JPS638566B2 - - Google Patents
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- JPS638566B2 JPS638566B2 JP55104623A JP10462380A JPS638566B2 JP S638566 B2 JPS638566 B2 JP S638566B2 JP 55104623 A JP55104623 A JP 55104623A JP 10462380 A JP10462380 A JP 10462380A JP S638566 B2 JPS638566 B2 JP S638566B2
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Landscapes
- Insulated Conductors (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Description
本発明は耐熱性絶縁電線特に300℃以上の高温
で使用できる耐熱性絶縁電線に関する。 従来より耐熱性エナメル線として知られている
ものにはポリイミド線、ポリアミドイミド線、ポ
リエステルイミド線等があり、それぞれ220〜250
℃、180〜220℃、155〜180℃の耐熱性を有してお
り、かなりの耐熱性を有すると言えるが、いずれ
も有機物の絶縁皮膜から成るため、400℃位の高
温になると分解し、従つて250℃までの使用に限
られていた。一方ガラス糸を導体に巻きつけて絶
縁したガラス巻線も耐熱性絶縁電線として知られ
ているが、このようなガラス巻線には通常絶縁性
の向上とほつれ防止の目的でガラス糸とガラス糸
の間に有機物の絶縁塗料が塗布されており、その
ため耐熱性はたかだか180℃位にとどまり、更に
スペースフアクターに劣るという欠点があつた。 近年原子力発電、地熱発電その他特殊用途に
300℃以上の高温で使用できるマグネツトワイヤ
ーの要求があり、無機物をコーテイングした無機
電線等が検討されているが、このような無機電線
は一般にポーラスであるため可撓性、絶縁性が悪
く実用化されていないのが現状である。一方本発
明者らはケイ素、ホウ素、酸素を骨格とする、電
気絶縁塗料として使用できるポリボロシロキサン
樹脂について検討し、先に出願したが、このもの
は焼度を強くすると耐熱性、耐湿性は充分満足す
るが、可撓性、電気絶縁性が低下し、焼度を弱く
すると逆の結果になり、エナメル線として必要と
される全ての特性を満足するものは今だ得られて
いなかつた。 本発明者らは上述のポリボロシロキサン樹脂を
被覆した絶縁電線に更にその上に芳香族ポリイミ
ド樹脂をオーバーコートすれば、300℃以上の高
温においても使用でき、しかも可撓性、絶縁特性
の低下のない絶縁電線が得られることをみいだし
た。 本発明はこのような知見に基づいてなされたも
ので、導体上にポリボロシロキサン樹脂被覆を行
ない、更にその上に芳香族ポリイミド樹脂を被覆
したことを特徴とする耐熱性絶縁電線に関する。 本発明に使用するポリボロシロキサン樹脂は、
(a)オルトホウ酸、メタホウ酸、無水ホウ酸、ホウ
酸メチルエステル、ホウ砂等のホウ酸化合物と、
(b)SiX4、SiRX3、SiRR′X2で表わされるシラン化
合物(式中R、R′はメチル基又はフエニル基、
Xは水酸基又は塩素であつて、Xが水酸基の場合
はその脱水縮合物も含む)とを1:10〜10:1好
ましくは1:3〜3:1の当量モル比(モルに官
能基の数を乗じたもの)で50〜800℃に加熱して
縮重合反応を行なわせて得られる。而して反応温
度が300℃以上の場合は不活性雰囲気下で行なう
のが望ましく、又反応を2段階に分けて行なつて
も良い。ポリボロシロキサン樹脂の製造に際して
は(b)の塩素含有シランは塩化水素を発生し作業環
境上好ましくないのでシラノール化合物(ヒドロ
キシシラン)を使用する方が望ましい。又(a)のホ
ウ酸化合物と(b)のシラン化合物の全量に対して、
5重量%以上のシリコンオイルを添加して重縮合
反応を行なえば、電線皮膜とした場合により優れ
た可撓性を有するものが得られるのでその使用が
望ましい。シリコンオイルは25℃における粘度が
1.0センチストークス好ましくは10センチストー
クス以上のジメチルシリコン又はメチルフエニル
シリコン又はそれらの混合物が適切である。 本発明に使用する芳香族ポリイミド樹脂は、例
えば特公昭46−17145号に記載されているように
3,3′,4,4′―ベンゾフエノンテトラカルボン
酸二無水物と特殊な芳香族ジアミンとをクレゾー
ル等のフエノール系溶剤中で加熱重縮合させるこ
とにより得られるもの(このようなものに例えば
東芝ケミカル社製のTUE5051がある)が適切で、
他にパイルML(DuPont社製商品名)のような、
ピロメリツト酸二無水物と4,4′―ジアミノジフ
エニルエーテルとをN―メチルピロリドン
(NMP)やジメチルアセトアミド(DMAc)等
の特殊な極性溶剤中で10℃前後の低温で付加反応
させて得られる、ワニス状態ではポリイミドの先
駆体であるポリアミド酸樹脂溶液であるものもあ
るが、ワニスのライフが短いため低温保存を必要
とする、高価な特殊溶剤を使用する等の理由から
前者のクレゾール可溶の芳香族ポリイミド樹脂の
方が好ましい。 本発明における絶縁電線は、前述のポリボロシ
ロキサン樹脂をクレゾール、テトラヒドロフラ
ン、N―メチルピロリドン等の焼付可能な溶媒に
溶解させて電気絶縁塗料とし、Ni,Ag等をメツ
キした銅線あるいはNi線、Ag線に塗布焼付け、
更にこの上に芳香族ポリイミド樹脂塗料を塗布焼
付けて得られる。 次に実施例について説明する。 〔実施例 1〕 ジフエニルジヒドロキシシラン432g(2モ
ル)、ホウ酸83g(1.3モル)、10センチストーク
スのジメチルシリコンオイル256gをフラスコに
入れ、窒素雰囲気中で室温から400℃まで徐々に
加熱撹拌し(約6時間)、更に400℃で1時間加熱
撹拌して縮合反応を行なつた。途中66gの水と70
gの未反応の低分子量シリコンオイルが沸騰して
除去された。得られた反応生成物は無色固形状で
あつて収量は525gであつた。この反応生成物の
数平均分子量は2500であり、700℃までの焼成残
存率は55%であつた。この反応生成物350gをメ
タクレゾール450gに溶解させて絶縁塗料とした。
この塗料を1.0mmφのNiメツキ(皮膜厚1.5μ)銅
線に炉長7.2mの縦型焼付機を用い、焼付温度450
℃、線速6m/分で5回塗布焼付けて20μの塗膜
厚を有する絶縁電線を得、更にこの上に芳香族ポ
リイミド樹脂塗料であるTUE5051を450℃、10
m/分で3回焼付けて、30μの塗膜厚を有する外
観の良好なダブルコート絶縁電線を得た。得られ
た絶縁電線の特性についての試験結果は次の通り
であつた。 可撓性(合格倍径) 1d 破壊電圧(2ケ撚法) 6.0kV ピンホール(個/5m) 0 耐湿性 良 熱軟化温度(荷重700g、昇温法2℃/分)
600℃ 過電流特性(β値) 35 〔実施例 2〕 実施例1で得たポリボロシロキサン樹脂の被覆
の絶縁電線にTUE5051を実施例1と同様の焼付
条件で6回焼付けて40μの塗膜厚を有する絶縁電
線を得た。このものの特性は第1表の通りであつ
た。 〔実施例 3,4〕 実施例1で得たポリボロシロキサン樹脂の絶縁
塗料を、焼付線速を3m/分におとして塗布、空
焼を交互に3回行ない、9μの塗膜厚を有する絶
縁電線を得た。この上に更にTUE5051を450℃、
10m/分で2回焼付けて、14μの塗膜厚を有する
絶縁電線を得た。(実施例3)又TUE5051を450
℃、10m/分で4回焼付けて21μの塗膜厚を有す
る絶縁電線を得た。(実施例4)これらの特性は
第1表の通りであつた。 〔実施例 5,6〕 実施例1で得たポリボロシロキサン樹脂被覆の
絶縁電線にパイル―MLを330℃、10m/分で3
回焼付け、30μの塗膜厚を有する絶縁電線を得
た。(実施例5)又パイル―MLの塗布焼付け回
数を6回に変えて40μの塗膜厚を有する絶縁電線
を得た。(実施例6)これらの特性は第1表の通
りであつた。 〔実施例 7〕 ジフエニルジヒドロキシシラン432g(2モ
ル)、ホウ酸メチル104g、100センチストークス
のメチルフエニルシリコンオイル368gをフラス
コに入れ、後は実施例1と同様の条件で縮重合反
応を行なつた。得られた反応生成物の分子量は
3000であり、700℃までの焼成残存率は60%であ
つた。この反応生成物350gをクレゾール450gに
溶解させて絶縁塗料とした。この塗料を1.0mmφ
のNiメツキ銅線に焼付温度450℃、線速6m/分
で5回塗布し、更に連続してTUE5051を5回塗
布して40μの塗膜厚を有する外観の良好なダブル
コート絶縁電線を得た。このものの特性は第1表
の通りであつた。 なお表中参考例としてあげたものはポリボロシ
ロキサン樹脂被覆のみ、芳香族ポリイミド樹脂被
覆のみの場合であつて参考例1は実施例1で用い
たポリボロシロキサン樹脂被覆電線、参考例2は
実施例3で用いたポリボロシロキサン樹脂被覆電
線、参考例3はTUE5051を塗布焼付けた皮膜厚
30μのポリイミド線、参考例4はパイル―MLを
塗布焼付けた皮膜厚30μのポリイミド線を示す。
で使用できる耐熱性絶縁電線に関する。 従来より耐熱性エナメル線として知られている
ものにはポリイミド線、ポリアミドイミド線、ポ
リエステルイミド線等があり、それぞれ220〜250
℃、180〜220℃、155〜180℃の耐熱性を有してお
り、かなりの耐熱性を有すると言えるが、いずれ
も有機物の絶縁皮膜から成るため、400℃位の高
温になると分解し、従つて250℃までの使用に限
られていた。一方ガラス糸を導体に巻きつけて絶
縁したガラス巻線も耐熱性絶縁電線として知られ
ているが、このようなガラス巻線には通常絶縁性
の向上とほつれ防止の目的でガラス糸とガラス糸
の間に有機物の絶縁塗料が塗布されており、その
ため耐熱性はたかだか180℃位にとどまり、更に
スペースフアクターに劣るという欠点があつた。 近年原子力発電、地熱発電その他特殊用途に
300℃以上の高温で使用できるマグネツトワイヤ
ーの要求があり、無機物をコーテイングした無機
電線等が検討されているが、このような無機電線
は一般にポーラスであるため可撓性、絶縁性が悪
く実用化されていないのが現状である。一方本発
明者らはケイ素、ホウ素、酸素を骨格とする、電
気絶縁塗料として使用できるポリボロシロキサン
樹脂について検討し、先に出願したが、このもの
は焼度を強くすると耐熱性、耐湿性は充分満足す
るが、可撓性、電気絶縁性が低下し、焼度を弱く
すると逆の結果になり、エナメル線として必要と
される全ての特性を満足するものは今だ得られて
いなかつた。 本発明者らは上述のポリボロシロキサン樹脂を
被覆した絶縁電線に更にその上に芳香族ポリイミ
ド樹脂をオーバーコートすれば、300℃以上の高
温においても使用でき、しかも可撓性、絶縁特性
の低下のない絶縁電線が得られることをみいだし
た。 本発明はこのような知見に基づいてなされたも
ので、導体上にポリボロシロキサン樹脂被覆を行
ない、更にその上に芳香族ポリイミド樹脂を被覆
したことを特徴とする耐熱性絶縁電線に関する。 本発明に使用するポリボロシロキサン樹脂は、
(a)オルトホウ酸、メタホウ酸、無水ホウ酸、ホウ
酸メチルエステル、ホウ砂等のホウ酸化合物と、
(b)SiX4、SiRX3、SiRR′X2で表わされるシラン化
合物(式中R、R′はメチル基又はフエニル基、
Xは水酸基又は塩素であつて、Xが水酸基の場合
はその脱水縮合物も含む)とを1:10〜10:1好
ましくは1:3〜3:1の当量モル比(モルに官
能基の数を乗じたもの)で50〜800℃に加熱して
縮重合反応を行なわせて得られる。而して反応温
度が300℃以上の場合は不活性雰囲気下で行なう
のが望ましく、又反応を2段階に分けて行なつて
も良い。ポリボロシロキサン樹脂の製造に際して
は(b)の塩素含有シランは塩化水素を発生し作業環
境上好ましくないのでシラノール化合物(ヒドロ
キシシラン)を使用する方が望ましい。又(a)のホ
ウ酸化合物と(b)のシラン化合物の全量に対して、
5重量%以上のシリコンオイルを添加して重縮合
反応を行なえば、電線皮膜とした場合により優れ
た可撓性を有するものが得られるのでその使用が
望ましい。シリコンオイルは25℃における粘度が
1.0センチストークス好ましくは10センチストー
クス以上のジメチルシリコン又はメチルフエニル
シリコン又はそれらの混合物が適切である。 本発明に使用する芳香族ポリイミド樹脂は、例
えば特公昭46−17145号に記載されているように
3,3′,4,4′―ベンゾフエノンテトラカルボン
酸二無水物と特殊な芳香族ジアミンとをクレゾー
ル等のフエノール系溶剤中で加熱重縮合させるこ
とにより得られるもの(このようなものに例えば
東芝ケミカル社製のTUE5051がある)が適切で、
他にパイルML(DuPont社製商品名)のような、
ピロメリツト酸二無水物と4,4′―ジアミノジフ
エニルエーテルとをN―メチルピロリドン
(NMP)やジメチルアセトアミド(DMAc)等
の特殊な極性溶剤中で10℃前後の低温で付加反応
させて得られる、ワニス状態ではポリイミドの先
駆体であるポリアミド酸樹脂溶液であるものもあ
るが、ワニスのライフが短いため低温保存を必要
とする、高価な特殊溶剤を使用する等の理由から
前者のクレゾール可溶の芳香族ポリイミド樹脂の
方が好ましい。 本発明における絶縁電線は、前述のポリボロシ
ロキサン樹脂をクレゾール、テトラヒドロフラ
ン、N―メチルピロリドン等の焼付可能な溶媒に
溶解させて電気絶縁塗料とし、Ni,Ag等をメツ
キした銅線あるいはNi線、Ag線に塗布焼付け、
更にこの上に芳香族ポリイミド樹脂塗料を塗布焼
付けて得られる。 次に実施例について説明する。 〔実施例 1〕 ジフエニルジヒドロキシシラン432g(2モ
ル)、ホウ酸83g(1.3モル)、10センチストーク
スのジメチルシリコンオイル256gをフラスコに
入れ、窒素雰囲気中で室温から400℃まで徐々に
加熱撹拌し(約6時間)、更に400℃で1時間加熱
撹拌して縮合反応を行なつた。途中66gの水と70
gの未反応の低分子量シリコンオイルが沸騰して
除去された。得られた反応生成物は無色固形状で
あつて収量は525gであつた。この反応生成物の
数平均分子量は2500であり、700℃までの焼成残
存率は55%であつた。この反応生成物350gをメ
タクレゾール450gに溶解させて絶縁塗料とした。
この塗料を1.0mmφのNiメツキ(皮膜厚1.5μ)銅
線に炉長7.2mの縦型焼付機を用い、焼付温度450
℃、線速6m/分で5回塗布焼付けて20μの塗膜
厚を有する絶縁電線を得、更にこの上に芳香族ポ
リイミド樹脂塗料であるTUE5051を450℃、10
m/分で3回焼付けて、30μの塗膜厚を有する外
観の良好なダブルコート絶縁電線を得た。得られ
た絶縁電線の特性についての試験結果は次の通り
であつた。 可撓性(合格倍径) 1d 破壊電圧(2ケ撚法) 6.0kV ピンホール(個/5m) 0 耐湿性 良 熱軟化温度(荷重700g、昇温法2℃/分)
600℃ 過電流特性(β値) 35 〔実施例 2〕 実施例1で得たポリボロシロキサン樹脂の被覆
の絶縁電線にTUE5051を実施例1と同様の焼付
条件で6回焼付けて40μの塗膜厚を有する絶縁電
線を得た。このものの特性は第1表の通りであつ
た。 〔実施例 3,4〕 実施例1で得たポリボロシロキサン樹脂の絶縁
塗料を、焼付線速を3m/分におとして塗布、空
焼を交互に3回行ない、9μの塗膜厚を有する絶
縁電線を得た。この上に更にTUE5051を450℃、
10m/分で2回焼付けて、14μの塗膜厚を有する
絶縁電線を得た。(実施例3)又TUE5051を450
℃、10m/分で4回焼付けて21μの塗膜厚を有す
る絶縁電線を得た。(実施例4)これらの特性は
第1表の通りであつた。 〔実施例 5,6〕 実施例1で得たポリボロシロキサン樹脂被覆の
絶縁電線にパイル―MLを330℃、10m/分で3
回焼付け、30μの塗膜厚を有する絶縁電線を得
た。(実施例5)又パイル―MLの塗布焼付け回
数を6回に変えて40μの塗膜厚を有する絶縁電線
を得た。(実施例6)これらの特性は第1表の通
りであつた。 〔実施例 7〕 ジフエニルジヒドロキシシラン432g(2モ
ル)、ホウ酸メチル104g、100センチストークス
のメチルフエニルシリコンオイル368gをフラス
コに入れ、後は実施例1と同様の条件で縮重合反
応を行なつた。得られた反応生成物の分子量は
3000であり、700℃までの焼成残存率は60%であ
つた。この反応生成物350gをクレゾール450gに
溶解させて絶縁塗料とした。この塗料を1.0mmφ
のNiメツキ銅線に焼付温度450℃、線速6m/分
で5回塗布し、更に連続してTUE5051を5回塗
布して40μの塗膜厚を有する外観の良好なダブル
コート絶縁電線を得た。このものの特性は第1表
の通りであつた。 なお表中参考例としてあげたものはポリボロシ
ロキサン樹脂被覆のみ、芳香族ポリイミド樹脂被
覆のみの場合であつて参考例1は実施例1で用い
たポリボロシロキサン樹脂被覆電線、参考例2は
実施例3で用いたポリボロシロキサン樹脂被覆電
線、参考例3はTUE5051を塗布焼付けた皮膜厚
30μのポリイミド線、参考例4はパイル―MLを
塗布焼付けた皮膜厚30μのポリイミド線を示す。
【表】
以上の実施例から明らかなように本願発明に係
る絶縁電線は熱軟化温度が従来の耐熱エナメル線
のそれに比べてはるかに高く、しかも機械特性、
電気特性は従来のものと遜色ない。 又エナメル線であるからガラス巻線のようなス
ペースフアクターの問題がなく極めて有効であ
る。
る絶縁電線は熱軟化温度が従来の耐熱エナメル線
のそれに比べてはるかに高く、しかも機械特性、
電気特性は従来のものと遜色ない。 又エナメル線であるからガラス巻線のようなス
ペースフアクターの問題がなく極めて有効であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 導体上にポリボロシロキサン樹脂被覆を行な
い、更にその上に芳香族ポリイミド樹脂を被覆し
たことを特徴とする耐熱性絶縁電線。 2 ポリボロシロキサン樹脂はシリコンオイル、
フエニル又はメチルシラノール、ホウ酸化合物と
を、必要によりヒドロキノンを加えて縮重合させ
て成る特許請求の範囲第1項記載の耐熱性絶縁電
線。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10462380A JPS5730209A (en) | 1980-07-30 | 1980-07-30 | Heat resistant insulated wire |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10462380A JPS5730209A (en) | 1980-07-30 | 1980-07-30 | Heat resistant insulated wire |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5730209A JPS5730209A (en) | 1982-02-18 |
| JPS638566B2 true JPS638566B2 (ja) | 1988-02-23 |
Family
ID=14385562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10462380A Granted JPS5730209A (en) | 1980-07-30 | 1980-07-30 | Heat resistant insulated wire |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5730209A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0495339A (ja) * | 1990-07-31 | 1992-03-27 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | 密閉形鉛蓄電池 |
-
1980
- 1980-07-30 JP JP10462380A patent/JPS5730209A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0495339A (ja) * | 1990-07-31 | 1992-03-27 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | 密閉形鉛蓄電池 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5730209A (en) | 1982-02-18 |
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