JPS643139B2 - - Google Patents
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- JPS643139B2 JPS643139B2 JP59221221A JP22122184A JPS643139B2 JP S643139 B2 JPS643139 B2 JP S643139B2 JP 59221221 A JP59221221 A JP 59221221A JP 22122184 A JP22122184 A JP 22122184A JP S643139 B2 JPS643139 B2 JP S643139B2
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は比較的低濃度の元素状フツ素ガス（以
下フツ素ガスと略す）を含有するガスからフツ素
ガスを除去する方法に関するものである。 現在フツ素ガスは、プラスチツクの表面フツ素
化、各種フツ化物の合成及びエキシマレーザー等
にひんぱんに使用されているが、使用後の廃ガス
は、N2、Ar、He、Ne等の不活性ガスで希釈さ
れた希薄フツ素ガスの状態である事が多く、これ
らを安全な低濃度（許容濃度1ppm以下）まで除
去する必要があるが、本発明はその除去方法を提
供するものである。 従来技術 従来、フツ素ガスの除去方法としては、ソーダ
石灰、活性アルミナ等（以後中和剤という。）を
充てんした固定床に室温でフツ素ガス含有廃ガス
を通して脱フツ素する乾式法やKOH及びNaOH
水溶液等を用いたアルカリスクラバーにフツ素ガ
ス含有廃ガスを通して脱フツ素する湿式法等があ
つた。 これら種々の方法のうち中和剤を充てんした固
定床で室温で、フツ素ガス含有廃ガスを処理しよ
うとした場合、廃ガス中のフツ素濃度が、高濃度
の場合には中和剤との反応が容易に生ずるため、
処理後の排ガス中のフツ素ガス濃度を1ppm以下
にする事は可能であつた。しかし、廃ガス中のフ
ツ素ガス濃度が30vol％以下の低濃度になるに従
い、廃ガスの不活性ガス（N2、He、Ar、Ne等）
が相対的に増加し、低濃度のフツ素ガスとの反応
不足を生ずるため、排ガス中に1ppm以上の未反
応フツ素ガスが残存し、外気に該排ガスを放出し
た場合、大気汚染の原因になることは避けられな
かつた。 一方、アルカリスクラバータイプにおいては各
種濃度のフツ素ガスを含む廃ガスを許容濃度以下
に処理出来るものの、ガス線速度を数cm／秒とい
う小さな値しかとれないため装置が大型化し、さ
らに除害系内を真空状態に保つ事はできずもつぱ
ら加圧もしくは、若干減圧状態時のみ、有効であ
り、しかも吸収剤を溶液として取り扱かわねばな
らず取扱い上非常に不便なものであつた。 発明が解決しようとする問題点 本発明は廃ガス中に比較的低濃度で含有されて
いるフツ素ガスの除去において、乾式法における
除去効率の低さおよび湿式法における取扱い上の
不便さ、装置の大型化を解決するものである。 問題点を解決するための手段 本発明者らは、乾式法において、低濃度フツ素
ガスの中和剤への吸収率は、温度に強く依存する
ことを見出し、本発明に到達したものである。 即ち、排ガス中のフツ素濃度は、フツ素含有廃
ガスを中和剤を充てんした固定床で処理しようと
した場合、フツ素濃度、ガス線速度、中和
剤の床の厚さ、中和剤の温度の関数であると考
えられ、この中でも特に中和剤の温度が、実質上
フツ素ガス除去反応を強く支配する事が判明し
た。 本発明における中和剤の適用温度は70〜600℃
好ましくは100〜300℃の範囲であり、600℃を越
えると中和剤に吸着しているフツ素の脱離が若干
進行する傾向があり、排ガス中のフツ素濃度を
1ppm以下に保つ事が、非常に困難になると同時
に中和剤の固結が生じたり装置の内部腐食が進行
するので好ましくない。また、70℃未満ではフツ
素ガスの除去が十分におこなわれず、1ppm以下
とすることは困難である。 本発明で、使用する中和剤はソーダ石灰、活性
アルミナ、Ca（CH）2およびCaO等が用いられ、
形状はか粒状が好ましいが、粉末でも使用でき
る。また付着水分を除去するため100℃以上で数
時間加熱真空乾燥して、中和剤の附着水分を除去
した後使用するのが有利である。 本発明において、適用されるフツ素ガス含有廃
ガスの組成は、He、O2、N2、CO2、Ar、Neや
化学的に不活性なガス状フツ化物、たとえば、
CoF2o+2、SF6等の混合ガスが、一般的であり、
特にフツ素ガス濃度30vol％以下の廃ガスに有用
である。 以下、実施例を挙げ本発明を詳述する。 実施例 １ フツ素ガスをヘリウムガスで各濃度に希釈調整
したガス100を120℃で120分間加熱真空乾燥し
た５〜15メツシユの粒状ソーダ石灰175grを充て
んした内径2.5cm、長さ60cmの固定床式立型反応
器上部より、吸収線速度４ｍ／sec及び室温（25
℃）大気圧下で、供給して処理した。処理後のガ
ス中のフツ素ガス濃度を分析した結果を第１表に
示す。
下フツ素ガスと略す）を含有するガスからフツ素
ガスを除去する方法に関するものである。 現在フツ素ガスは、プラスチツクの表面フツ素
化、各種フツ化物の合成及びエキシマレーザー等
にひんぱんに使用されているが、使用後の廃ガス
は、N2、Ar、He、Ne等の不活性ガスで希釈さ
れた希薄フツ素ガスの状態である事が多く、これ
らを安全な低濃度（許容濃度1ppm以下）まで除
去する必要があるが、本発明はその除去方法を提
供するものである。 従来技術 従来、フツ素ガスの除去方法としては、ソーダ
石灰、活性アルミナ等（以後中和剤という。）を
充てんした固定床に室温でフツ素ガス含有廃ガス
を通して脱フツ素する乾式法やKOH及びNaOH
水溶液等を用いたアルカリスクラバーにフツ素ガ
ス含有廃ガスを通して脱フツ素する湿式法等があ
つた。 これら種々の方法のうち中和剤を充てんした固
定床で室温で、フツ素ガス含有廃ガスを処理しよ
うとした場合、廃ガス中のフツ素濃度が、高濃度
の場合には中和剤との反応が容易に生ずるため、
処理後の排ガス中のフツ素ガス濃度を1ppm以下
にする事は可能であつた。しかし、廃ガス中のフ
ツ素ガス濃度が30vol％以下の低濃度になるに従
い、廃ガスの不活性ガス（N2、He、Ar、Ne等）
が相対的に増加し、低濃度のフツ素ガスとの反応
不足を生ずるため、排ガス中に1ppm以上の未反
応フツ素ガスが残存し、外気に該排ガスを放出し
た場合、大気汚染の原因になることは避けられな
かつた。 一方、アルカリスクラバータイプにおいては各
種濃度のフツ素ガスを含む廃ガスを許容濃度以下
に処理出来るものの、ガス線速度を数cm／秒とい
う小さな値しかとれないため装置が大型化し、さ
らに除害系内を真空状態に保つ事はできずもつぱ
ら加圧もしくは、若干減圧状態時のみ、有効であ
り、しかも吸収剤を溶液として取り扱かわねばな
らず取扱い上非常に不便なものであつた。 発明が解決しようとする問題点 本発明は廃ガス中に比較的低濃度で含有されて
いるフツ素ガスの除去において、乾式法における
除去効率の低さおよび湿式法における取扱い上の
不便さ、装置の大型化を解決するものである。 問題点を解決するための手段 本発明者らは、乾式法において、低濃度フツ素
ガスの中和剤への吸収率は、温度に強く依存する
ことを見出し、本発明に到達したものである。 即ち、排ガス中のフツ素濃度は、フツ素含有廃
ガスを中和剤を充てんした固定床で処理しようと
した場合、フツ素濃度、ガス線速度、中和
剤の床の厚さ、中和剤の温度の関数であると考
えられ、この中でも特に中和剤の温度が、実質上
フツ素ガス除去反応を強く支配する事が判明し
た。 本発明における中和剤の適用温度は70〜600℃
好ましくは100〜300℃の範囲であり、600℃を越
えると中和剤に吸着しているフツ素の脱離が若干
進行する傾向があり、排ガス中のフツ素濃度を
1ppm以下に保つ事が、非常に困難になると同時
に中和剤の固結が生じたり装置の内部腐食が進行
するので好ましくない。また、70℃未満ではフツ
素ガスの除去が十分におこなわれず、1ppm以下
とすることは困難である。 本発明で、使用する中和剤はソーダ石灰、活性
アルミナ、Ca（CH）2およびCaO等が用いられ、
形状はか粒状が好ましいが、粉末でも使用でき
る。また付着水分を除去するため100℃以上で数
時間加熱真空乾燥して、中和剤の附着水分を除去
した後使用するのが有利である。 本発明において、適用されるフツ素ガス含有廃
ガスの組成は、He、O2、N2、CO2、Ar、Neや
化学的に不活性なガス状フツ化物、たとえば、
CoF2o+2、SF6等の混合ガスが、一般的であり、
特にフツ素ガス濃度30vol％以下の廃ガスに有用
である。 以下、実施例を挙げ本発明を詳述する。 実施例 １ フツ素ガスをヘリウムガスで各濃度に希釈調整
したガス100を120℃で120分間加熱真空乾燥し
た５〜15メツシユの粒状ソーダ石灰175grを充て
んした内径2.5cm、長さ60cmの固定床式立型反応
器上部より、吸収線速度４ｍ／sec及び室温（25
℃）大気圧下で、供給して処理した。処理後のガ
ス中のフツ素ガス濃度を分析した結果を第１表に
示す。
【表】
実施例 ２
フツ素ガスをヘリウムガスで1Vol％に希釈調
整したガス100を実施例１と同じ反応器及び中
和剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しな
がら種々の温度に調整して、大気圧下で供給し
た。得られたガスの分析値を第２表に示す。
整したガス100を実施例１と同じ反応器及び中
和剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しな
がら種々の温度に調整して、大気圧下で供給し
た。得られたガスの分析値を第２表に示す。
【表】
実施例 ３
フツ素ガスをヘリウムガスで各濃度に希釈調整
したガス100を実施例１と同じ反応器及び中和
剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しなが
ら、温度を200℃に保ちつつ、大気圧下で反応器
内線速度を5.0ｍ／secとして供給した。得られた
ガスの分析値を第３表に示す。
したガス100を実施例１と同じ反応器及び中和
剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しなが
ら、温度を200℃に保ちつつ、大気圧下で反応器
内線速度を5.0ｍ／secとして供給した。得られた
ガスの分析値を第３表に示す。
【表】
実施例 ４
フツ素ガスをヘリウムガスで1Vol％に希釈調
整したガス１を実施例１と同じ反応器及び中和
剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しなが
ら温度を250℃に保ちつつ、真空ポンプを使用し
て各減圧下で供給した。得られたガスの分析値を
第４表に示す。
整したガス１を実施例１と同じ反応器及び中和
剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しなが
ら温度を250℃に保ちつつ、真空ポンプを使用し
て各減圧下で供給した。得られたガスの分析値を
第４表に示す。
【表】
実施例 ５
フツ素ガスをヘリウムガスで1Vol％に希釈調
整したガス100を実施例１と同じ反応器及び中
和剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しな
がら温度を200℃に保ちつつ、種々の線速度に調
整して大気圧下で供給した。得られたガスの分析
値を第５表に示す。
整したガス100を実施例１と同じ反応器及び中
和剤を用いて、反応器外部をヒーターで加熱しな
がら温度を200℃に保ちつつ、種々の線速度に調
整して大気圧下で供給した。得られたガスの分析
値を第５表に示す。
【表】
実施例 ６
フツ素ガスをヘリウムガスで1Vol％に希釈調
整したガス100を１〜100メツシユの各中和剤を
120℃、120分加熱真空乾燥したもの200grを充て
んした実施例１と同じ反応器を用いて反応器外部
をヒーターで加熱しながら温度を250℃に保ちつ
つ、大気圧下で供給した。得られたガスの分析値
を第６表に示す。
整したガス100を１〜100メツシユの各中和剤を
120℃、120分加熱真空乾燥したもの200grを充て
んした実施例１と同じ反応器を用いて反応器外部
をヒーターで加熱しながら温度を250℃に保ちつ
つ、大気圧下で供給した。得られたガスの分析値
を第６表に示す。
【表】
実施例 ７
フツ素ガスを化学的に不活性なガス状フツ化物
（CF4、SF6）で、1Vol％に希釈調整したガス100
を実施例１と同じ反応器及び中和剤を用いて、
反応器外部をヒーターで加熱しながら温度を200
℃に保ちつつ、大気圧下で供給した。得られたガ
スの分析値を第７表に示す。
（CF4、SF6）で、1Vol％に希釈調整したガス100
を実施例１と同じ反応器及び中和剤を用いて、
反応器外部をヒーターで加熱しながら温度を200
℃に保ちつつ、大気圧下で供給した。得られたガ
スの分析値を第７表に示す。
【表】
発明の効果
本発明のフツ素ガス除去方法は、低濃度、特に
30Vol％以下のフツ素ガス含有廃ガスの処理に極
めて有効であり、処理後の排出ガス中のフツ素ガ
ス濃度を確実に0.1ppm以下とすることができる。 さらに、原料ガスを真空系で用いる必要のある
用途においては、真空ポンプのオイルが、フツ素
ガスにより変性を受けるため、真空ポンプより前
に除害する必要があるが、真空状態でも十分に除
去能を有するものである。
30Vol％以下のフツ素ガス含有廃ガスの処理に極
めて有効であり、処理後の排出ガス中のフツ素ガ
ス濃度を確実に0.1ppm以下とすることができる。 さらに、原料ガスを真空系で用いる必要のある
用途においては、真空ポンプのオイルが、フツ素
ガスにより変性を受けるため、真空ポンプより前
に除害する必要があるが、真空状態でも十分に除
去能を有するものである。
Claims (1)
- １ 30vol％以下のフツ素ガスを含む廃ガス中の
フツ素分を分離除去するに際して固形中和剤を70
℃以上に加熱しつつ、当該ガスをこれらに接触さ
せ該ガスの出口排ガスフツ素濃度を100ppb以下
に保つ事を特徴とするフツ素ガスの除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221221A JPS61101231A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | フツ素ガスの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221221A JPS61101231A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | フツ素ガスの除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61101231A JPS61101231A (ja) | 1986-05-20 |
| JPS643139B2 true JPS643139B2 (ja) | 1989-01-19 |
Family
ID=16763361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59221221A Granted JPS61101231A (ja) | 1984-10-23 | 1984-10-23 | フツ素ガスの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61101231A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1229210B (it) * | 1988-03-31 | 1991-07-25 | Central Glass Co Ltd | Metodo e dispositivo per analizzare gas contenenti fluoro. |
| US5417934A (en) * | 1988-06-04 | 1995-05-23 | Boc Limited | Dry exhaust gas conditioning |
| GB8813270D0 (en) * | 1988-06-04 | 1988-07-06 | Plasma Products Ltd | Dry exhaust gas conditioning |
| US6060034A (en) * | 1998-06-02 | 2000-05-09 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Abatement system for ClF3 containing exhaust gases |
| US6309618B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-10-30 | Showa Denko K. K. | Method for treating exhaust gas containing fluorine-containing interhalogen compound, and treating agent and treating apparatus |
| GB0520468D0 (en) | 2005-10-07 | 2005-11-16 | Boc Group Plc | Fluorine abatement |
| JPWO2017094418A1 (ja) * | 2015-12-01 | 2018-09-20 | 昭和電工株式会社 | フッ素元素を含有する排ガスの処理方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5210418A (en) * | 1975-07-10 | 1977-01-26 | Katayama Chem Works Co Ltd | Controlling agent against adhesive organisms living in the sea |
-
1984
- 1984-10-23 JP JP59221221A patent/JPS61101231A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61101231A (ja) | 1986-05-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |