）プロパンは所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロ
パノール生成物よシも重くなシ七して不純な２−を−ブ
トキシ−１〜プロパツールから殆んど分離されない。プ
ロビレングリコール七れ自体はエーテル化反応から生ず
る反応混合物で得られる最も重い成分でおるので１〜ｔ
−ブトキシ−２−プロパノールト１，２−ジ（１〜ブト
キシ）プロパンとの間の揮発性の逆転は頂部（プロピレ
ングリコールなし）及び塔底（プロピレングリコールに
富ム）部分の間に塔中で生ずる。それ数本発明の回収法
は配列の二段階の分留を行うことを要する。
ＰＴＢ−２５，１２６，６９ ＰＤＴＢ ７．１３ １０．４組成物Ｂ １２７．８／２９５．５ ＰＴＢ−１７３，２５３，
３ＰＴＢ−２３，７７３，９４ ＰＤＴＢ １１．５ ６．６３プロピレング
リコールの存在下１．２−ジ（ｔ−ブトキン）プロパン
は第１表によシ証明されるように最も軽い成分となるが
逆にプロピレングリコールの不存在下では上述の第１表
から証明されるように望ましくない１，２−ジ（ｔ−ブ
トキシ）プロパンは所望の１〜ｔ−ブトキシ−２−プロ
パノール生成物よシも重くなシ七して不純な２−を−ブ
トキシ−１〜プロパツールから殆んど分離されない。プ
ロビレングリコール七れ自体はエーテル化反応から生ず
る反応混合物で得られる最も重い成分でおるので１〜ｔ
−ブトキシ−２−プロパノールト１，２−ジ（１〜ブト
キシ）プロパンとの間の揮発性の逆転は頂部（プロピレ
ングリコールなし）及び塔底（プロピレングリコールに
富ム）部分の間に塔中で生ずる。それ数本発明の回収法
は配列の二段階の分留を行うことを要する。
本発明の方法はさらに図面に関する下記の代表例によシ
説明される。
説明される。
実施例１
下記の組成のアンバーリスト１５イオン交換樹脂触媒の
存在下プロピレングリコールのイソブチレンによるエー
テル化により得られる粗１〜ｔ−ブトキンー２−プロパ
ノール生成物（１００重量部）をライン１０から分留塔
１１へ導入された。
存在下プロピレングリコールのイソブチレンによるエー
テル化により得られる粗１〜ｔ−ブトキンー２−プロパ
ノール生成物（１００重量部）をライン１０から分留塔
１１へ導入された。
成 分 重ｉ チ
インブチレン ０，８プロピレング
リコール ４１．５第三級ブチルアルコ
ール １．０水
痕 跡１．２−ジ（ブトキシ）プ
ロパン ３．８２−ｔ−ブトキシ−１〜パロ
パノール ４．３ｌ−ｔ−ブトキク−２−プロパ
ノール ４８．３ライン１２を経て分留塔１１から
採取される塔通分は約８７重量％の所望の１〜ｔ−ブト
キシ−２−プロパノールよシなった。ライン１３から除
去される塔底生成物は約８．４Ｎ量チのプロピレングリ
コールよシなった。分留塔１１は３０個のトレイを有し
そして還流原料比１、塔頂温度１２１Ｃ１絶対圧約０．
７ＫＩｉ／ｃＴｎ”（１０ｐｓ ｉ ）で操業された。
インブチレン ０，８プロピレング
リコール ４１．５第三級ブチルアルコ
ール １．０水
痕 跡１．２−ジ（ブトキシ）プ
ロパン ３．８２−ｔ−ブトキシ−１〜パロ
パノール ４．３ｌ−ｔ−ブトキク−２−プロパ
ノール ４８．３ライン１２を経て分留塔１１から
採取される塔通分は約８７重量％の所望の１〜ｔ−ブト
キシ−２−プロパノールよシなった。ライン１３から除
去される塔底生成物は約８．４Ｎ量チのプロピレングリ
コールよシなった。分留塔１１は３０個のトレイを有し
そして還流原料比１、塔頂温度１２１Ｃ１絶対圧約０．
７ＫＩｉ／ｃＴｎ”（１０ｐｓ ｉ ）で操業された。
分留塔１１から採取された塔頂生成物は分留塔１４へ直
接導入された。分留塔１４からパージされる軽質物は少
量のイソブチレン、第三級ブチルアルコール及び水よシ
なった。ライン１６を経て分留塔１４から採取される中
間生成物は９９．２重ｔｔｌＩの所望の１〜ｔ−ブトキ
シ−２−プロパノール、０．２１１の２−ｔ−ブトキシ
−１〜プロパツール及びＯ，ＸＺｉ−チの１，２−ジー
（ｔ−プトキ７）プロパンよシなった。ライン１５を経
て分留塔１４から除去される塔底生成物は７５．３重量
％の望ましくない１，２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパン
、１８．２重量％の２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツー
ル及び６．２ ｚ量うのプロピレングリコールよシなっ
た。分留塔１４は３０個のトレイを含みそして還流原料
比１、生成物引き出し帯温度約１２０’Ｃそして絶対圧
約ｏ、７ＫＦ／澤”（１０ｐｓｉ）で操業された。
接導入された。分留塔１４からパージされる軽質物は少
量のイソブチレン、第三級ブチルアルコール及び水よシ
なった。ライン１６を経て分留塔１４から採取される中
間生成物は９９．２重ｔｔｌＩの所望の１〜ｔ−ブトキ
シ−２−プロパノール、０．２１１の２−ｔ−ブトキシ
−１〜プロパツール及びＯ，ＸＺｉ−チの１，２−ジー
（ｔ−プトキ７）プロパンよシなった。ライン１５を経
て分留塔１４から除去される塔底生成物は７５．３重量
％の望ましくない１，２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパン
、１８．２重量％の２−ｔ−ブトキシ−１〜プロパツー
ル及び６．２ ｚ量うのプロピレングリコールよシなっ
た。分留塔１４は３０個のトレイを含みそして還流原料
比１、生成物引き出し帯温度約１２０’Ｃそして絶対圧
約ｏ、７ＫＦ／澤”（１０ｐｓｉ）で操業された。
それ放水されたように本発明は分留塔１１へ導入される
粗原料に基いて最低の損失で高純度の１〜ｔ〜ブトキシ
−２−プロパノールを採取する新規な方法を提供する。
粗原料に基いて最低の損失で高純度の１〜ｔ〜ブトキシ
−２−プロパノールを採取する新規な方法を提供する。
第１図は本発明方法の一つの態様を示す。
１０・・・・・・ ライン
１１・・・・・・第一の分留塔
１２・・・・・・ ライン １３・・・・・・
ライン１４・・・・・・第二〇分留塔 １５・・・・・・ ライン １６・・・・・・
ライン１７・・・・・・ ライン 代理人 弁理士 秋 沢 政 光 他１名
ライン１４・・・・・・第二〇分留塔 １５・・・・・・ ライン １６・・・・・・
ライン１７・・・・・・ ライン 代理人 弁理士 秋 沢 政 光 他１名
Claims (12)
- （１）イソブチレンによるプロピレングリコールのエー
テル化により得られしかも実質的な量の未反応プロピレ
ングリコールを含む粗反応生成物から高純度の１−ｔ−
ブトキシ−２−プロパノールを採取する方法において、 （ａ）粗反応生成物混合物を第一の分留塔に導入し、プ
ロピレングリコールより低い沸点を有する成分及び１−
ｔ−ブトキシ−２−プロパノールより主としてなる第一
の蒸留塔頂分をそれから引き出し、そして１−ｔ−ブト
キシ−２−プロパノールより高い沸点を有する物質及び
プロピレングリコールを含む第一の蒸留塔底分をそれか
ら引き出し、次に （ｂ）前記の第一の蒸留塔頂分を第二の分留塔に導入し
、高沸点物質が実質的にない１−ｔ−ブトキシ−２−プ
ロパノールを含む第二の蒸留塔頂分をそれから引き出し
、そして高沸点物質を含む第二の蒸留塔底分をそれから
引き出す、 ことを特徴とする方法。 - （２）１−ｔ−ブトキシ−２−プロパノールよりも低い
沸点を有する物質が前記の第二の分留塔におけるその採
取前にパージされる特許請求の範囲第（２）項記載の方
法。 - （３）前記の第一の分留塔が約５０℃〜約１７５℃の上
部帯温度で操業される特許請求の範囲第（２）項記載の
方法。 - （４）前記の第二の分留塔が約６０℃〜約１７０℃の上
部帯温度で操業される特許請求の範囲第（３）項記載の
方法。 - （５）前記の第二の分留塔が約７５℃〜約１２５℃の上
部帯温度で操業される特許請求の範囲第（４）項記載の
方法。 - （６）前記の第一の分留塔が絶対圧約０．０７〜約１．
０５Ｋｇ／ｃｍ＾２（約１〜約１５ｐｓｉ）の圧力で操
業される特許請求の範囲第（２）項記載の方法。 - （７）前記の第二の分留塔が絶対圧約０．５６〜約０．
８４Ｋｇ／ｃｍ＾２の圧力で操業される特許請求の範囲
第（５）項記載の方法。 - （８）１−ｔ−ブトキシ−２−プロパノールより低い沸
点を有する物質が第一の分留塔からパージされる特許請
求の範囲第（２）項記載の方法。 - （９）得られる１−ｔ−ブトキシ−２−プロパノール生
成物が少くとも９８％の純度のものでありそして１，２
−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパンを約０．５重量％より少
く含む特許請求の範囲第（２）項記載の方法。 - （１０）前記のエーテル化及び蒸留採取法が連続的なや
り方で行われる特許請求の範囲第２項記載の方法。 - （１１）前記の第一及び第二の蒸留塔底分がエーテル化
反応へ再循環される特許請求の範囲第（１０）項記載の
方法。 - （１２）得られる１−ｔ−ブトキシ−２−プロパノール
生成物が少くとも９９．５％の純度のものでありそして
１，２−ジ（ｔ−ブトキシ）プロパンを約０．１重量％
より少く含む特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。
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