JPS639026B2 - - Google Patents
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- JPS639026B2 JPS639026B2 JP1886882A JP1886882A JPS639026B2 JP S639026 B2 JPS639026 B2 JP S639026B2 JP 1886882 A JP1886882 A JP 1886882A JP 1886882 A JP1886882 A JP 1886882A JP S639026 B2 JPS639026 B2 JP S639026B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ammonium
- general formula
- acidic
- acid
- zinc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
本発明は、平滑で緻密な亜鉛めつきを行なうた
めの酸性亜鉛めつき液に関する。 緻密なめつき面及び電流密度のムラに影響され
ず、均一なめつき面を得ることはめつき技術の基
本的課題である。 従来多くの化学物質がこの目的のために広く使
用されてきた。 酸性亜鉛めつきにおいても、ポリエチレングリ
コールなどが使われているが、より平滑化作用の
すぐれた添加剤、特に電流密度のムラによつて生
ずる電着不均一性をできるだけ小さくするような
添加剤が望まれている。 本発明は酸性亜鉛めつき液に使用する新規な平
滑化剤、特に電流密度のムラによつて生ずる電着
不均一性を改良する平滑化剤を含む酸性亜鉛めつ
き液を提供することを目的とする。 即ち、本発明の酸性亜鉛めつき液は、 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムの１種又は２種
以上と、亜鉛塩類を主成分としてなる酸性亜鉛め
つき液（あるいはさらにこれにホウ酸を加えため
つき液）において、一般式（） HOOCCH2O−（CH2CH2O）o−CH2COOH で表わされるジカルボン酸および／又は、一般式
（） H2N−（CH2）3−Ｏ−（CH2CH2O）o −（CH2）3−NH2 で表わされるジアミン（但しいずれもｎ＝０〜
1000）を0.01〜30ｇ／添加して成る酸性亜鉛め
つき液であり、またこれに公知の減極剤、光沢剤
のうち好適なものを組合せた酸性亜鉛めつき液で
ある。 本発明の平滑化剤を使用する亜鉛めつき液の基
本組成は、シアン塩を含まないタイプのものであ
り、亜鉛イオン源としては塩化亜鉛、硫酸亜鉛、
ホウフツ化亜鉛、スルフアミン酸亜鉛等の１種以
上を約10〜300ｇ／用い、これに電導性塩とし
て塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムのいずれか１種
又は２種以上を20〜350ｇ／使用する。 さらにPH緩衝剤としてホウ酸を加えることもあ
る。本発明の新期な平滑化剤は前記一般式（）
で表わされるジカルボン酸（ポリエチレンオキシ
ジカルボン酸）又は一般式（）で表わされるジ
アミン（ポリエチレンオキシジアミン）である。 ポリエチレングリコール鎖の重合度がめつき効
果に及ぼす影響は重合度1000以下の範囲ではさほ
ど極端な変化はなくどの重合度でも効果が認めら
れるが、重合度３〜150（分子重300〜7000）程度
が扱いやすい。 添加量は0.01ｇ／で効果が認められるが、そ
れ以下では平滑化作用が不十分でめつき表面が粗
くなる。 添加量0.5〜６ｇ／の範囲は最も実用性のあ
る好ましい範囲で効果も明確である。 さらに増量すれば30ｇ／程度までは増量の効
果が認められる。それ以上では増量効果がなく経
済的に利点はないが悪影響はないので工程管理上
の理由でそれ以上に増量することもできる。 本発明のジカルボン酸とジアミンは電着面を平
滑化、緻密化する作用にすぐれ、特に電流密度の
変動によつても影響されず均一なめつきが得られ
る特徴をもつ。適切な光沢剤を併用した場合には
光沢のでる電流密度範囲も広くなる利点がある。
例えば、公知のポリエチレングリコールを使用し
た液（特公昭47−16526など）と比較すれば、光
沢範囲は塩化亜鉛／塩化アンモニウム系では従来
法では0.1〜6A／ｄm2のものが、本発明では0.1〜
10A／ｄm2に、塩化亜鉛／塩化カリウム系では、
従来法で0.2〜8A／ｄm2が本発明では0.1〜12A／
ｄm2、硫酸亜鉛／塩化アンモニウム系では従来法
の0.2〜8A／ｄm2から本発明の0.1〜10A／ｄm2に
拡大し、実用上のメリツトが大である。 さらにめつき面の状態を見ると、従来法では高
電流密度側では表面が粗く、しばしばピツトが発
生するのに対し、本発明の場合そのようなことは
ない。平均的な表面粗さは従来法では0.5〜
0.65μ、本法では0.4〜0.5μであり、均一電着性は
従来法の30〜40％から40〜50％に向上する。これ
らの特性は製品価値を高めるのに役立つことは勿
論、作業効率、電流効果も改善し、コストダウン
に寄与する他、従来困難であつた複雑な構造物の
均一めつきをも容易にするものである。 本発明の平滑化剤は公知の他の添加剤と併用す
ることができるが、公知の光沢剤、減極剤のいず
れとも併用できるわけではなく、ある特定のもの
との組合せが好適である。 芳香族カルボン酸およびその塩は減極剤として
作用することが公知であり、安息香酸をはじめフ
タル酸、サルチル酸、およびそれらのナトリウム
塩、カリウム塩などが使用される。 これらは本発明の平滑化剤との併用が効果的で
ある。上記減極剤の添加量は0.1〜20ｇ／、特
に好ましくは１〜10ｇ／であり、濃度が下限以
下ではクモリが発生し、上限をこえるとピツト発
生の危険がある。 光沢剤として公知の芳香族アルデヒド又は芳香
族ケトンも本発明の平滑化剤との併用が望ましい
添加剤である。ベンズアルデヒド、アセトフエノ
ン、ベンザルアセトンなどの添加は、光沢を改良
する。添加量は0.001〜３ｇ／特に好ましくは
0.01〜1.0ｇ／で添加量不足ではクモリ発生、
光沢度不足をもたらし、添加量過多はやはりピツ
トを発生させる。 以上の光沢剤、減極剤は、本発明の平滑化剤と
併用することが特に望ましいが、その他にも併用
が好適な公知の光沢剤としてはナフタリンスルホ
ン酸ソーダ、２エチルヘキシル硫酸ソーダ、フエ
ニルチオ尿素があげられる。 添加量は、前二者の場合は0.1〜20ｇ／特に
好ましくは１〜10ｇ／であり、フエニルチオ尿
素の場合は0.001〜２ｇ／特に好ましくは0.005
〜0.5ｇ／である。これらの添加剤が上限を超
える時には光沢に影響しないが脆くなり、下限を
超える時には芳香族アルデヒド系光沢剤の場合と
同様の問題が発生する。 本発明のめつき法の他の条件につき以下概説す
る。 液のPHは4.5〜6.0であり、6.0を超えると亜鉛の
不溶性錯塩が沈澱しはじめ、クモリ発生の危険が
ある。 4.5以下の強酸性とした場合は、光沢剤の沈澱
がおこりヤケの原因となるので、PHは適切に管理
されねばならない。液温は20〜40℃が好適で、高
すぎると電着物の表面が荒れ、クモリが発生す
る。まためつき液が濁りはじめる。逆に低すぎれ
ば、電導度が低下し、ヤケ、コゲの原因となる。
撹拌は通常の空気吹込みでよい。 電流密度は、0.1〜10A／ｄm2で通常行なわれ
るが、上限付近の高密度では析出は早いが、ピツ
ト、ヤケの危険があり、下限付近ではめつきにつ
きまわりが悪い。 実施例 次表に示した基本液組成と添加剤からなるめつ
き液でハルセル試験を行ない、その結果８例を比
較例３例とともに示す。ハルセル試験条件は、総
電流2A、めつき時間10分間、液温30℃（但し、
塩化カリウム液では25℃）、PH5.0、空気吹込撹拌
であり、試験結果は、光沢範囲を光沢を示す電流
密度範囲で表示し、表面粗さは表面突起の高さμ
を小坂研究所製表面粗さ計SE−３型で電流密度
2A／ｄm2の部分を測定した。 また均一電着性はハルセルパネルの二点の膜厚
を測定してフイールドの式から算出した。
めの酸性亜鉛めつき液に関する。 緻密なめつき面及び電流密度のムラに影響され
ず、均一なめつき面を得ることはめつき技術の基
本的課題である。 従来多くの化学物質がこの目的のために広く使
用されてきた。 酸性亜鉛めつきにおいても、ポリエチレングリ
コールなどが使われているが、より平滑化作用の
すぐれた添加剤、特に電流密度のムラによつて生
ずる電着不均一性をできるだけ小さくするような
添加剤が望まれている。 本発明は酸性亜鉛めつき液に使用する新規な平
滑化剤、特に電流密度のムラによつて生ずる電着
不均一性を改良する平滑化剤を含む酸性亜鉛めつ
き液を提供することを目的とする。 即ち、本発明の酸性亜鉛めつき液は、 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムの１種又は２種
以上と、亜鉛塩類を主成分としてなる酸性亜鉛め
つき液（あるいはさらにこれにホウ酸を加えため
つき液）において、一般式（） HOOCCH2O−（CH2CH2O）o−CH2COOH で表わされるジカルボン酸および／又は、一般式
（） H2N−（CH2）3−Ｏ−（CH2CH2O）o −（CH2）3−NH2 で表わされるジアミン（但しいずれもｎ＝０〜
1000）を0.01〜30ｇ／添加して成る酸性亜鉛め
つき液であり、またこれに公知の減極剤、光沢剤
のうち好適なものを組合せた酸性亜鉛めつき液で
ある。 本発明の平滑化剤を使用する亜鉛めつき液の基
本組成は、シアン塩を含まないタイプのものであ
り、亜鉛イオン源としては塩化亜鉛、硫酸亜鉛、
ホウフツ化亜鉛、スルフアミン酸亜鉛等の１種以
上を約10〜300ｇ／用い、これに電導性塩とし
て塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウフ
ツ化アンモニウム、塩化カリウムのいずれか１種
又は２種以上を20〜350ｇ／使用する。 さらにPH緩衝剤としてホウ酸を加えることもあ
る。本発明の新期な平滑化剤は前記一般式（）
で表わされるジカルボン酸（ポリエチレンオキシ
ジカルボン酸）又は一般式（）で表わされるジ
アミン（ポリエチレンオキシジアミン）である。 ポリエチレングリコール鎖の重合度がめつき効
果に及ぼす影響は重合度1000以下の範囲ではさほ
ど極端な変化はなくどの重合度でも効果が認めら
れるが、重合度３〜150（分子重300〜7000）程度
が扱いやすい。 添加量は0.01ｇ／で効果が認められるが、そ
れ以下では平滑化作用が不十分でめつき表面が粗
くなる。 添加量0.5〜６ｇ／の範囲は最も実用性のあ
る好ましい範囲で効果も明確である。 さらに増量すれば30ｇ／程度までは増量の効
果が認められる。それ以上では増量効果がなく経
済的に利点はないが悪影響はないので工程管理上
の理由でそれ以上に増量することもできる。 本発明のジカルボン酸とジアミンは電着面を平
滑化、緻密化する作用にすぐれ、特に電流密度の
変動によつても影響されず均一なめつきが得られ
る特徴をもつ。適切な光沢剤を併用した場合には
光沢のでる電流密度範囲も広くなる利点がある。
例えば、公知のポリエチレングリコールを使用し
た液（特公昭47−16526など）と比較すれば、光
沢範囲は塩化亜鉛／塩化アンモニウム系では従来
法では0.1〜6A／ｄm2のものが、本発明では0.1〜
10A／ｄm2に、塩化亜鉛／塩化カリウム系では、
従来法で0.2〜8A／ｄm2が本発明では0.1〜12A／
ｄm2、硫酸亜鉛／塩化アンモニウム系では従来法
の0.2〜8A／ｄm2から本発明の0.1〜10A／ｄm2に
拡大し、実用上のメリツトが大である。 さらにめつき面の状態を見ると、従来法では高
電流密度側では表面が粗く、しばしばピツトが発
生するのに対し、本発明の場合そのようなことは
ない。平均的な表面粗さは従来法では0.5〜
0.65μ、本法では0.4〜0.5μであり、均一電着性は
従来法の30〜40％から40〜50％に向上する。これ
らの特性は製品価値を高めるのに役立つことは勿
論、作業効率、電流効果も改善し、コストダウン
に寄与する他、従来困難であつた複雑な構造物の
均一めつきをも容易にするものである。 本発明の平滑化剤は公知の他の添加剤と併用す
ることができるが、公知の光沢剤、減極剤のいず
れとも併用できるわけではなく、ある特定のもの
との組合せが好適である。 芳香族カルボン酸およびその塩は減極剤として
作用することが公知であり、安息香酸をはじめフ
タル酸、サルチル酸、およびそれらのナトリウム
塩、カリウム塩などが使用される。 これらは本発明の平滑化剤との併用が効果的で
ある。上記減極剤の添加量は0.1〜20ｇ／、特
に好ましくは１〜10ｇ／であり、濃度が下限以
下ではクモリが発生し、上限をこえるとピツト発
生の危険がある。 光沢剤として公知の芳香族アルデヒド又は芳香
族ケトンも本発明の平滑化剤との併用が望ましい
添加剤である。ベンズアルデヒド、アセトフエノ
ン、ベンザルアセトンなどの添加は、光沢を改良
する。添加量は0.001〜３ｇ／特に好ましくは
0.01〜1.0ｇ／で添加量不足ではクモリ発生、
光沢度不足をもたらし、添加量過多はやはりピツ
トを発生させる。 以上の光沢剤、減極剤は、本発明の平滑化剤と
併用することが特に望ましいが、その他にも併用
が好適な公知の光沢剤としてはナフタリンスルホ
ン酸ソーダ、２エチルヘキシル硫酸ソーダ、フエ
ニルチオ尿素があげられる。 添加量は、前二者の場合は0.1〜20ｇ／特に
好ましくは１〜10ｇ／であり、フエニルチオ尿
素の場合は0.001〜２ｇ／特に好ましくは0.005
〜0.5ｇ／である。これらの添加剤が上限を超
える時には光沢に影響しないが脆くなり、下限を
超える時には芳香族アルデヒド系光沢剤の場合と
同様の問題が発生する。 本発明のめつき法の他の条件につき以下概説す
る。 液のPHは4.5〜6.0であり、6.0を超えると亜鉛の
不溶性錯塩が沈澱しはじめ、クモリ発生の危険が
ある。 4.5以下の強酸性とした場合は、光沢剤の沈澱
がおこりヤケの原因となるので、PHは適切に管理
されねばならない。液温は20〜40℃が好適で、高
すぎると電着物の表面が荒れ、クモリが発生す
る。まためつき液が濁りはじめる。逆に低すぎれ
ば、電導度が低下し、ヤケ、コゲの原因となる。
撹拌は通常の空気吹込みでよい。 電流密度は、0.1〜10A／ｄm2で通常行なわれ
るが、上限付近の高密度では析出は早いが、ピツ
ト、ヤケの危険があり、下限付近ではめつきにつ
きまわりが悪い。 実施例 次表に示した基本液組成と添加剤からなるめつ
き液でハルセル試験を行ない、その結果８例を比
較例３例とともに示す。ハルセル試験条件は、総
電流2A、めつき時間10分間、液温30℃（但し、
塩化カリウム液では25℃）、PH5.0、空気吹込撹拌
であり、試験結果は、光沢範囲を光沢を示す電流
密度範囲で表示し、表面粗さは表面突起の高さμ
を小坂研究所製表面粗さ計SE−３型で電流密度
2A／ｄm2の部分を測定した。 また均一電着性はハルセルパネルの二点の膜厚
を測定してフイールドの式から算出した。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウ
フツ化アンモニウム、塩化カリウムの１種又は２
種以上と亜鉛塩類を主成分とし、任意成分として
さらにホウ酸を含有する酸性亜鉛めつき液におい
て、一般式 HOOCCH2O−（CH2CH2O）ｎ−CH2COOH で表わされるジカルボン酸及び／又は、一般式 H2N−（CH2）3−Ｏ−（CH2CH2O）ｎ −（CH2）3−NH2 で表わされるジアミン（但しいずれもｎ＝０〜
1000）を0.01〜30ｇ／含有することを特徴とす
る酸性亜鉛めつき液。 ２ 塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、ホウ
フツ化アンモニウム、塩化カリウムの１種又は２
種以上と亜鉛塩類を主成分とし、任意成分として
さらにホウ酸を含有する酸性亜鉛めつき液におい
て、 (A) 一般式 HOOCCH2O−（CH2CH2 Ｏ）ｎ−CH2COOH で表わされるジカルボン酸及び／又は、 一般式 H2N−（CH2）3−Ｏ−（CH2CH2O）ｎ −（CH2）3−NH2 で表わされるジアミン（但しいずれもｎ＝０〜
1000）を0.01〜30ｇ／と、 (B) 芳香族カルボン酸又はその塩を0.1〜20ｇ／
と、 (C) 芳香族アルデヒド、又は芳香族ケトン0.001
〜３ｇ／と、 (D) ナフタリンスルホン酸ソーダ、２エチルヘキ
シル硫酸ソーダ、フエニルチオ尿素の１種又は
２種以上を0.001〜20ｇ／ とを添加してなる酸性亜鉛めつき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1886882A JPS58136793A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 酸性亜鉛めつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1886882A JPS58136793A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 酸性亜鉛めつき液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58136793A JPS58136793A (ja) | 1983-08-13 |
| JPS639026B2 true JPS639026B2 (ja) | 1988-02-25 |
Family
ID=11983515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1886882A Granted JPS58136793A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 酸性亜鉛めつき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58136793A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220157355A (ko) * | 2019-03-04 | 2022-11-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 디스플레이 장치 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4597838A (en) * | 1985-08-29 | 1986-07-01 | Omi International Corporation | Additive agent for zinc alloy electrolyte and process |
| JPH0736162B2 (ja) * | 1988-04-18 | 1995-04-19 | 株式会社日立製作所 | 図形処理装置 |
| USRE39529E1 (en) * | 1988-04-18 | 2007-03-27 | Renesas Technology Corp. | Graphic processing apparatus utilizing improved data transfer to reduce memory size |
| FR2765247B1 (fr) * | 1997-06-26 | 1999-07-30 | Lorraine Laminage | Bain aqueux d'electrodeposition a base de chlorures pour la preparation d'un revetement a base de zinc ou d'alliage de zinc |
| JP4872407B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-02-08 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 亜鉛めっき液、亜鉛めっき方法および鋼材の水素脆化感受性評価方法 |
| JP5503111B2 (ja) * | 2007-04-03 | 2014-05-28 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー． | 金属メッキ組成物および方法 |
-
1982
- 1982-02-10 JP JP1886882A patent/JPS58136793A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220157355A (ko) * | 2019-03-04 | 2022-11-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 디스플레이 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58136793A (ja) | 1983-08-13 |
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