JPS641896B2 - - Google Patents

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JPS641896B2
JPS641896B2 JP6393481A JP6393481A JPS641896B2 JP S641896 B2 JPS641896 B2 JP S641896B2 JP 6393481 A JP6393481 A JP 6393481A JP 6393481 A JP6393481 A JP 6393481A JP S641896 B2 JPS641896 B2 JP S641896B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
shadow
mask
annealing
belt
Prior art date
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Expired
Application number
JP6393481A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57180041A (en
Inventor
Masatoshi Akyama
Giichi Arita
Toshiaki Akatsu
Takao Enomoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP6393481A priority Critical patent/JPS57180041A/ja
Publication of JPS57180041A publication Critical patent/JPS57180041A/ja
Publication of JPS641896B2 publication Critical patent/JPS641896B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカラーブラウン管用シヤドウマスクの
製造方法に係り、特にシヤドウマスクのアニー
ル、レベラー方法に関するものである。
一般に、シヤドウマスクは次のような工程を経
て製造される。まず最初にエツチング方式により
製造されたフラツト原板をアニールする。アニー
ル後、レベラーを実施してその後プレスを行な
う。プレスで一定曲面に形成されたマスクを黒化
処理して、別に製作されたフレームと組み合せて
スポツト溶接を行ないシヤドウマスクとして完成
する。
従来、一般に前記アニールは第1図に示す方法
によつて行なわれる。マスク1とスペーサー2を
交互に重ねて、最後に全体を外包み用の鉄板3で
包んでパツク4とし、これをメツシユベルト5で
アニール炉6へ投入する。従つて、アニール完了
後、このパツク4を解体してマスク1を取り出す
作業が必要となる。このため、アニール工程と次
工程であるレベラー工程とを自動ラインで結ぶ事
が難しい原因となつている。
従つて、きわめて合理的な製造ラインをつくり
上げるために必要な条件は、マスク1の外包み用
鉄板3とスペーサー2の廃止である。従来廃止が
出来なかつた理由は、主としてマスク材に帰因し
ている。すなわち、従来、一般に使用されてきた
マスク材はハイカーボン材あるいはローカーボン
材、OCA材などのリムド鋼、セミ・キカツプド
鋼である。これらの材料を使用した場合には、ア
ニールの温度を下げる事が難しく、通常750℃程
度は少なくとも必要とされてきた。このため、ス
ペーサー2がないと、アニール完了後において、
マスク1同志が部分的に凝着を起し不良の発生に
つながるため、凝着防止を目的として、あらかじ
め特別な処理をほどこしたスペーサー2が使用さ
れてきた。外包み用鉄板3の目的は、酸化防止、
パツクの形態維持、取扱い時の容易化などであ
り、酸化防止はアニール炉6の冷却帯延長などで
対策可能であり、パツクの形態維持および取扱い
時の容易化は本質的に必要な条件ではないので、
スペーサー2が廃止できれば外包み鉄板3も廃止
可能となる性格のものである。
そこで、本発明は以上に述べた従来の欠点を解
決するために、まずマスク材の選定を行なつた。
その結果含有カーボン量が0.006重量%以下のア
ルミキルドOCA材(AK材)が適当であると判断
した。
その理由は、第1に適当な条件を選定すること
によりアニールの炉温を大巾に下げる事が可能で
あることである。従つて、凝着防止に大きい効果
がある。これは、実験的に確認した結果、アニー
ル温度は650〜750℃で、時間は2分〜10分で良品
が生産出来る。従つて、従来材に比較して100℃
程度の炉温低下が可能となる。ただし、AK材の
場合には炉内雰囲気に非常に鋭敏な特性を持つて
おり、露点を+5℃〜+25℃の範囲に維持して脱
炭雰囲気に保つ事が必要である。また、酸化防止
の点でH2の添加が好ましく、多過ぎると、前記
脱炭雰囲気を阻害することは次式からも明白であ
る。
H2O+CH2+CO 実験よりH2の比率は5〜20%が適当であると
判断した。
第2に、マスク材本来の特性として、AK材は
凝着を起しにくい材料であること。これは、実験
的に確認された事項であり、その理由は明らかで
はないが、AK材は従来材に比較して純度の高い
材料であり、その点が凝着を起しにくくしている
事と関係していると推定される。
さて、以上がAK材の使用条件であるが、次に
アニール炉にマスク材を投入する方法につき検討
した。その結果、最も合理的な投入方法は第2図
に示すようにマスク原板1を直接メツシユベルト
5上に一定のピツチで連続的に投入する方法であ
る。この方法であれば、技術的にもきわめて容易
であり、あらかじめ準備されたマスク原板より吸
着盤を利用した移載機などにより一定スピードで
移動しているメツシユベルト5上の一定位置に搬
送すればよい。この場合のピツチPについては、
スカート部1aの長さlより短かい事が望まし
い。その理由はアニール中に酸化反応が進行した
場合、P>lの場合にはマスク1の有孔部1bに
ムラが発生し、不良となる場合があるからであ
る。マスク1のスカート部1aが酸化しても、無
孔部分であるから酸化の程度が小であれば、実用
上は全く問題ないのである。
この方法で問題となるのは出口側である。出口
側で1枚ずつに分離する方法として、第3図の装
置を発明した。以下、第3図について説明する。
アニール炉6からマスク1が連続的に出てく
る。ここでマスク1にはAK材を使用しているの
で、凝着の発生する確率は非常に小さいが皆無と
は言えない。そこで、念の為に剥離装置7にかけ
て凝着した部分をはがす。剥離装置7としては、
周波数が20〜40Hzのバイブレーターもしくはレベ
ラーのようなもので軽く曲げ作用を与えることで
十分である。
次に、搬送ベルト8を経由してマグネツト9が
設けられたマグネツトベルト10に吸い上げられ
る。マグネツト9の先端において、マスク原板1
は下方に落下する。マグネツト9の先端の下には
搬送ベルト11が待つており、このベルト11で
受けたマスク1はすみやかにレベラー機12に搬
送される。図では、マグネツトベルト10、搬送
ベルト11は各1台しか示していないが、この組
み合せを2〜3式連続的に使用することでより確
実に原板を分離出来ることは言うまでもないこと
である。ここで、マグネツトベルト10の速度は
搬送ベルト11の速度より遅く設定する。
次に本発明の実施例としての設備レイアウト例
を第4図に示す。
AK材使用の原板スタツカー13より移載機1
4によつてメツシユベルト5上に一枚ずつ移載さ
れる。メツシユベルト5は例えば100mm/分程度
のスピードで連続駆動しており、移載インデツク
スを6秒とすると、マスクは10mmピツチで連続的
に重ねられた状態でアニール炉6中に進行する。
マスク原板の寸法(外形)は、20インチ球の場
合、約420×340mmであるから、短辺方向を進行方
向と平行にすると、前述の10mmピツチの場合断面
方向でみた場合34枚重ねとなる。
アニール炉3を出ると、第3図で説明したよう
に剥離機7でマスク間の凝着を完全に除去する。
次に搬送コンベアー8を経由してマグネツトコン
ベヤー10に吸着され、コンベヤーエンド端でマ
グネツト効果が減少してマスクは一枚ずつコンベ
ヤー11の上に落下する。マグネツトコンベヤー
10、コンベヤー11の組合せは1式ではマスク
が完全に離れるのは難しく、2〜3式設置するこ
とが望ましい。次に、レベラー機12に自動投入
されたマスクは、反転機15により向きを90゜も
しくは180回転してレベラー機16に投入される。
必要ならば、レベラー機を同様な方式でつなぐ事
が可能であるが、AK材の場合には2〜3台でほ
ぼ十分である。レベラー機16を出たマスクはス
タツカー17を経由してコンベヤー18によりプ
レス機19に、更にコンベヤー20により黒化炉
21へと自動移載される。従つて、本発明の方法
によれば、スタツカー13,17の能力を十分に
持たせることにより、長時間にわたる信頼性の高
い無人運転ラインがきわめて安い費用で製作可能
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のアニール投入方法を示す説明
図、第2図は本発明になるアニール投入方法の一
実施例を示す説明図、第3図は本発明の原板分離
装置を示す説明図、第4図は本発明の方法を使用
した装置のレイアウト例を示す平面図である。 1……マスク、5……メツシユベルト、6……
アニール炉、7……剥離機、10……マグネツト
ベルト、11……搬送コンベヤー、12……レベ
ラー機。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 アルミキルド材でつくられたシヤドウマスク
    のフラツト原板を一定のピツチで連続的にアニー
    ル炉のメツシユベルト上に投入する工程と、出口
    においてこれらの連続したフラツト原板の重なり
    を1枚ずつに分離してレベラー工程に送り込む工
    程とから成ることを特徴とするシヤドウマスクの
    製造方法。 2 アニール条件として、温度が650〜750℃、露
    点が5〜25℃のN2とH2の混合雰囲気中で、H2
    比率は5〜20%の範囲で、前記アニール温度での
    アニール時間が2〜10分としたことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載のシヤドウマスクの製
    造方法。 3 シヤドウマスク原板の連続した重なりから1
    枚ずつ分離する方法として、周波数が20〜40Hzで
    あるバイブレーターもしくは複数のローラーを使
    用して繰り返し曲げを行なうことによりシヤドウ
    マスク同志の凝着を剥離し、次に剥離したシヤド
    ウマスクをマグネツトベルトで吸い上げ、一定距
    離走行後マグネツト効果を減少して下段のベルト
    上に一枚ずつ落下させ、かつ前記マグネツトベル
    トの速度を前記下段のベルトの速度より小さくす
    ることにより、シヤドウマスクを一枚ずつ次工程
    のレベラーに送り込むことを特徴とした特許請求
    の範囲第1項記載のシヤドウマスクの製造方法。 4 シヤドウマスクの投入ピツチをシヤドウマス
    クのスカート部分の無孔部の長さより小さくする
    ことにより、マスク有孔部分の透過ムラの発生を
    防ぐ特許請求の範囲第1項記載のシヤドウマスク
    の製造方法。
JP6393481A 1981-04-30 1981-04-30 Production of shadow mask Granted JPS57180041A (en)

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JP6393481A JPS57180041A (en) 1981-04-30 1981-04-30 Production of shadow mask

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JP6393481A JPS57180041A (en) 1981-04-30 1981-04-30 Production of shadow mask

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JPS57180041A JPS57180041A (en) 1982-11-05
JPS641896B2 true JPS641896B2 (ja) 1989-01-13

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JP6393481A Granted JPS57180041A (en) 1981-04-30 1981-04-30 Production of shadow mask

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JPS57180041A (en) 1982-11-05

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