JPS642035U - - Google Patents

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JPS642035U
JPS642035U JP9136987U JP9136987U JPS642035U JP S642035 U JPS642035 U JP S642035U JP 9136987 U JP9136987 U JP 9136987U JP 9136987 U JP9136987 U JP 9136987U JP S642035 U JPS642035 U JP S642035U
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ozone
reaction treatment
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treatment apparatus
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  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、本考案のオゾン反応処理装置の一実
施例の概略図である。第２図は、本考案のオゾン
反応処理装置の、オゾン混合ガスの吹き出し口の
配置の一例を示す概略図である。第３図は、反応
器６の縦断面図である。 １：酸素または酸素を含む混合ガスのボンベ、
３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ：セラミツクスオゾナイ
ザー、４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ：高圧電源、５：
フイルター、６：反応器、７：バイパスライン、
９ａ，９ｂ：切り換えヴアルブ、１０：吹き出し
口。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 固体表面をオゾンを含有するガスと接触さ
    せて反応処理を行うオゾン反応処理装置において
    、オゾン発生器は少なくとも内面がセラミツクス
    で構成されている複数のオゾン発生器からなり、
    これらのオゾン発生器は直列及び／又は並列に接
    続されてあり、かつ少なくとも１個のオゾン発生
    器の高圧電源回路が独立して開閉可能に設けられ
    ていることを特徴とするオゾン反応処理装置。 (2) セラミツクスオゾナイザーと反応器の間に
    フイルターを設置したことを特徴とする実用新案
    登録の請求範囲第１項に記載のオゾン反応処理装
    置。 (3) 実用新案登録の請求範囲第１項又は第２項
    に記載のオゾン反応処理装置。 (4) オゾン含有ガスの吹き出し口が、ランダム
    に開いていることを特徴とする実用新案登録の請
    求範囲第１項又は第２項に記載のオゾン反応処理
    装置。
JP1987091369U 1987-06-16 1987-06-16 オゾン反応処理装置 Expired - Lifetime JPH0616891Y2 (ja)

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JP1987091369U JPH0616891Y2 (ja) 1987-06-16 1987-06-16 オゾン反応処理装置

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JPS642035U true JPS642035U (ja) 1989-01-09
JPH0616891Y2 JPH0616891Y2 (ja) 1994-05-02

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015213122A (ja) * 2014-05-02 2015-11-26 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS557564A (en) * 1978-06-30 1980-01-19 Sumitomo Precision Prod Co Ltd Ozonizer
JPS55126506A (en) * 1979-03-23 1980-09-30 Mitsubishi Electric Corp Ozonizer controlling system
JPS5962390A (ja) * 1982-09-30 1984-04-09 Toshiba Corp オゾン発生装置

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JPH0616891Y2 (ja) 1994-05-02

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