JPS6399994A - 平版印刷用処理液 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真オフセットマスター、28版の印刷に
用いる処理液、即ちエツチング液および湿し水に関する
。
用いる処理液、即ちエツチング液および湿し水に関する
。
(従来の技術)
電子写真オフセットマスターはまず酸化亜鉛の如き光導
電性微粉末を電気絶縁性樹脂と共に支持体上に塗布して
なる感光層上に、電子写真的手法によシ親油性画偉を得
る。
電性微粉末を電気絶縁性樹脂と共に支持体上に塗布して
なる感光層上に、電子写真的手法によシ親油性画偉を得
る。
また親油性筆記Aまえはタイプによって直接マスター上
に画像を形成して印刷版とする方式および電子写真転写
法等を用いる方式がある。
に画像を形成して印刷版とする方式および電子写真転写
法等を用いる方式がある。
これらはエツチング処理によシ非画像部を親油性から親
水性に転換して印刷版とする。印刷中も親水性を維持す
るために通常処理液を数倍に希釈して湿し水として用い
る。
水性に転換して印刷版とする。印刷中も親水性を維持す
るために通常処理液を数倍に希釈して湿し水として用い
る。
これまでにも多くの処理液の提案があった。それらを主
成分で分類すると黄血塩系と非黄血塩系に分けられる。
成分で分類すると黄血塩系と非黄血塩系に分けられる。
黄血塩系は古くから用いられてきている。これは熱およ
び光にたいして不安定であシ自然経時によってもエツチ
ング力の低下、沈澱発生などの欠点がある。そのためこ
れらの欠点を改善すべく数多くの提案が試みられている
。また非黄血塩系については主としてエツチング力を改
良すべく努力が続けられている。しかしながらそれらは
今なお十分ではない。さらに近年電子4真オフセットマ
スターによる印刷の適用範囲が拡大し、従来よりもよシ
高度な性能が要求されるようになってきた。
び光にたいして不安定であシ自然経時によってもエツチ
ング力の低下、沈澱発生などの欠点がある。そのためこ
れらの欠点を改善すべく数多くの提案が試みられている
。また非黄血塩系については主としてエツチング力を改
良すべく努力が続けられている。しかしながらそれらは
今なお十分ではない。さらに近年電子4真オフセットマ
スターによる印刷の適用範囲が拡大し、従来よりもよシ
高度な性能が要求されるようになってきた。
即ち非画像部に印刷汚れを発生せずかつ画像部には十分
インキが乗るに着肉性が曳い)こと、指紋等の汚れ防止
のために製版直後に平版印刷用処理液にて親水化処理を
行ないその後数時間たって印刷した場合でも細線や網点
のハイライト部がかすれたシせずインキが十分乗る(=
乾燥放置後着肉性が良い)こと、刷シ始めてからすぐに
正常な印刷物が得られる(=インキ乗シが迅速である)
こと、多数枚印刷しても地汚れが発生しないこと、非画
像部にインキが誤って付着し汚れとなった場合でも印刷
機を空回転することによシ容易に汚れがとれる(インキ
付着汚れ除去性にすぐれる)こと、長期間使用しても親
水化力が変わらず結晶やカスが発生しないこと、といっ
たような特性を具備していなければならない。
インキが乗るに着肉性が曳い)こと、指紋等の汚れ防止
のために製版直後に平版印刷用処理液にて親水化処理を
行ないその後数時間たって印刷した場合でも細線や網点
のハイライト部がかすれたシせずインキが十分乗る(=
乾燥放置後着肉性が良い)こと、刷シ始めてからすぐに
正常な印刷物が得られる(=インキ乗シが迅速である)
こと、多数枚印刷しても地汚れが発生しないこと、非画
像部にインキが誤って付着し汚れとなった場合でも印刷
機を空回転することによシ容易に汚れがとれる(インキ
付着汚れ除去性にすぐれる)こと、長期間使用しても親
水化力が変わらず結晶やカスが発生しないこと、といっ
たような特性を具備していなければならない。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、従来の処理液を、機械的にエツチングをおこな
うエツチング・マシーンに投入して使用した場合、スク
イズ・ローラ一部や喫水線近傍部に結晶が析出し、それ
が印刷版上に付着し汚れとなシ、また軸受部等に結晶が
析出すると機械的な故障を引き起こすという問題を有す
る。
うエツチング・マシーンに投入して使用した場合、スク
イズ・ローラ一部や喫水線近傍部に結晶が析出し、それ
が印刷版上に付着し汚れとなシ、また軸受部等に結晶が
析出すると機械的な故障を引き起こすという問題を有す
る。
これを防ぐ方法として主剤含有量を低減するという方法
があるが、この場合結晶析出は防げるが印刷時に非画像
部の汚れをまねき、印刷物に地汚れを生じてしまう。
があるが、この場合結晶析出は防げるが印刷時に非画像
部の汚れをまねき、印刷物に地汚れを生じてしまう。
本発明は上述の問題を解決し、印刷物の地汚れが生じな
い平版印刷用処理液を提供するものである。
い平版印刷用処理液を提供するものである。
本発明の第一の目的紘エツチング・マシーン等の装置内
において結晶が析出せず、メンテナンス・フリーでかつ
長期間親水化力が変わらない処理液を提供するにある。
において結晶が析出せず、メンテナンス・フリーでかつ
長期間親水化力が変わらない処理液を提供するにある。
本発明の第二の目的はいかなる条件においてもインキ着
肉性が良好でかつ印刷汚れが発生しにくい処理液を提供
することにある。
肉性が良好でかつ印刷汚れが発生しにくい処理液を提供
することにある。
本発明の第三〇目的はインキ乗シが迅速でかつインキ付
着汚れ除去性にすぐれた処理液を提供するKある。
着汚れ除去性にすぐれた処理液を提供するKある。
(問題点を解決するための手段)
本発明の目的は、下記一般式(1)および(n)で示さ
れる繰り返し単位を少なくとも各々1つずつ含む共重合
体を少なくとも一種含有することを特徴とする平版印刷
用処理液により達成されることが見出された。
れる繰り返し単位を少なくとも各々1つずつ含む共重合
体を少なくとも一種含有することを特徴とする平版印刷
用処理液により達成されることが見出された。
一般式(1)
一般式(II)
犬山および(II)中、
R及びR2は各々水素原子又はメチル基を示し、R3は
水素原子、アルキル基(メチル、エチル、プロピル等の
如き炭素数6以下が好ましい)、アリール基(フェニル
、トリル等の如き炭素数8以下が、好ましい)、アラル
キル基(ベンジル等の如き炭素数8以下が好ましい)又
は無機塩基(例えばアルカリ金属、アンそニウム等)を
示す。
水素原子、アルキル基(メチル、エチル、プロピル等の
如き炭素数6以下が好ましい)、アリール基(フェニル
、トリル等の如き炭素数8以下が、好ましい)、アラル
キル基(ベンジル等の如き炭素数8以下が好ましい)又
は無機塩基(例えばアルカリ金属、アンそニウム等)を
示す。
M及びM2はそれぞれ水素原子、又はアルカリ金属若し
くはアンモニウム等の如き無機塩基を示すe 本発明に使用される共重合体は一般に一般式〔Dの成分
に対応する単量体(例えばアクリル酸、メタクリル酸、
イタコン酸等)と無水マレイン酸との共重合物を加水分
解あるいは加アルコール分解する等の公知の方法で得ら
れる。
くはアンモニウム等の如き無機塩基を示すe 本発明に使用される共重合体は一般に一般式〔Dの成分
に対応する単量体(例えばアクリル酸、メタクリル酸、
イタコン酸等)と無水マレイン酸との共重合物を加水分
解あるいは加アルコール分解する等の公知の方法で得ら
れる。
この共重合体における一般式(1)で示される繰り返し
単位対一般式(It)で示される繰り返し単位の比率は
重量比で9:1〜5:5の範囲が好ましい。
単位対一般式(It)で示される繰り返し単位の比率は
重量比で9:1〜5:5の範囲が好ましい。
又一般式(1)及び(n)で示される成分以外のものが
繰り返し単位として共重合されていても良いが、それら
はヒト90キシエチルメタアクリレート、アクリルアミ
ド、N−7クリnイルモルホリン、ヒドロキシエチルア
クリルアミr、スチレンスルホン酸等の如き水溶性のモ
ノマーを更に用いて共重合体を製造することによシ導入
するかあるいは酢酸ビニルとして共重合させた後加水分
解し、親水性基として導入する事が好ましい。
繰り返し単位として共重合されていても良いが、それら
はヒト90キシエチルメタアクリレート、アクリルアミ
ド、N−7クリnイルモルホリン、ヒドロキシエチルア
クリルアミr、スチレンスルホン酸等の如き水溶性のモ
ノマーを更に用いて共重合体を製造することによシ導入
するかあるいは酢酸ビニルとして共重合させた後加水分
解し、親水性基として導入する事が好ましい。
共重合体における一般式(1)及び(It)で示される
成分の和は好ましくは60重量%以下になる事はない。
成分の和は好ましくは60重量%以下になる事はない。
これらの共重合体の分子量は約LOOO〜IQOOOの
範囲が適しておシ、約2000〜a000の範囲が特に
好ましい。
範囲が適しておシ、約2000〜a000の範囲が特に
好ましい。
以下に本発明に使用される共重合体の例を示すが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
化合物例−1
化合物例−2
CB。
化合物例−3
化合物例−4
H3
化合物例−5
H3
化合物例−6
Os Na
化合物例−7
化合物例−8
これらの処理液中における使用量は0.01〜10重量
慢、よプ好ましくはαl〜5重量−である。
慢、よプ好ましくはαl〜5重量−である。
また上記共重合体は、単独で用いることも2種以上組み
合わせて用いることもでき、その使用量は0.0l−1
0重量−1よル好ましくは0.1〜5重量%である。
合わせて用いることもでき、その使用量は0.0l−1
0重量−1よル好ましくは0.1〜5重量%である。
親水化主剤は黄血塩およびリン酸塩、フィチン酸塩、ヘ
キサアンミンコバルト塩等、従来よシ公知の化合物がす
べて使用できる。黄血塩には黄血塩が醸化されることに
よ〕生成する赤血塩が一部含有され得る。
キサアンミンコバルト塩等、従来よシ公知の化合物がす
べて使用できる。黄血塩には黄血塩が醸化されることに
よ〕生成する赤血塩が一部含有され得る。
更にこの他にpIi調節剤、pH緩衝剤を併用すること
ができる。それらは既によく知られている無機酸、有機
酸およびそれらの塩を単独もしくは混合して用いる。例
えばギ酸、酢酸、酪酸、吉草酸、乳酸、酒石酸、プロピ
オン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、クルタル酸、
マレイン酸、フタル酸、シトラコン酸、イタコン酸、7
マル酸、トリカルバリル酸、ダリコール酸、プロピオン
酸、チオグリコール醗、リンゴ酸、クエン酸、グルコン
酸、ピルビン酸、クルコール酸、サルチル酸、アジピン
酸、ヒドロアクリル酸、グリセリン酸、p−)ルエンス
ルホン酸およびこれらの金属塩、有機アミン塩などであ
る。
ができる。それらは既によく知られている無機酸、有機
酸およびそれらの塩を単独もしくは混合して用いる。例
えばギ酸、酢酸、酪酸、吉草酸、乳酸、酒石酸、プロピ
オン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、クルタル酸、
マレイン酸、フタル酸、シトラコン酸、イタコン酸、7
マル酸、トリカルバリル酸、ダリコール酸、プロピオン
酸、チオグリコール醗、リンゴ酸、クエン酸、グルコン
酸、ピルビン酸、クルコール酸、サルチル酸、アジピン
酸、ヒドロアクリル酸、グリセリン酸、p−)ルエンス
ルホン酸およびこれらの金属塩、有機アミン塩などであ
る。
またEDTA−2Naのごときキレート剤、亜硫酸塩の
ごとき還元剤の添加も特に親水化主剤が黄血塩の場合は
親水化力を維持し沈澱を防止する上で好ましい。
ごとき還元剤の添加も特に親水化主剤が黄血塩の場合は
親水化力を維持し沈澱を防止する上で好ましい。
また主剤がフィチン酸塩の場合は更に特開昭60−23
099に示される水溶性カチオンポリマーと低分子電解
質化合物を加える事も、汚れを発生しにくくする上で望
ましい。
099に示される水溶性カチオンポリマーと低分子電解
質化合物を加える事も、汚れを発生しにくくする上で望
ましい。
また湿潤剤および濡れ剤としてエチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール、クリセリン、アラビア!ム、カルボ
キシメチルセルロース、アクリルポリマー、メタノール
、エタノール、イソおヨヒノルマルプロピルアルコール
、トリエタノールアミンなどを加える事ができる。
エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール、クリセリン、アラビア!ム、カルボ
キシメチルセルロース、アクリルポリマー、メタノール
、エタノール、イソおヨヒノルマルプロピルアルコール
、トリエタノールアミンなどを加える事ができる。
更にサリチル酸、フェノール、フェノールパラ安息香酸
ブチル、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾロン
−3−オン化合物等の防腐剤を加える事ができる。
ブチル、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾロン
−3−オン化合物等の防腐剤を加える事ができる。
加えて亜硝酸ナトリウム、亜硝酸ジシクロヘキシルアン
モニウム等の防錆剤を添加することもできる。
モニウム等の防錆剤を添加することもできる。
本発明になる平版印刷用処理液を印刷版に適用するに当
たっては、従来よシこの分野で使われているエツチング
プロ竜ツサーならばいずれの処理機に用いても良い。
たっては、従来よシこの分野で使われているエツチング
プロ竜ツサーならばいずれの処理機に用いても良い。
更にハンドエツチング用としても、指紋等の汚れ防止を
目的としたプリエツチング用としても十分にその特性を
活用することができる。
目的としたプリエツチング用としても十分にその特性を
活用することができる。
また本平版印刷用処理液は水で希釈することKよシオフ
セットマスターやPR版の湿し水として使う事もできる
。
セットマスターやPR版の湿し水として使う事もできる
。
以下に本発明の実施例を示す。ただしこれKよって本発
明が制約を受けるものではない。
明が制約を受けるものではない。
実施例1
フェロシアン化カリウム 20I?リン酸l
アンモニウム 6(1クエン酸2アンモニ
ウム 109亜硫酸ナトリウム
6.0IIDTA−2ナトリウム
0.49アクリル酸/無水マレイン酸共重合体
10j’ナトリウム塩 (重量比80/20 ) (分子量へ000〜IQOOO) 水 (合計) 1σooy本処方を
エツチング液とし更に水で7倍に希釈して湿し水とし、
富士フィルムELP−1Mark nシステムにて製版
したマスターをWLPインキ(墨、速乾)を用いハマダ
スター800で印刷した。刷シ出しから1万枚までまっ
たく汚れることなく鮮明に印刷できた。更にこのエツチ
ング液を補給しながら3000版の処理を1ケ月かけて
テストした。その結果初めの1版めと最後の3000版
目の印刷物の品質にはほとんど差が見られず、親水化力
、インキの着肉性岬の低下は認められなかった。エツチ
ング装置内には結晶、カス、沈澱などは#1とんどみら
れなかった。
アンモニウム 6(1クエン酸2アンモニ
ウム 109亜硫酸ナトリウム
6.0IIDTA−2ナトリウム
0.49アクリル酸/無水マレイン酸共重合体
10j’ナトリウム塩 (重量比80/20 ) (分子量へ000〜IQOOO) 水 (合計) 1σooy本処方を
エツチング液とし更に水で7倍に希釈して湿し水とし、
富士フィルムELP−1Mark nシステムにて製版
したマスターをWLPインキ(墨、速乾)を用いハマダ
スター800で印刷した。刷シ出しから1万枚までまっ
たく汚れることなく鮮明に印刷できた。更にこのエツチ
ング液を補給しながら3000版の処理を1ケ月かけて
テストした。その結果初めの1版めと最後の3000版
目の印刷物の品質にはほとんど差が見られず、親水化力
、インキの着肉性岬の低下は認められなかった。エツチ
ング装置内には結晶、カス、沈澱などは#1とんどみら
れなかった。
比較例1
実施例1の処方から、アクリル酸/無水マレイン酸共重
合体ナトリウム塩を除外した以外はすべて同様にしてテ
ストをおこなった。エツチング液を補給しながらの30
00版処理の1ケ月テストではスタート後3臼目からエ
ツチング装置内に結晶、カス、沈澱が発生し始め、その
後も更に増加して印刷版上に付着して印刷汚れとなった
。又1ケ月後には軸受部に結晶が析出堆積し、装置の駆
動に支障をきたした。
合体ナトリウム塩を除外した以外はすべて同様にしてテ
ストをおこなった。エツチング液を補給しながらの30
00版処理の1ケ月テストではスタート後3臼目からエ
ツチング装置内に結晶、カス、沈澱が発生し始め、その
後も更に増加して印刷版上に付着して印刷汚れとなった
。又1ケ月後には軸受部に結晶が析出堆積し、装置の駆
動に支障をきたした。
実施例2
実施例1におけるアクリル酸/無水マレイン酸共重合体
ナトリウム塩Q代わシに等量のアクリル酸/メタアクリ
ル酸/無水マレイン酸共重合体(重量比70/10/2
0 、分子量へ000〜IQOOO)を用いた他は実施
例1と同様にしてテストをおこなった。結果は実施例1
に劣らず満足すべきものであった。
ナトリウム塩Q代わシに等量のアクリル酸/メタアクリ
ル酸/無水マレイン酸共重合体(重量比70/10/2
0 、分子量へ000〜IQOOO)を用いた他は実施
例1と同様にしてテストをおこなった。結果は実施例1
に劣らず満足すべきものであった。
実施例3
実施例IKおけるアクリル酸/無水マレイン酸共重合体
ナトIJウム塩の代シに前記の化合物例−4で示される
共重合体8Iを用いた他は、実施例1と同様に製版し、
印刷した。
ナトIJウム塩の代シに前記の化合物例−4で示される
共重合体8Iを用いた他は、実施例1と同様に製版し、
印刷した。
更にこのエツチング液を補給しながら2週間で3000
版の処理を行なった結果、実施例1と同様の結果が得ら
れた。
版の処理を行なった結果、実施例1と同様の結果が得ら
れた。
実施例4
実施例1におけるアクリル酸/無水マレイン酸′共重合
体ナトリウム塩の代シに前記の化合物例−5で示される
共重合体201を用いた他は実施例1と同様に製版し、
印刷した。
体ナトリウム塩の代シに前記の化合物例−5で示される
共重合体201を用いた他は実施例1と同様に製版し、
印刷した。
更にこのエツチング液を補給しながら2週間で3000
版の処理を行なった結果、実施例1と同様の結果が得ら
れた。
版の処理を行なった結果、実施例1と同様の結果が得ら
れた。
実施例5
実施例1におけるアクリル酸/無水マレイン酸共重合体
ナトリウム塩の代シに前記化合物例−7で示される共重
合体を同量用いた他は実施例1と同様に製版し、印刷し
た。
ナトリウム塩の代シに前記化合物例−7で示される共重
合体を同量用いた他は実施例1と同様に製版し、印刷し
た。
更にこのエツチング液を補給しながら2週間で3000
版の処理を行なった結果、実施例1と同様の結果が得ら
れた。
版の処理を行なった結果、実施例1と同様の結果が得ら
れた。
(発明の効果)
本発明の処理液は製造適性に優れるとともにエツチング
装置内での結晶、カス、沈澱等の発生を防止するのに優
れた性能を有する。
装置内での結晶、カス、沈澱等の発生を防止するのに優
れた性能を有する。
本発明の平版印刷用処理液に含有される化合物は市販品
等も含まれ比較的容易に入城でき、優れた性能を有する
本処理液が容易に且つ経済的に調整できる。
等も含まれ比較的容易に入城でき、優れた性能を有する
本処理液が容易に且つ経済的に調整できる。
Claims (2)
- (1)下記一般式( I )および(II)で示される繰り
返し単位を少なくとも各々1つずつ含む共重合体を少な
くとも一種含有することを特徴とする平版印刷用処理液
。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(II) 式( I )および(II)中、 R_1及びR_2は各々水素原子又はメチル基を示し、
R_3は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基又は無機塩基を示し、M_1及びM_2は各々水素
原子又は無機塩基を示す。 - (2)黄血塩を主剤として含むことを特徴とする、特許
請求の範囲第1項記載の平版印刷用処理液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61245573A JPH07424B2 (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 平版印刷用処理液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61245573A JPH07424B2 (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 平版印刷用処理液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6399994A true JPS6399994A (ja) | 1988-05-02 |
| JPH07424B2 JPH07424B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=17135729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61245573A Expired - Fee Related JPH07424B2 (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 平版印刷用処理液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07424B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5215702A (en) * | 1975-07-28 | 1977-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Washing agent for surface of lithographic press plate |
| JPS5276101A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-27 | Ricoh Kk | Liquid for treating offset master |
| JPS58215399A (ja) * | 1982-06-09 | 1983-12-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | オフセツトマスタ−用親水化処理液 |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP61245573A patent/JPH07424B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5215702A (en) * | 1975-07-28 | 1977-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Washing agent for surface of lithographic press plate |
| JPS5276101A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-27 | Ricoh Kk | Liquid for treating offset master |
| JPS58215399A (ja) * | 1982-06-09 | 1983-12-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | オフセツトマスタ−用親水化処理液 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07424B2 (ja) | 1995-01-11 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |