JPS642898B2 - - Google Patents

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JPS642898B2
JPS642898B2 JP59166675A JP16667584A JPS642898B2 JP S642898 B2 JPS642898 B2 JP S642898B2 JP 59166675 A JP59166675 A JP 59166675A JP 16667584 A JP16667584 A JP 16667584A JP S642898 B2 JPS642898 B2 JP S642898B2
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JP
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photoconductor
shield
circuit
piezoelectric
voltage
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Robaato Chanpion Jeemuzu
Arubaato Iigaa Kuraaku
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International Business Machines Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/50Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control
    • G03G15/5033Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control by measuring the photoconductor characteristics, e.g. temperature, or the characteristics of an image on the photoconductor
    • G03G15/5037Machine control of apparatus for electrographic processes using a charge pattern, e.g. regulating differents parts of the machine, multimode copiers, microprocessor control by measuring the photoconductor characteristics, e.g. temperature, or the characteristics of an image on the photoconductor the characteristics being an electrical parameter, e.g. voltage
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R29/00Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
    • G01R29/12Measuring electrostatic fields or voltage-potential
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R29/00Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
    • G01R29/24Arrangements for measuring quantities of charge

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Control Or Security For Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、静電的に帯電した表面の電圧レベル
を測定するプローブ及び回路に関する。更に具体
的に言うならば、本発明は、振動型のピエゾセラ
ミツク・プローブ及びこれの関連回路に関する。
このプローブは電子写真複写機及び印刷装置等に
おける静電的に帯電された表面の電荷を測定する
ために用いられる。
[従来技術] 電子写真装置においては、光導電体材料は比較
的一様な帯電レベル(例えば800ボルト)を受け
る。光導電性材料は絶縁体であるので、電荷はこ
れが光にさらされる迄光導電材料上に留まる。露
光されると、光導電体の露光部分は、略零ボルト
のレベル迄放電される。電子写真プロセスにおい
ては、この露光された光導電体は次に現像され、
そしてこの現像イメージから印刷物が作成され
る。
光導電性材料の静電特性が時間の経過に伴なつ
て変化するので、この静電写真装置の印刷の質は
時間と共に劣化する。又、光導電体を繰返し使用
することが表面特性を変化しそして印刷の質に影
響する。例えば、現像剤を繰り返し付着させるこ
とにより、トナー・フイルムが表面に生じ光を受
けにくくする。更に、現像イメージを複写紙に転
写する間複写紙が光導電体に押しつけられるため
に、光導電体の表面は粗くなりそして暗くされ
る。これらの要因は互いに加わり合つて光導電体
の帯電特性及び受光特性を変化させる。そして最
終的に光導電体を取替えねばならなくなる。
光導電体の長期の寿命に互つて良好な印刷品質
を維持するために、静電プローブが光導電体表面
の近くに配置されて静電的な帯電レベルの変動を
感知することが行なわれてきた。帯電レベルが大
きく変動したことが感知されると、帯電レベル、
照射光の強さ若しくは現像バイアス・レベルがこ
の変動を補償するように調整されることができ
る。このような技法は米国特許第4326796号に示
されている。
電子写真装置にこのような静電プローブを用い
ることにより理論的に利点が期待できるにもかか
わらず、このようなプローブは広く用いられてこ
なかつた。これの理由は、プローブ及びこれの関
連回路のコストが高いこと、又比較的検出能力が
低くて測定値を制限したことが挙げられる。本発
明は、いくつかの機能を単一の圧電屈曲
(piezoelectric bender)素子に結合してプロー
ブ自体のコストを下げそしてプローブの感度を改
善することによつて上記の問題を解決する。
静電表面上の電荷を測定するのにプローブを用
いる時に最初に必要なことは、測定量を較正する
ための基準を設定することである。導電性のドラ
ム・シールを有しこれによつて光導電体表面の連
続性を分断している型の電子写真装置において
は、ドラム・シールがアース・レベル又は基準レ
ベルにされているためこのドラム・シールの帯電
レベルが必要な基準値となる。光導電体表面が連
続している型の電子写真装置においては、光導電
体表面上の未知の電圧からプローブを瞬間的にシ
ールドし、そしてこれを基準電圧で置き代えるチ
ヨツピング方式がしばしば用いられる。この型の
方式では、未知電位の表面(光導電体)及び既知
電位の表面の間に振動感知電極が置かれる。電極
が振動するにつれて未知電位及び感知電極の間の
キヤパシタンスが変動して、電極に電流が流れ
る。この電位は既知表面電位をこれが光導電体電
位に等しくなるように増減するのに用いられる。
この時点で振動電極出力は零に減少される。
振動プローブは普通3つの素子即ち駆動素子、
感知素子及び帰還素子を有する。同調フオークは
振動子として通常使用され、そしてこの同調フオ
ークを発振状態にする駆動器として働く磁気若し
くはピエゾエレクトリツク(圧電)素子がとりつ
けられている。或る種の導体である感知素子が同
調フオークにとりつけられており、そして同調フ
オークの周波数を共振周波数に保つための帰還素
子がとりつけられる。
[発明が解決しようとする問題点] 従来のプローブは、構造が複雑でこのため製造
が困難でありコストが高かつた。更に、比較的大
型であるため被測定面に対して近接して配置する
ことが困難であり、このため感度が低かつた。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、プローブが既知電位のシールドによ
り囲まれた(但し感知窓の部分を除く)単一のピ
エゾセラミツク(圧電気強誘電磁器)の屈曲即ち
撓み(ベンダー)素子で形成されている所の静電
位測定のためのプローブを実現する。屈曲即ち撓
み素子は、駆動発振器に接続されたピエゾセラミ
ツク駆動層、感知導体及び駆動発振器に接続され
たピエゾセラミツク帰還層を有している。発振器
が電流をピエゾセラミツク駆動素子に供給する
と、屈曲即ち撓み素子は変形する。撓み素子の変
形によりピエゾセラミツク帰還素子が変形し、か
くして帰還層に電流を誘起する。誘起電流は発振
器に帰還されて発振器の出力を、屈曲即ち撓み素
子の固有共振周波数に同調させる。感知素子(振
動屈曲素子の1部分)は、測定すべき静電位の近
くに置かれ、そしてシールド及び被測定表面の間
で発生される電界内に位置決めされる。クリスタ
ル屈曲素子が振動して感知素子が光導電体に近づ
いたり遠のいたりするにつれてキヤパシタンス変
動に基づく電流が誘起される。かくして発生され
た電流は、増幅、フイルタ及び位相感知回路に印
加され、その結果、静電界の存在をなくするよう
にシールドの既知電位に対する調整がなされる。
これが生じると、感知素子に電流が誘起されなく
なり、そしてシールドの既知電位は被測定表面電
位に等しくなる。
構造が簡略された本発明のプローブを適切に動
作させるために、プローブ・シールドの既知電位
(例えば数百ボルト)に対して感知電圧(ミリボ
ルトのレンジの電圧)を浮かせることが必要であ
る。更に、感知電圧は発振器駆動電圧(何倍も大
きい電圧)からシールドされねばならず、そして
発振器駆動電圧自体も、シールドの既知電圧から
浮かせられねばならない。最後に、発振器駆動電
圧は、発振器電源の低インピーダンスを感知抵抗
から減結合させるため測定期間の間発振器から非
接続にされなければならない。
[実施例] 代表的な電子写真装置の主要部品を第2図に示
す。光導電体100は、矢印Aの方向に駆動され
るドラム101の外側表面に装着されている。光
導電体が帯電コロナ102を通過するにつれ、光
導電体の表面に比較的一様な静電荷がおかれる。
そして光導電体を露光ステーシヨン103におい
て選択的に放電させることにより静電潜像が形成
される。この潜像は現像装置104により現像さ
れ、そして転写コロナ105の作用のもとに通常
紙である受容体に転写される。クリーニング・コ
ロナ106はクリーニング・ステーシヨン107
に先行して配置されており、これらが光導電体を
クリーニングする。用紙は用紙通路108に沿つ
て矢印Bの方向に移動される。
プローブ・ユニツト109は、光導電体上に存
在する静電位のレベルを感知するために配置され
ている。プローブ・ユニツト109を露光ステー
シヨン103の後に配置することによつて、光導
電体上の完全に露光された電圧レベル及び未露光
電圧レベルを感知することが可能である。これら
感知された電圧レベルは制御回路に供給されて、
帯電コロナ102、露光ステーシヨン103にお
ける照射光の強さ若しくは現像装置104におけ
る現像バイアス電圧レベルを調整する。
第2図は、静電プローブ・ユニツト109を含
む測定システムを概略的に示す。クリスタル屈曲
即ち撓み素子10は光導電体100の表面に非常
に接近して位置決めされている。屈曲即ち撓み素
子10はシールド12により囲まれている。この
シールド12は、線49を介して高電圧源13か
らの既知出力電位に接続されている。クリスタル
屈曲素子10は駆動発振回路14から駆動され、
そしてこの屈曲素子10の感知部分において生じ
る電流は抵抗15に供給されて感知増幅器16に
より感知される。感知増幅器16の出力は回路1
7においてフイルタされそして駆動発振器の位相
と比較され、そして高電圧源13によりシールド
12に供給される電圧レベルを変える。このよう
にして、シールド12上の既知電位は、クリスタ
ル屈曲素子10が約零電位に迄減少させた静電界
において振動するようになる迄調整される。この
時点で屈曲素子10の感知部分で発生される電流
は実質的に零に迄減少され、そして高電圧源13
からの既知電圧は、測定すべき未知電圧に等しく
なる。
第1図の回路は、駆動発振回路14を駆動する
ための低電圧源回路18を含み、そしてこの回路
は接続線18aを介して電子写真装置の制御論理
装置19に接続され、そして電子写真装置の逐次
動作中の適切な時刻に光導電体の電圧の測定が行
なわれる。線13aは、高電圧シヤツト・ダウン
のためであり、そして線13bは、光導電体電圧
の測定値の装置による制御を通知する出力線であ
る。線13bは必要に応じてアナログ若しくはデ
イジタル信号を伝えることができる。
第3図は、多層構造のクリスタル屈曲素子10
を示す。層20及び22はピエゾセラミツク材料
(絶縁性の材料)で作られており、これらの間に
導電層24がはまされている。層20及び22は
薄い導電性被覆20a及び22aで覆われてい
る。このうち導電性被覆22aは領域28の部分
で除去されており、導電性被覆26が分離されて
いる。
使用中には、導電性被覆22aの表面は、被感
知表面に接近して位置決めされそしてこれは容量
性感知素子であり振動により電流が誘起される。
導電性表面22aは線23により導電層24に接
続され、そして次いで線25によりシールド12
に接続されている(即ち後に説明する如くシール
ド12の層32(第6図)に接続されている)。
シールド12は感知抵抗及び増幅器に接続され
る。
ピエゾセラミツク層20は駆動素子であり、そ
して線21を介して駆動発振回路14の出力へ接
続され、そして層24及び線25により発振回路
の共通電路への回路を完成する(第6図)。
導電性被覆26は帰還素子の一部分として働ら
く(ピエゾセラミツク層22と共に)、そして線
27により、駆動発振回路の入力に接続され、そ
して導電層24、線25及びシールド12を介し
て発振回路の共通路(第6図)に接続される。
第3図に示す型のピエゾセラミツク屈曲素子
は、商業的に入手可能であり、そして代表的には
音響信号の伝送、受信のためのプレート共振器と
して用いられる。これらは、テレビジヨン・セツ
トのチヤネルを変更するための遠隔制御装置で一
般的に用いられている。商業上入手可能な屈曲素
子は、領域28の部分の導電性被覆をエツチング
除去して、感知素子22aから離された帰還素子
26を与えることにより第3図の如き構成を与え
るよう作り替えられる。
第4図は、静電プローブ・ユニツトの側面の断
面図を示し、ここでクリスタル屈曲素子10は、
シールド12に対して装着されている。エポキシ
接着剤8及び適切なスペーサ9を含む適切な装着
手段を用いることができる。第4図から判ること
は、シールド12が3層構造であること即ち3種
類の材料、即ち外側導電性素子30、絶縁素子及
び内側導電性素子32から成ることが判るであろ
う。シールド12及び屈曲素子10の間に空気ギ
ヤツプ33が維持され、そして屈曲素子10は光
導電体100の表面の近くに位置決めされる。
第5図は、光導電体表面の側からプローブを見
た図である。第5図は、導電性被覆22aが、シ
ールド12の開孔(窓)を通して光導電体表面に
露出されていることを示している。
第6図は本発明のプローブ・ユニツトと共に用
いる駆動発振回路の詳細を示す。第6図の回路
は、第2番目のシールド45′が駆動発振回路の
囲りに設けられそして電圧フオロア回路7が感知
電流を感知増幅器16に送るために設けられてい
ることを除き、第2図の回路と同じである。
第2番目のシールド45′の目的は、駆動発振
回路の囲りに低インピーダンスのシールドを設
け、漂遊電圧信号の大きさを制限してこれがピツ
ク・アツプされて感知増幅器へ印加されないよう
にするためである。このようにして、フイルタ・
ステージの数を減少することができる。
第6図は、演算増幅器40が、線21を介して
駆動素子20へ出力駆動信号を与えることを示し
ている。帰還素子26から線27を介して演算増
幅器40へ正帰還がなされる。抵抗R1及びR2
はキヤパシタンスCと共に、1よりも大きい閉ル
ープ利得を与えるように帰還信号の位相関係を設
定するのに用いられる。この回路により、正帰還
が生じ、そしてこの回路はピエゾセラミツク屈曲
素子が共振周波数において発振を始める。
駆動発振回路は、電界効果トランジスタ
(FET)41,42及び43を介して低電圧源回
路(12ボルト)に接続されている。FET43は、
発振回路の共通路(コモン接続路)を高電圧源出
力に浮かして、高電圧基準で回路動作をさせるよ
うに働らく。高電圧信号は又線44を介して内側
のシールド45に接続されている。制御論理装置
19は測定期間の間にスイツチであるFET41,
42及び43を開き、かくしてこの回路は、感知
電位で浮くことになる。同様に、制御論理装置1
9は測定期間より前の適切な時刻に上記スイツチ
を閉じ、屈曲素子を発振状態にセツトしそしてエ
ネルギ貯蔵素子であるキヤパシタC1及びC2を
充電する。これらのキヤパシタは、低電圧源が切
り離された時に測定周期の間発振回路の駆動を維
持するのに用いられる。
光源46及び光検出器47から成る光学的アイ
ソレータがシールド45を位相検出回路17a内
に存在し得る低インピーダンス帰還路から絶縁す
るために用いられる。これは又、駆動発振回路で
用いられる高電圧コモン接続路を位相検出回路1
7aのアースがら絶縁するように働らく。同様に
第2番目の光学的アイソレータ48が用いられ、
感知増幅及びフイルタ回路の高電圧コモン接続路
を位相検出回路のアースから絶縁する。
次に、静電プローブ・ユニツト及び回路の動作
原理を説明する。感知負荷抵抗15は、高電位に
ある線49及びこれも又高電位にあるが感知素子
22aで生じた電流が流れる線50の間に接続さ
れている。かくして、感知抵抗15を流れる電流
は、感知素子22aに基づく線49及び50の間
の数ミリボルトの電位差だけにより発生される。
この様にして、数ミリボルトの感知電圧は約800
ボルトの高電圧信号にかさなり、これにもかかわ
らず検出されて感知増幅器16を適切に駆動す
る。駆動発振回路14は12ボルトの電位で動作
し、そして感知信号はわずか数ミリボルトである
ので、この感知信号は発振回路の駆動信号からシ
ールドされねばならない。この理由のために発振
回路はシールド45内に収容されている。シール
ド45は高電位にあり、かくして±12ボルトの発
振回路電圧は、高電圧信号上で浮いている。
感知素子22aにより発生された小さな感知電
圧によつて発生された電流を検出するために、感
知抵抗15は高インピーダンスの素子である。抵
抗15と並列にいかなる低インピーダンスが結合
することも防止するために、測定期間は低電圧源
回路はスイツチ43により切離される。又、光源
46及び光検出器47から成る光学的アイソレー
タが、位相検出回路内の低インピーダンスを減結
合するのに用いられる。
既述の如く、感知素子22aは光導電体表面に
近接して位置決めされ、従つて光導電体及びシー
ルド32(これはシールド45に接続されてい
る)に存在する高電位の間で生じる静電界内に位
置される。感知素子22aがこの静電界中で振動
するので、光導電体100に関する感知素子22
aのキヤパシタンスが変化する。キヤパシタンス
が変化するので、感知素子22aの電荷レベルは
式Q=CVに従つて変化する。ここでVは静電界
の値であり、Qは素子22aで生じた電荷であり
そしてCはキヤパシタンスである。感知素子22
aに生じた電荷Qの変動は電流を生じ、この電流
は線25、シールド板32及びシールド45を介
して感知抵抗15に結合される。高電圧源13に
より生じる出力信号が光導電性100の電圧に等
しくなる迄変化されると、静電界電位Vは実質的
になくなり、従つて振動感知素子22aに生じる
電流は零に迄減少される。この時点で線49上の
電圧は光導電体100の電圧を表わす。
素子22はピエゾセラミツク装置であるので、
素子22が駆動素子20により変形される時に素
子22に加わる物理的応力の結果として感知素子
22aに二次電圧が誘起される。このピエゾセラ
ミツクで誘起された電圧は、接続線23(第3
図)により素子22の両方の側(導体22a及び
24)が同電位にされているので、抵抗15に結
合されない。かくして、素子22における圧電効
果により素子22aにおいて発生される電流はク
リスタル22の両端で短絡される。
第5図において、光導電体11及びシールド3
2の間の静電界の影響外に帰還素子26が配置さ
れていることに注目されたい。この結果、素子2
6において発生される帰還電圧は圧電効果の結果
生じたものであり、静電界内での振動の結果生じ
たものではない。第3及び6図は、素子26は線
27を介して駆動発振回路の一方の側に接続され
そして導電層24及び線25を介してシールド3
2及び45へと駆動発振回路の他方の側(コモン
接続部)へ接続されていることを示している。こ
のようにして、ピエゾセラミツク素子を介する回
路が設けられ、従つてここで発生される圧電帰還
電圧は発振回路に帰還される。
本明細書で述べたのは、駆動、感知及び帰還能
力の全てを1体的に与える構造が簡単な市販の低
コストのピエゾセラミツク屈曲素子から製造され
ることのできる新規な静電プローブ・ユニツトで
ある。このプローブユニツトに対する駆動発振回
路はシールド内に収められ、そして高電位及び感
知信号に浮かされる。
光導電体上の電圧を感知するという点で静電プ
ロープ及びこれに関連回路が電子写真装置に関し
て説明されたが、この静電プローブ及び関連回路
は、静電界の正確な検出を必要とする分野に用い
られることができる。例えば、種々なプラスチツ
ク物品の製造に関する多くのプロセスにおいて
は、プラスチツクの表面の電荷の累積を感知する
ことが望まれる。従つて、この場合には本発明の
プローブ及び回路を用いることができる。
[発明の効果] 本発明は駆動素子、感知素子及び帰還素子とし
て全て一体的に働らく単一の屈曲素子より成る小
型で構造が簡単でコストの低い静電プローブを実
現する。
【図面の簡単な説明】
第1図は電子写真装置での使用に適する本発明
の測定システムの実施例のブロツク図、第2図は
電子写真装置の主要な構成素子を示す図、第3図
は本発明の静電プローブのクリスタル屈曲素子の
多層構造を示す図、第4図はシールド及び屈曲素
子を示す第3図のプローブの側面の断面を示す
図、第5図は第4図のプローブの正面を示す図、
第6図はプローブに接続される回路を示す図。 109……プローブ・ユニツト、20,22…
…ピエゾセラミツク材料層、24……導電層、2
0a,22a,26……導電性被覆、12……シ
ールド。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 第1及び第2の圧電層の間に内側導電層がは
    さまれ、上記第1及び第2の圧電層の夫々の外側
    表面に導電被覆が設けられ、上記第2の圧電層の
    導電被覆は第1部分及び第2部分に分割され、上
    記第1部分は感知素子として働らき、上記第2部
    分は圧電帰還素子の一部として働らき、上記第1
    圧電層の歪みにより振動する多層圧電撓み素子
    と、 上記感知素子として働らく第1部分を被測定電
    位面に近接対面させるため上記第1部分に対応し
    た開孔が設けられているほかは上記多層圧電撓み
    素子を完全にとり囲むシールド手段とを有するこ
    とを特徴とする静電位を測定するプローブ装置。
JP59166675A 1983-09-13 1984-08-10 静電プロ−ブ Granted JPS6067866A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/531,565 US4625176A (en) 1983-09-13 1983-09-13 Electrostatic probe
US531565 1983-09-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6067866A JPS6067866A (ja) 1985-04-18
JPS642898B2 true JPS642898B2 (ja) 1989-01-19

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ID=24118160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59166675A Granted JPS6067866A (ja) 1983-09-13 1984-08-10 静電プロ−ブ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4625176A (ja)
EP (1) EP0137148B1 (ja)
JP (1) JPS6067866A (ja)
DE (1) DE3475441D1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0716899U (ja) * 1993-08-31 1995-03-20 リズム時計工業株式会社 疑似扉構造

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4763078A (en) * 1986-03-27 1988-08-09 Williams Bruce T Sensor for electrostatic voltmeter
US4928057A (en) * 1986-10-28 1990-05-22 Williams Bruce T High speed D.C. non-contacting electrostatic voltage follower
JPH01170862A (ja) * 1987-12-05 1989-07-05 Bruce T Williams 静電電圧計用センサ
US4879577A (en) * 1988-04-19 1989-11-07 International Business Machines Corporation Method and apparatus for controlling the electrostatic parameters of an electrophotographic reproduction device
US5241276A (en) * 1989-04-28 1993-08-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Surface potential measuring system
US5070302A (en) * 1989-09-05 1991-12-03 Eastman Kodak Company Capacitance probe for measuring a width of a clearance between parts
US5164673A (en) * 1989-11-13 1992-11-17 Rosener Kirk W Induced electric field sensor
US5212451A (en) * 1992-03-09 1993-05-18 Xerox Corporation Single balanced beam electrostatic voltmeter modulator
GB9215254D0 (en) * 1992-07-17 1992-09-02 Cookson Group Plc Ceramic deflection device
GB2272976B (en) * 1992-11-30 1996-06-05 Stewart Hughes Ltd A sensor
JPH0823568B2 (ja) * 1993-04-14 1996-03-06 日本電気株式会社 電位センサ
WO1994029733A1 (de) * 1993-06-16 1994-12-22 Franz Winkler Verfahren zur kontaktlosen bestimmung elektrischer messgrössen
US5489850A (en) * 1994-05-09 1996-02-06 Xerox Corporation Balanced beam electrostatic voltmeter modulator employing a shielded electrode and carbon fiber conductors
US5594331A (en) * 1995-06-07 1997-01-14 Regents Of The University Of California Microelectromechanical powerline monitoring apparatus
US5617020A (en) * 1995-06-07 1997-04-01 Regents Of The University Of California Microelectromechanical-based power meter
US6300756B2 (en) * 1996-06-12 2001-10-09 The Trustees Of Princeton University Micro-mechanical probes for charge sensing
US5943223A (en) * 1997-10-15 1999-08-24 Reliance Electric Industrial Company Electric switches for reducing on-state power loss
JP2002039709A (ja) * 2000-07-28 2002-02-06 Mitsutoyo Corp 静電容量式プローブデバイス及び変位測定回路
US8222886B2 (en) 2008-06-18 2012-07-17 Hioki Denki Kabushiki Kaisha Voltage detecting apparatus and line voltage detecting apparatus having a detection electrode disposed facing a detected object
JP2010256125A (ja) * 2009-04-23 2010-11-11 Hioki Ee Corp 電圧検出装置および線間電圧検出装置
US7890005B2 (en) * 2009-01-07 2011-02-15 Infoprint Solutions Company, Llc Adjusting electrostatic charges used in a laser printer
US9638549B2 (en) * 2014-10-31 2017-05-02 Ememory Technology Inc. Integrated capacitance sensing module and associated system
TWI601962B (zh) * 2016-12-21 2017-10-11 財團法人工業技術研究院 靜電檢測系統與方法
CN111132437B (zh) * 2019-12-11 2023-06-06 维沃移动通信有限公司 一种移动终端
FR3108728B1 (fr) * 2020-03-26 2022-04-22 Office National Detudes Rech Aerospatiales Detecteur de champ electrique

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3379972A (en) * 1963-12-26 1968-04-23 Reliance Electric & Eng Co Non-contacting displacement gauge having a feedback means for controlling the vibration amplitude of the probe
US3739299A (en) * 1972-04-20 1973-06-12 Zenith Radio Corp Adjustable piezoelectric tunable oscillator for acoustic signal generating system
US3788739A (en) * 1972-06-21 1974-01-29 Xerox Corp Image compensation method and apparatus for electrophotographic devices
FR2252575B1 (ja) * 1973-11-23 1979-03-16 Lewiner Jacques
GB1542837A (en) * 1974-10-28 1979-03-28 Avo Ltd Voltage measuring apparatus
US4106869A (en) * 1976-11-26 1978-08-15 Xerox Corporation Distance compensated electrostatic voltmeter
US4147981A (en) * 1977-02-18 1979-04-03 Williams Bruce T Electrostatic voltmeter probe positioned on the outside of a housing and vibrated by a piezoelectric transducer within the housing
US4205267A (en) * 1977-11-03 1980-05-27 Williams Bruce T High speed electrostatic voltmeter
JPS5467475A (en) * 1977-11-09 1979-05-30 Canon Inc Surface potentiometer
US4267511A (en) * 1977-11-09 1981-05-12 Canon Kabushiki Kaisha Surface potentiometer
US4266870A (en) * 1978-03-09 1981-05-12 Ricoh Company, Ltd. Electrostatographic apparatus comprising developing bias means
US4189673A (en) * 1978-05-01 1980-02-19 Burroughs Corporation Pen-shaped precision multi-level current mode logic test probe
US4367948A (en) * 1979-04-24 1983-01-11 Canon Kabushiki Kaisha Surface potential electrometer and image forming apparatus using the same
US4326796A (en) * 1979-12-13 1982-04-27 International Business Machines Corporation Apparatus and method for measuring and maintaining copy quality in an electrophotographic copier
US4370616A (en) * 1980-08-15 1983-01-25 Williams Bruce T Low impedance electrostatic detector
US4473857A (en) * 1982-06-10 1984-09-25 Sencore, Inc. Input protection circuit for electronic instrument
US4458172A (en) * 1982-08-06 1984-07-03 Hitachi, Ltd. Ultrasonic probe

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0716899U (ja) * 1993-08-31 1995-03-20 リズム時計工業株式会社 疑似扉構造

Also Published As

Publication number Publication date
EP0137148A2 (en) 1985-04-17
EP0137148B1 (en) 1988-11-30
EP0137148A3 (en) 1986-06-04
JPS6067866A (ja) 1985-04-18
US4625176A (en) 1986-11-25
DE3475441D1 (en) 1989-01-05

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