JPS6387632A - 光デイスク用基板の表面処理方法 - Google Patents
光デイスク用基板の表面処理方法Info
- Publication number
- JPS6387632A JPS6387632A JP23267586A JP23267586A JPS6387632A JP S6387632 A JPS6387632 A JP S6387632A JP 23267586 A JP23267586 A JP 23267586A JP 23267586 A JP23267586 A JP 23267586A JP S6387632 A JPS6387632 A JP S6387632A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- photopolymer
- substrate
- optical disk
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は光ディスク用フォトポリマガラス基板におりで
、フォトポリマ膜とガラス基板が、高温高湿度下におり
で、剥離すると論う問題を解決するため、ガラス基板上
にＳ ｉｏｚ、 Ａｌｔｏｓなどの透明酸化物層を設け
ることにより、高温高湿度下におけるガラス基板中のア
ルカリ成分が水と反応することを抑制し、フォトポリマ
膜とガラス基板の局部剥離を防止したものである。
、フォトポリマ膜とガラス基板が、高温高湿度下におり
で、剥離すると論う問題を解決するため、ガラス基板上
にＳ ｉｏｚ、 Ａｌｔｏｓなどの透明酸化物層を設け
ることにより、高温高湿度下におけるガラス基板中のア
ルカリ成分が水と反応することを抑制し、フォトポリマ
膜とガラス基板の局部剥離を防止したものである。
本発明は光ディスク用ガラス基板の表面処理方法、とく
に高温高湿度下に放置した場合に発生するフォトポリマ
膜とガラス基板の！＃Ｊ船を防止する方法に関する。
に高温高湿度下に放置した場合に発生するフォトポリマ
膜とガラス基板の！＃Ｊ船を防止する方法に関する。
ガラスを基板材料とする光ディスクでは、光学脂を用す
てスタンパから転写される。このフォトポリマ樹脂には
、スタンパとけ接着せずガラスとは接着する性質が要求
されるので、通常のフォトポリマ樹脂に比べてガラスと
の接着力が劣って−る。したがって、接着力を向上させ
るためガラス基板にシランカップリング剤をコーティン
グしている。しかしながら、フォトポリマ膜とガラス基
板との間に密着力の劣る部分が存在すると、そこに水か
た１りそれが原因となって、フォトポリマ膜がガラス基
板から浮すてしまう問題があり、それを防止する方法が
必要とされる。上述のフォトポリマ膜とガラス基板の剥
離は両界面にたまった水がガラス中のアルカリ成分と反
応しアルカリ性物質が生成してその結果フォトポリマ膜
がガラス基板から浮すてしまい起こるものと考えられて
ｂる◎この現象は、石英を基板材料として用すた場合に
は発生しないが、石英は高価なため現実的でな込。
てスタンパから転写される。このフォトポリマ樹脂には
、スタンパとけ接着せずガラスとは接着する性質が要求
されるので、通常のフォトポリマ樹脂に比べてガラスと
の接着力が劣って−る。したがって、接着力を向上させ
るためガラス基板にシランカップリング剤をコーティン
グしている。しかしながら、フォトポリマ膜とガラス基
板との間に密着力の劣る部分が存在すると、そこに水か
た１りそれが原因となって、フォトポリマ膜がガラス基
板から浮すてしまう問題があり、それを防止する方法が
必要とされる。上述のフォトポリマ膜とガラス基板の剥
離は両界面にたまった水がガラス中のアルカリ成分と反
応しアルカリ性物質が生成してその結果フォトポリマ膜
がガラス基板から浮すてしまい起こるものと考えられて
ｂる◎この現象は、石英を基板材料として用すた場合に
は発生しないが、石英は高価なため現実的でな込。
本発明は、フォトポリマ膜とガラス基板の剥離が、水と
ガラス中のアルカリ成分との反応によシ起こることから
その反応を防止する方法を提案するものである。
ガラス中のアルカリ成分との反応によシ起こることから
その反応を防止する方法を提案するものである。
本発明の透明酸化物２け第１図に示すようにガラス基板
１上に形成されて−るため水が侵入してもバリアとなっ
てガラス中のアルカリ成分と反応しないのでフォトポリ
マ膜４とガラス基板ｌの剥離が起こらない。
１上に形成されて−るため水が侵入してもバリアとなっ
てガラス中のアルカリ成分と反応しないのでフォトポリ
マ膜４とガラス基板ｌの剥離が起こらない。
ソーダライムガラス基板１上にＳｉ０．２を蒸着法で形
成した。その上にシランカップリング剤３を処理しフォ
トポリマ膜４を形成し念あと、試料を１２０℃、９０％
朋中に１２時間放置したところ、フォトポリマ膜４の剥
離は認められなかった。また、Ｓｉｎ、をパノ！０．に
代えても同様の結果が得られた。このと鯰の酸化物層２
の厚さは１０ｎｍであった。
成した。その上にシランカップリング剤３を処理しフォ
トポリマ膜４を形成し念あと、試料を１２０℃、９０％
朋中に１２時間放置したところ、フォトポリマ膜４の剥
離は認められなかった。また、Ｓｉｎ、をパノ！０．に
代えても同様の結果が得られた。このと鯰の酸化物層２
の厚さは１０ｎｍであった。
透明酸化物層２のないソーダガラス基板１上に同様の処
理を施したものは１２０℃、９０％ＲＨ中１２時間の放
置でフォトポリマ膜の局所的な剥離が認められた。
理を施したものは１２０℃、９０％ＲＨ中１２時間の放
置でフォトポリマ膜の局所的な剥離が認められた。
本発明によれば、ガラス基板上に透明な酸化物層を形成
することによシ、高温高湿度下における水とガラス中の
アルカリ成分の反応を抑制できフォトポリマ膜がガラス
基板から局所的な剥離を防止できる。
することによシ、高温高湿度下における水とガラス中の
アルカリ成分の反応を抑制できフォトポリマ膜がガラス
基板から局所的な剥離を防止できる。
上記例では透明防電体層として酸化物を用−る例を上げ
たが、フォトポリマと密着性良好な他の材料（窒化物、
炭化物、硫化物、７ツ化物等）ｆ用いても良ｂ０
たが、フォトポリマと密着性良好な他の材料（窒化物、
炭化物、硫化物、７ツ化物等）ｆ用いても良ｂ０
第１図は本発明による基板構造の断面図である。
１ニガラス基板、２：透明酸化物、３：シランカップリ
ング剤処理層、４：ホトポリマ。 第 １ 図
ング剤処理層、４：ホトポリマ。 第 １ 図
Claims (1)
- 紫外線を照射することで硬化可能なフォトポリマにより
、光ディスク用スタンパ表面のプリグルーブ情報をガラ
ス基板上に転写して得られる光ディスク用フォトポリマ
ガラス基板の製法において、前記ガラス基板表面に透明
な誘電体層を設けてから前記フォトポリマを用いプリグ
ルーブ情報を転写することを特徴とする光ディスク用ガ
ラス基板の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23267586A JPS6387632A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 光デイスク用基板の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23267586A JPS6387632A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 光デイスク用基板の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6387632A true JPS6387632A (ja) | 1988-04-18 |
Family
ID=16943030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23267586A Pending JPS6387632A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 光デイスク用基板の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6387632A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6389343A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-20 | ミノルタ株式会社 | 複合型光学部材及びその製造方法 |
| JPH01140881U (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-27 |
-
1986
- 1986-09-30 JP JP23267586A patent/JPS6387632A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6389343A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-20 | ミノルタ株式会社 | 複合型光学部材及びその製造方法 |
| JPH01140881U (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1999039337A3 (en) | Bonded optical disks and a method and an apparatus for producing the same | |
| JPS59113177A (ja) | 基体に金属層を設ける方法 | |
| JPS5854316A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPS6387632A (ja) | 光デイスク用基板の表面処理方法 | |
| JPH0929885A (ja) | 透明導電性フィルム | |
| CN114899126B (zh) | 晶圆单面化学镀方法、半导体器件制造方法及半导体器件 | |
| JPS6025104A (ja) | 透明導電性膜を有する基体及びその製造方法 | |
| JPS62570A (ja) | 防食性光硬化性接着剤組成物 | |
| JPS61162844A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3463968B2 (ja) | 透明導電性フィルム | |
| JPH0428132B2 (ja) | ||
| US4521451A (en) | Encapsulated magnetic recording disk | |
| JPH03224144A (ja) | 光ディスク基板 | |
| JPH1164629A (ja) | 光素子およびその製造方法 | |
| JPH04243936A (ja) | 光学素子及びその製造方法 | |
| JPS63306551A (ja) | 光デイスク記録媒体 | |
| JPH01213845A (ja) | 光ディスク用原盤 | |
| JPS5522849A (en) | Manufacturing method of material for magnetic- electrical conversion element | |
| JPS6068336A (ja) | リソグラフィー用マスク構造体 | |
| JPS59151705A (ja) | 透明導電性膜を有する基体及びその製造方法 | |
| TWI274423B (en) | Ultra thin package structure and its manufacturing method | |
| JPS6168750A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0339239A (ja) | スタンパ | |
| JPH05181121A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JPH02179730A (ja) | スタンパの製造方法 |