JPS643182B2 - - Google Patents

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JPS643182B2
JPS643182B2 JP5528280A JP5528280A JPS643182B2 JP S643182 B2 JPS643182 B2 JP S643182B2 JP 5528280 A JP5528280 A JP 5528280A JP 5528280 A JP5528280 A JP 5528280A JP S643182 B2 JPS643182 B2 JP S643182B2
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JP
Japan
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dioxane
mixture
formula
product
chloride
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JP5528280A
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Japanese (ja)
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JPS55145646A (en
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Atsushaa Gerudo
Riidoru Kuruto
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Sandoz GmbH
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Biochemie GmbH
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Publication of JPS643182B2 publication Critical patent/JPS643182B2/ja
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  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、式 〔式中、Rは水素またはヒドロキシ、特に4―
ヒドロキシである。〕 の化合物の製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is based on the formula [In the formula, R is hydrogen or hydroxy, especially 4-
It is hydroxy. ] Concerning a method for producing the compound.

式の化合物は、不斉炭素原子を有し、ラセミ
DL形でまたは異性DもしくはL形で存在してよ
い。本発明は特にD形異性体に関するが、これに
限定されるものではない。
A compound of formula has an asymmetric carbon atom and is racemic
It may exist in the DL form or in the isomeric D or L form. The invention particularly relates to, but is not limited to, the D isomer.

式の化合物は、β―ラクタム抗生物質の製造
のための中間体として公知である。該化合物は例
えば、式A の6―アミノペニシラン酸(6―APA)または
その塩もしくは保護体と反応させて、式B 〔式中、Rは前記と同意義。〕 の有用なペニシリン類またはその塩もしくは保護
体(これは続く工程でまたは反応液中で脱保護さ
れてよい)を製造するのに用いることができる。
この方法における該化合物の使用については、多
くの刊行物に説明されている。D形異性体でRが
水素または4―ヒドロキシである当該化合物は、
周知の半合成ペニシリン類アンピシリンおよびア
モキシシリンに上記方法で変化させることができ
るので、特に有用なものである。
Compounds of the formula are known as intermediates for the production of β-lactam antibiotics. The compound may have, for example, formula A of formula B [In the formula, R has the same meaning as above. ] can be used to prepare useful penicillins or salts or protected forms thereof, which may be deprotected in a subsequent step or in the reaction solution.
The use of such compounds in this method has been described in many publications. The compound in which R is hydrogen or 4-hydroxy in the D isomer,
It is particularly useful because it can be converted into the well-known semi-synthetic penicillins ampicillin and amoxicillin by the above method.

同様に、当該化合物は、式C 〔式中、Xは水素、アセトキシ、または公知セ
フアロスポリン抗生物質で用いられる他の基(例
えば―SZ(Zはヘテロ環、例えば1,2,3―ト
リアゾール―5―イル))である。〕 の7―アミノセフアロスポラン酸類またはその誘
導体、またはその塩もしくは保護体と反応させ
て、式D 〔式中、RおよびXは前記と同意義。〕 の有用なセフアロスポリン類またはその塩もしく
は保護体(これは続く工程でまたは反応液中で脱
保護されてよい)を製造するのに用いることがで
きる。この方法における該化合物の使用について
も、多くの刊行物に説明されている。D形異性体
でRが水素または4―ヒドロキシである式の化
合物は、例えば周知の半合成セフアロスポリン抗
生物質セフアレキシン(R=H,X=H)、セフ
アログリシン(R=H,X=アセトキシ)または
セフアトリジン(R=4―OH,X=1,2,3
―トリアゾール―5―イル)に上記方法で変化さ
せることができるので、特に有用なものである。
Similarly, the compound has the formula C [wherein X is hydrogen, acetoxy, or other group used in known cephalosporin antibiotics, such as -SZ (Z is a heterocycle, such as 1,2,3-triazol-5-yl)]. ] with the 7-aminocephalosporanic acid or its derivative, or its salt or protected form to form [In the formula, R and X have the same meanings as above. ] can be used to prepare useful cephalosporins or salts or protected forms thereof, which may be deprotected in a subsequent step or in the reaction solution. The use of such compounds in this method has also been described in a number of publications. Compounds of the formula in which R is hydrogen or 4-hydroxy in the D isomer are, for example, the well-known semi-synthetic cephalosporin antibiotics cephalexin (R=H, X=H), cephaloglycin (R=H, X=acetoxy) or cefatridine (R=4-OH, X=1,2,3
-triazol-5-yl) by the above method, and is therefore particularly useful.

式の化合物、特にRが水素、殊に4―ヒドロ
キシであるものは、その製造においていくつかの
困難性がある。一般に使用されている公知の方法
は、Helv.Chim.Acta39.1525〜1528頁(1958年)
に述べられており、次の反応式に従つて進行す
る。
Compounds of the formula, especially those in which R is hydrogen, especially 4-hydroxy, present some difficulties in their preparation. A commonly used known method is Helv.Chim.Acta 39 . pp. 1525-1528 (1958)
The reaction proceeds according to the following reaction formula.

〔式中、Yはアミノ酸の残基である。〕 D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩の製造に使用されるこの方法
は、西ドイツ特許公開第2364192号に開示、特許
請求されており、これは無水条件下実施され、過
剰なホスゲンはLeuck無水物Fの形成後に反応混
合物から除去され、大過剰の塩化水素ガスが使用
される。同じ方法がD―(―)―4―ヒドロキシ
フエニルグリシルクロライド塩酸塩ジオキサン半
溶媒化物の製造に西ドイツ特許公開第2527235号
に開示、特許請求されている。
[Wherein, Y is an amino acid residue. ] The method used for the preparation of D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride is disclosed and claimed in DE 2364192, which is carried out under anhydrous conditions and Excess phosgene is removed from the reaction mixture after formation of Leuck anhydride F and a large excess of hydrogen chloride gas is used. The same process is disclosed and claimed in DE 25 27 235 for the preparation of D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride dioxane hemisolvate.

この公知方法にはいくつかの欠点がある。第一
は、ホスゲン(これは高い毒性である)を使用し
て反応を行わなければならないことの困難性であ
り、第二は、Leuck無水物F(これはホスゲンの
存在下で不安定であるので)の形成後に反応混合
物から過剰のホスゲンを除去する必要であること
であり、第三は、比較的強い条件(中間体Fの形
成には好ましくは60〜80℃)を採用しなければな
らず、このことは最終生成物の収量および純度を
低下させる傾向にあることである。
This known method has several drawbacks. The first is the difficulty of having to respond using Hosgen (which is high toxicity), and second is Leuck anhydride F (this is unstable in the existence of Hosgen. Thirdly, relatively strong conditions (preferably 60-80 °C for the formation of intermediate F) must be employed; First, this tends to reduce the yield and purity of the final product.

従来技術は、例えば英国特許第1241844号にも
開示されており、遊離のグリシンを五塩化リン次
いで塩化水素ガスと反応させてD―(―)―4―
ヒドロキシフエニルグリシルクロライド塩酸塩を
得る方法である。しかし、上記西ドイツ特許公開
第2527235号に説明されているように、この方法
は、ペニシリン類およびセフアロスポリン類の大
スケールの製造に使用できないような貧弱な物性
を有する生成物を形成する。更に、収量が必常に
低い。
The prior art is also disclosed, for example, in British Patent No. 1241844, in which free glycine is reacted with phosphorus pentachloride and then with hydrogen chloride gas.
This is a method for obtaining hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride. However, as explained in DE 25 27 235 mentioned above, this process forms products with such poor physical properties that they cannot be used for large scale production of penicillins and cephalosporins. Furthermore, the yield is necessarily low.

本発明の目的はこのような欠点を解消すること
にある。
The object of the present invention is to eliminate these drawbacks.

更に詳しくは、本発明は、式 〔式中、Rは前記と同意義。R1は直鎖または
分枝状の低級アルキルまたはベンジルである。〕 の化合物をチオニルクロライドと反応させ、そし
て得られる生成物を塩化水素ガスと反応させるこ
とから成る、式の化合物の製造法を提供する。
More specifically, the present invention provides the formula [In the formula, R has the same meaning as above. R 1 is straight or branched lower alkyl or benzyl. A process for preparing a compound of the formula comprises reacting the compound with thionyl chloride and reacting the resulting product with hydrogen chloride gas.

R1が低級アルキルである場合、これは炭素数
1〜6、特に1〜4を有することが好ましい。更
に好ましくは、分枝状の特にイソプロピルであ
る。
When R 1 is lower alkyl, it preferably has 1 to 6 carbon atoms, especially 1 to 4 carbon atoms. More preferred is branched, especially isopropyl.

本発明方法の第1段階は、無水条件下で、炭化
水素(例えばn―ヘキサン)、塩素化炭化水素
(例えばメチレンクロライド)、エステルまたはエ
ーテル(例えばジオキサン)のような不活性有機
溶媒中で実施するのが適当である。好適には、当
該段階は、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、
p―トルエンスルホン酸またはメタンスルホン酸
のような強度の存在下に実施する。酸は触媒量か
ら当量の範囲で存在させることが有利である。有
利には、チオニルクロライドを式の化合物、不
活性溶媒および強度の混合物に約0℃の温度で加
える。次いで、反応混合物は、反応が完結するま
で30℃から混合物の還流温度の温度で維持するこ
とが適当である。反応時間は典型的には、約1〜
4時間である。
The first step of the process of the invention is carried out under anhydrous conditions in an inert organic solvent such as a hydrocarbon (e.g. n-hexane), a chlorinated hydrocarbon (e.g. methylene chloride), an ester or an ether (e.g. dioxane). It is appropriate to do so. Preferably, the step comprises trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid,
It is carried out in the presence of strong acids such as p-toluenesulfonic acid or methanesulfonic acid. Advantageously, the acid is present in a catalytic to equivalent amount. Advantageously, thionyl chloride is added to a mixture of the compound of formula, an inert solvent and strength at a temperature of about 0°C. The reaction mixture is then suitably maintained at a temperature between 30° C. and the reflux temperature of the mixture until the reaction is complete. Reaction times typically range from about 1 to
It is 4 hours.

得られる中間生成物は、公知方法で反応混合物
から分離し、精製することができる。しかし、他
方では、精製することなく当該方法の第2段階に
使用されてもよい。この段階では、中間体または
これを含む混合物を、不活性溶媒、好ましくはエ
ーテル(例えばテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン)、ジアルキルエーテル(例えばジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジ―n―ブチル
エーテル、アニソール、テトラヒドロフラン)、
芳香族炭化水素(例えばトルエン)、エステル
(例えば酢酸ブチル)、または塩素化炭化水素(例
えばメチレンクロライド)中に溶かしこむのが適
当である。
The resulting intermediate product can be separated from the reaction mixture and purified using known methods. However, on the other hand, it may also be used in the second stage of the method without purification. In this step, the intermediate or the mixture containing it is dissolved in an inert solvent, preferably an ether (e.g. tetrahydrofuran, dioxane), a dialkyl ether (e.g. diethyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, anisole, tetrahydrofuran),
Suitable solutions are aromatic hydrocarbons (eg toluene), esters (eg butyl acetate) or chlorinated hydrocarbons (eg methylene chloride).

次いで、この混合物に塩化水素ガスを導入する
ことが適当である。この段階は、0℃から室温の
温度で実施することが有利である。好ましくは、
混合物が比較的低温、例えば−5〜+10℃で飽和
されるまで、塩化水素を最初の短期間に導入す
る。所望であれば、次いで混合物に所望生成物を
播種してもよい。好適には、次いで弱い流れの
HClガスを室温で適当時間、例えば15時間以下に
わたつて導入する。
It is then appropriate to introduce hydrogen chloride gas into this mixture. This step is advantageously carried out at temperatures from 0° C. to room temperature. Preferably,
Hydrogen chloride is introduced for a first short period of time until the mixture is saturated at a relatively low temperature, for example -5 to +10°C. If desired, the mixture may then be seeded with the desired product. Preferably, then a weak flow
HCl gas is introduced at room temperature over a suitable period of time, for example up to 15 hours.

得られる生成物は、通常の方法で分離、精製し
てよい。当該方法の第2段階の反応混合物が溶媒
または助溶媒としてジオキサンを含むときは、生
成物はジオキサン半溶媒化物の形成をもたらす。
しかし、ジオキサンが存在せず、溶媒が例えばジ
アルキルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソ
ール、芳香族炭化水素、エステルまたは塩素化炭
化水素から成るときは、溶媒化物のない生成物が
得られる。溶媒化物のない生成物を製造するのに
好ましい溶媒は、ジアルキルエーテル類(特にジ
エチル―、ジイソプロピル―またはジ―n―ブチ
ル―エーテル)、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、エステル類(好ましくは酢酸ブチル)、およ
び塩素化炭化水素類(例えばメチレンクロライ
ド)、またはそれらの混合物である。
The resulting product may be separated and purified by conventional methods. When the reaction mixture of the second stage of the process contains dioxane as a solvent or cosolvent, the product results in the formation of a dioxane hemisolvate.
However, when dioxane is not present and the solvent consists of, for example, dialkyl ethers, tetrahydrofuran, anisole, aromatic hydrocarbons, esters or chlorinated hydrocarbons, solvate-free products are obtained. Preferred solvents for producing solvate-free products are dialkyl ethers (especially diethyl-, diisopropyl- or di-n-butyl-ether), tetrahydrofuran, anisole, esters (preferably butyl acetate), and chlorine. hydrocarbons (eg methylene chloride), or mixtures thereof.

比較的純粋なまたは結晶性の、溶媒化物のない
D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシルク
ロライド塩酸塩は、この生成物が一見したところ
では西ドイツ特許公開第2364192号に説明されて
いるが、その中で特に述べられている手段はすべ
てジオキサンと共に操作され、得られる生成物は
すべての場合においてジオキサン半溶媒化物であ
ると考えられるので、実際には新規なものである
と考えられる。他の公知生成物は、非結晶性/不
純な生成物で得られる。
Relatively pure or crystalline, solvate-free D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride, this product is at first glance described in DE 2364192 However, it is believed that the procedures specifically mentioned therein are all operated with dioxane and that the products obtained are in all cases considered to be dioxane hemi-solvated products, so that they are in fact new. Other known products are obtained in amorphous/impure products.

本発明の方法は、Rがヒドロキシ、特に4―ヒ
ドロキシである式の化合物に適用するときに特
に、更に化合物D―(―)―4―ヒドロキシフエ
ニルグリシルクロライド塩酸塩に適用するときに
特に、新規であり且つ意外なものである。チオニ
ルクロライドまたは五塩化リンを使用するフエニ
ルグリシンおよび置換フエニルグリシンの酸クロ
ライド塩酸塩の製造法は公知であるが、この方法
は少なくともヒドロキシ置換フエニルグリシンに
は不満足な方法であることが、西ドイツ特許公開
第2364192号に述べられている。従つて、第1段
階で例えばチオニルクロライドそして第2段階で
HClガスを使用する本発明方法が最終生成物を好
収量および好純度でもたらすということは、予想
外のことである。
The method of the invention is especially useful when applied to compounds of the formula in which R is hydroxy, especially 4-hydroxy, and more particularly when applied to the compound D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride. , is new and unexpected. Although processes for the preparation of acid chloride hydrochlorides of phenylglycine and substituted phenylglycines using thionyl chloride or phosphorous pentachloride are known, this process is unsatisfactory, at least for hydroxy-substituted phenylglycines. It is described in West German Patent Publication No. 2364192. Thus, in the first stage for example thionyl chloride and in the second stage
It is unexpected that the process of the present invention using HCl gas provides the final product in good yield and purity.

また、本発明方法は、高い毒性物質のホスゲン
を使用せず、また第1段階後に該剤の除去を必要
としないことで、上述のホスゲンを使用する方法
に比べ明らかに有利である。
The process of the invention also has a clear advantage over the above-mentioned process using phosgene, in that it does not use the highly toxic substance phosgene and does not require removal of this agent after the first stage.

従来技術のホスゲン法も本発明方法もいずれも
ホスゲンとチオニルクロライドを交換できないと
いうことが判明したので、本発明方法は更に一層
驚くべきことである。従来法では、ホスゲンをチ
オニルクロライドと置きかえても反応しない。本
発明方法では、ホスゲンをチオニルクロライドに
代え使用しても反応しない。
The process of the invention is even more surprising since it has been found that neither the prior art phosgene process nor the process of the invention can exchange phosgene for thionyl chloride. In the conventional method, no reaction occurs even if phosgene is replaced with thionyl chloride. In the method of the present invention, no reaction occurs even if phosgene is used in place of thionyl chloride.

事実、本発明方法は、ホスゲン法とは異なつた
メカニズムと反応経路を有するものと考えられ
る。本発明方法に包含される中間体の正確な性質
は確立されていないが、少なくともRがヒドロキ
シである化合物の製造に適用するときに、ホス
ゲン法で形成されるLeuck無水物と同じでないこ
とが入手データによつて示される。
In fact, the method of the present invention is believed to have a different mechanism and reaction route than the phosgene method. Although the exact nature of the intermediates involved in the process of the invention has not been established, it is available that they are not the same as the Leuck anhydride formed in the phosgene process, at least when applied to the preparation of compounds in which R is hydroxy. Indicated by the data.

出発物質として使用する式のある種の化合
物、特にR1がイソプロピルである化合物は、新
規である。式の化合物は、例えば式 〔式中、Rは前記と同意義。〕 の化合物の塩を式 X―CO―O―R1 〔式中、R1は前記と同意義。Xは残基(例え
ば塩素、臭素、ヨウ素、アジドまたはトシル)で
ある。〕 の化合物と反応させて製造してもよい。
Certain compounds of the formula used as starting materials are novel, especially those in which R 1 is isopropyl. A compound of the formula may be, for example, a compound of the formula [In the formula, R has the same meaning as above. ] A salt of a compound of the formula X-CO-O-R 1 [wherein R 1 has the same meaning as above. X is a residue (eg chlorine, bromine, iodine, azide or tosyl). ] It may be produced by reacting with the compound.

当該方法は、例えば以後の実施例に示す如く公
知の方法で実施してよい。
This method may be carried out by known methods, for example as shown in the Examples below.

次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
る。
Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

実施例1: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 25gのD―(―)―N―イソプロポキシカルボ
ニル―4―ヒドロキシフエニルグリシンを250ml
の塩化メチレンに懸濁し、その混合物に16gのト
リクロロ酢酸を加える。16mlの塩化チオニルを氷
冷却および撹拌しながら加え、次いで10分後混合
物を室温まで加温せしめ、2〜3時間撹拌する
と、出発原料はもはやTLCで確認できなくなる。
溶媒の蒸発後、残渣を300mlの酢酸アルキルに採
取し、溶液を150mlの水次いで100mlの塩水で1回
づつ振とうさせる。Na2SO4で乾燥後、混合物を
蒸発させ、残渣を160mlの乾燥ジオキサンおよび
80mlのトルエンに採取する。氷冷却しながら、
HClガスを飽和になるまで混合物に導入する。播
種および室温で撹拌後、ほどなく結晶化が始ま
る。一晩中撹拌した後、表記化合物の結晶を取
し、IRで確認する。収率28%。
Example 1: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semi-solvated product) 25 g of D-(-)-N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine was added to 250 ml.
of methylene chloride and add 16 g of trichloroacetic acid to the mixture. 16 ml of thionyl chloride are added with ice cooling and stirring, and after 10 minutes the mixture is allowed to warm to room temperature and stirred for 2-3 hours, after which time the starting material is no longer visible by TLC.
After evaporation of the solvent, the residue is taken up in 300 ml of alkyl acetate and the solution is shaken once with 150 ml of water and then with 100 ml of brine. After drying with Na 2 SO 4 the mixture was evaporated and the residue was dissolved in 160 ml of dry dioxane and
Collect in 80 ml of toluene. While cooling with ice,
HCl gas is introduced into the mixture until saturation. Crystallization begins shortly after seeding and stirring at room temperature. After stirring overnight, crystals of the title compound are collected and confirmed by IR. Yield 28%.

実施例2: D―(―)―フエニルグリシルクロライド塩酸
塩(ジオキサン半溶媒化物) 2.5gのD―(―)―N―イソプロポキシフエ
ニルグリシン、25mlの塩化メチレン、0.8gのト
リクロロ酢酸および1.2mlの塩化チオニルを、実
施例1に記載と同様な反応に供する。3時間の反
応後、混合物を冷却し、5mlのジオキサンを加え
およびHClガスを飽和になるまで混合物に導入す
る。播種後、混合物を室温で数時間撹拌し、次い
で生成物を単離する。収率60%。
Example 2: D-(-)-phenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semisolvate) 2.5 g D-(-)-N-isopropoxyphenylglycine, 25 ml methylene chloride, 0.8 g trichloroacetic acid and 1.2 ml of thionyl chloride are subjected to a reaction similar to that described in Example 1. After 3 hours of reaction, the mixture is cooled, 5 ml of dioxane are added and HCl gas is introduced into the mixture until saturation. After seeding, the mixture is stirred for several hours at room temperature and the product is then isolated. Yield 60%.

実施例3: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 2.5gのD―(―)―N―イソプロポキシカル
ボニル―4―ヒドロキシフエニルグリシン、0.8
gのトリクロロ酢酸および25mlのn―ヘキサン
を、氷冷却しながら1.2mlの塩化チオニルと混合
し、次いで混合物を1時間還流する。混合物を回
転エバポレータで蒸発させ、残渣を16mlのジオキ
サンおよび8mlのトルエンに取る。冷却しなが
ら、HClガスで飽和、播種および室温で数時間撹
拌した後、生成物を取し、ジオキサン/トルエ
ン(1:1)で次いで少量の塩化メチレンで洗
い、乾燥する。生成物をIRおよびメチルエステ
ルの生成(TLC)で確認する。収率27%。
Example 3: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semisolvate) 2.5 g D-(-)-N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine, 0.8
g of trichloroacetic acid and 25 ml of n-hexane are mixed with 1.2 ml of thionyl chloride with ice cooling, and the mixture is then refluxed for 1 hour. The mixture is evaporated on a rotary evaporator and the residue is taken up in 16 ml of dioxane and 8 ml of toluene. After saturation with HCl gas, seeding with cooling and stirring for several hours at room temperature, the product is taken up, washed with dioxane/toluene (1:1) and then with a little methylene chloride and dried. The product is confirmed by IR and methyl ester formation (TLC). Yield 27%.

実施例4: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 12.5gのD―(―)―N―イソプロポキシカル
ボニル―4―ヒドロキシフエニルグリシンを125
mlの塩化メチレンに懸濁し、4gのトリクロロ酢
酸および8mlの塩化チオニルを加える。混合物を
撹拌および脱水しながら、適当な還流下5時間加
熱し、次いで5℃に冷却する。25mlのジオキサン
を加え、HClガスを30分導入する。播種後、混合
物を結晶化が始まるまで室温で撹拌する。次い
で、HClガスの弱流を6時間吹きこむ。表記化合
物の不活性ガス流フイルター(gas―flushed
filter)で取し、少量の塩化メチレンで洗い、
P2O5で乾燥する。収率78%。
Example 4: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semi-solvated product) 12.5 g of D-(-)-N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine was dissolved in 125
Suspend in ml of methylene chloride and add 4 g of trichloroacetic acid and 8 ml of thionyl chloride. The mixture is heated under suitable reflux for 5 hours with stirring and dehydration, then cooled to 5°C. Add 25 ml of dioxane and introduce HCl gas for 30 minutes. After seeding, the mixture is stirred at room temperature until crystallization begins. A weak stream of HCl gas is then blown for 6 hours. Inert gas-flushed filters for listed compounds
filter), wash with a small amount of methylene chloride,
Dry with P2O5 . Yield 78%.

実施例5: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 2.25gのD―(―)―N―メトキシカルボニル
―4―ヒドロキシフエニルグリシンを20mlのジオ
キサンに溶解し、0.02gのトリクロロ酢酸を加え
る。5mlのジオキサン中の0.8mlの塩化チオニル
を滴下後、混合物を脱水分しながら50℃で4時間
撹拌する。次いで、混合物を8mlのトルエンと混
合し、約0℃に冷却し、HClガスを1時間導入す
る。冷却手段を除去し、播種後、混合物を室温で
数時間撹拌する。沈殿物を取し、塩化メチレン
で洗い、乾燥する。収率27%。
Example 5: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semi-solvated product) 2.25 g of D-(-)-N-methoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine was dissolved in 20 ml of dioxane. and add 0.02 g of trichloroacetic acid. After dropwise addition of 0.8 ml of thionyl chloride in 5 ml of dioxane, the mixture is stirred at 50° C. for 4 hours with dehydration. The mixture is then mixed with 8 ml of toluene, cooled to about 0° C. and HCl gas is introduced for 1 hour. The cooling means are removed and the mixture is stirred at room temperature for several hours after seeding. The precipitate is removed, washed with methylene chloride, and dried. Yield 27%.

実施例6: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 2.25gのD―(―)―N―メトキシカルボニル
―4―ヒドロキシフエニルグリシンを25mlの塩化
メチレンに懸濁し、0.8mlのトリクロロ酢酸を加
え、そして1.4mlの塩化チオニルを撹拌しながら
室温で滴下する。混合物を脱水分および撹拌しな
がら、適当な還流下4〜5時間加熱する。混合物
を冷却し、7mlのジオキサンと混合し、次いで塩
化水素ガスを30分導入する。播種後、混合物を結
晶化が始まるまで20〜25℃で撹拌する。次いで、
HClガスの弱流を数時間吹きこみ、生成物を防湿
しながら取し、塩化メチレンで洗い、デシケイ
ターにてP2O5およびシリカゲルで乾燥する。収
率52%。
Example 6: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semisolvate) 2.25 g of D-(-)-N-methoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine was chlorinated with 25 ml of chloride. Suspend in methylene, add 0.8 ml trichloroacetic acid and add 1.4 ml thionyl chloride dropwise at room temperature with stirring. The mixture is dehydrated and heated under suitable reflux for 4-5 hours with stirring. The mixture is cooled and mixed with 7 ml of dioxane, then hydrogen chloride gas is introduced for 30 minutes. After seeding, the mixture is stirred at 20-25 °C until crystallization begins. Then,
A weak stream of HCl gas is blown in for several hours, and the product is removed under moisture protection, washed with methylene chloride, and dried in a desiccator over P 2 O 5 and silica gel. Yield 52%.

実施例7: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 2.4gのD―(―)―N―エトキシカルボニル
―4―ヒドロキシフエニルグリシンを、0.8gの
代わりに1.6gのトリクロロ酢酸を使用する以外
は、実施例6と同様に反応および作用せしめる。
収率30%。
Example 7: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semi-solvated product) 2.4 g of D-(-)-N-ethoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine was mixed with 0.8 g The reaction and operation were carried out in the same manner as in Example 6, except that 1.6 g of trichloroacetic acid was used instead of .
Yield 30%.

実施例:8 D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 2.7gのD―(―)―ターシヤリーブトキシカ
ルボニル―4―ヒドロキシフエニルグリシンを、
実施例6に記載と同様に反応させる。収率70%。
Example: 8 D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semi-solvated product) 2.7 g of D-(-)-tert-butoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine,
The reaction is carried out as described in Example 6. Yield 70%.

実施例9: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 3gのD―α―ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ―α―4―ヒドロキシフエニル酢酸を20mlのジ
オキサンに溶解し、0.05gのトリクロロ酢酸およ
び0.8mlの塩化チオニルを加え、混合物を脱水分
および磁気撹拌しながら、50℃で1時間保持す
る。8mlのトルエン添加後、混合物を−5℃に冷
却し、乾燥HClガスを1時間導入する。播種後、
混合物を室温で4時間撹拌すると、表記化合物が
分離し、これを単離して、真空デシケイター内に
てP2O5およびシリカゲル上で乾燥する。収率56
%。
Example 9: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semi-solvated product) 3 g of D-α-benzyloxycarbonylamino-α-4-hydroxyphenyl acetic acid was dissolved in 20 ml of dioxane. Dissolve, add 0.05 g trichloroacetic acid and 0.8 ml thionyl chloride, and keep the mixture at 50° C. for 1 hour with dehydration and magnetic stirring. After addition of 8 ml of toluene, the mixture is cooled to -5 DEG C. and dry HCl gas is introduced for 1 hour. After sowing,
The mixture is stirred at room temperature for 4 hours and the title compound separates, which is isolated and dried over P 2 O 5 and silica gel in a vacuum desiccator. Yield 56
%.

実施例10: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド―塩酸塩 125mlの塩化メチレン中の12.5gのD―(―)
―N―イソプロポキシカルボニル―4―ヒドロキ
シフエニルグリシンを、8gのトリクロロ酢酸お
よび8mlの塩化チオニルと40℃で3時間反応させ
る。混合物を氷水で冷却し、100mlのジイソプロ
ピルエーテルを加え、HClガスを混合物に1.5時
間導入する。室温で一晩撹拌して、十分に結晶し
た、非溶媒化物の生成物を得る。収率80%。
Example 10: D-(-)-4-Hydroxyphenylglycyl chloride-hydrochloride 12.5 g D-(-) in 125 ml methylene chloride
-N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine is reacted with 8 g of trichloroacetic acid and 8 ml of thionyl chloride at 40° C. for 3 hours. The mixture is cooled with ice water, 100 ml of diisopropyl ether are added and HCl gas is introduced into the mixture for 1.5 hours. Stir overnight at room temperature to obtain a well-crystalline, unsolvated product. Yield 80%.

実施例11: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩 実施例10に記載と同様な、塩化チオニルとD―
(―)―N―イソプロポキシカルボニル―4―ヒ
ドロキシフエニルグリシンの反応から生成する混
合物を、100mlのジ―N―ブチルエーテルと混合
し、次いでHClガスの導入によつて表記化合物に
変換する。収率81%。
Example 11: D-(-)-4-Hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride Thionyl chloride and D- as described in Example 10
The mixture resulting from the reaction of (-)-N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine is mixed with 100 ml of di-N-butyl ether and then converted to the title compound by introducing HCl gas. Yield 81%.

実施例12: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド―塩酸塩 100mlのジイソプロピルエーテルの代わりに、
75mlのアニソール、50mlのテトラハイドロフラン
または75mlのジエチルエーテルのいずれかを使用
する以外は、実施例10に記載のものと類似の方法
で、表記化合物を得る。
Example 12: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride-hydrochloride Instead of 100 ml of diisopropyl ether,
The title compound is obtained in a similar manner to that described in Example 10, but using either 75 ml of anisole, 50 ml of tetrahydrofuran or 75 ml of diethyl ether.

収率: a アニソール:47% b テトラハイドロフラン:72% c ジエチルエーテル:83% 実施例13: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩 38gのp―トルエンスルホン酸、125mlの塩化
メチレンおよび15mlの塩化チオニルの混合物を、
1〜1.5時間還流加熱する。50gのD―(―)―
N―イソプロポキシカルボニル―4―ヒドロキシ
フエニルグリシンおよび30mlの塩化チオニルを加
え、混合物を2時間加熱して緩和沸とうさせる。
200mlの乾燥酢酸ブチルを添加後、HClガスを冷
却しながら導入する。次いで、混合物を5℃で1
時間撹拌し、そしてHCl導入を繰返す(30分)。
更に5℃で30分撹拌および400〜500mlの乾燥メチ
レンの添加後、混合物を室温で15時間撹拌し、次
いで反応生成物を防湿しながら、ガラスフリツト
フイルター上で取する。塩化メチレンで洗浄
後、生成物を真空デシケイターにて室温で乾燥す
る。収率85%。
Yield: a Anisole: 47% b Tetrahydrofuran: 72% c Diethyl ether: 83% Example 13: D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride 38 g p-toluenesulfonic acid, 125 ml of methylene chloride and 15 ml of thionyl chloride,
Heat at reflux for 1-1.5 hours. 50g of D-(-)-
N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine and 30 ml of thionyl chloride are added and the mixture is heated to gentle boiling for 2 hours.
After adding 200 ml of dry butyl acetate, HCl gas is introduced with cooling. The mixture was then heated at 5°C for 1
Stir for an hour and repeat the HCl introduction (30 min).
After stirring for a further 30 minutes at 5 DEG C. and addition of 400-500 ml of dry methylene, the mixture is stirred for 15 hours at room temperature and the reaction product is then taken up on a glass fritted filter with protection from moisture. After washing with methylene chloride, the product is dried in a vacuum desiccator at room temperature. Yield 85%.

実施例14: D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物) 625mlの塩化メチレン中の190gのp―トルエン
スルホン酸/水を、119gの塩化チオニルと短時
間撹拌する。253gのD―(―)―N―イソプロ
ポキシカルボニル―4―ヒドロキシフエニルグリ
シンおよび238gの塩化チオニルを加え、混合物
を2.5〜3時間還流すると、しばらくしてから透
明溶液が生成する。混合物を0℃に冷却し、500
mlのジオキサンの添加後、約170gのHClガスを
外部冷却しながら導入して、HCl含有量を100
mg/mlとする。最後に、混合物を室温で10時間撹
拌し、沈殿生成物を取し、ジオキサン/塩化メ
チレン(1:1)次いで塩化メチレン洗い、そし
て24時間真空乾燥する。収率86%。
Example 14: D-(-)-4-Hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semisolvate) 190 g of p-toluenesulfonic acid/water in 625 ml of methylene chloride is briefly combined with 119 g of thionyl chloride. Stir. 253 g of D-(-)-N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine and 238 g of thionyl chloride are added and the mixture is refluxed for 2.5-3 hours, after some time a clear solution forms. Cool the mixture to 0 °C and incubate at 500 °C.
After addition of ml of dioxane, approximately 170 g of HCl gas is introduced with external cooling to bring the HCl content to 100
Set as mg/ml. Finally, the mixture is stirred at room temperature for 10 hours, the precipitated product is taken, washed with dioxane/methylene chloride (1:1) then methylene chloride, and dried under vacuum for 24 hours. Yield 86%.

次の実施例は、式〔〕の出発原料の製造を示
す。
The following examples demonstrate the preparation of starting materials of formula [].

a D―(―)―N―イソプロポキシカルボニル
―4―ヒドロキシフエニルグリシン (1) 40gのD―(―)―4―ヒドロキシフエニ
ルグリシンを320mlの水に懸濁し、80mlの水
中の9.6gの水酸化ナトリウムの溶液と室温
で混合する。PH値9.7の透明溶液が生成する。
更に、80mlの水中の9.9gの水酸化ナトリウ
ムおよび50mlのアセトン中の29.2mlのイソプ
ロピルクロロホルメートを、そのPHが9.5と
9.7の間にとどまり且つ温度が25℃を越えな
いように滴下して、2つの溶液を同時に調製
する。混合物を室温で2時間撹拌する。最終
PH9.6。アセトンを蒸発し、水溶液を50mlの
エーテルで抽出しおよび塩酸(1:1)で酸
性とし、そしてアシル化生成物を全量250ml
の酢酸エチルで3回に分けて抽出する。精製
抽出物を乾燥し、酢酸エチルをできる限り蒸
発する。残渣をクロロホルムに取り、加熱溶
解せしめ、そして混合物を蒸発させて酢酸エ
チルをできる限り除去する。残渣を150mlの
クロロホルムに取り、再度加熱せしめ、そし
て60mlのヘキサンを添加して結晶化を完了す
る。生成物は、乾燥後163〜164℃のm.p.を示
す。
a D-(-)-N-isopropoxycarbonyl-4-hydroxyphenylglycine (1) Suspend 40g of D-(-)-4-hydroxyphenylglycine in 320ml of water, and suspend 9.6g in 80ml of water. of sodium hydroxide at room temperature. A clear solution with a pH value of 9.7 is produced.
Furthermore, 9.9 g of sodium hydroxide in 80 ml of water and 29.2 ml of isopropyl chloroformate in 50 ml of acetone have a pH of 9.5.
The two solutions are prepared simultaneously by adding dropwise so that the temperature remains between 9.7 and 25°C. The mixture is stirred at room temperature for 2 hours. Final
PH9.6. The acetone was evaporated, the aqueous solution was extracted with 50 ml of ether and acidified with hydrochloric acid (1:1), and the acylated product was collected in a total volume of 250 ml.
Extract with 3 portions of ethyl acetate. The purified extract is dried and ethyl acetate is evaporated as much as possible. The residue is taken up in chloroform, dissolved by heating, and the mixture is evaporated to remove as much ethyl acetate as possible. The residue is taken up in 150 ml of chloroform, heated again and 60 ml of hexane is added to complete the crystallization. The product exhibits an mp of 163-164°C after drying.

(2) 上記実施例a)1の方法を、アセトンの蒸
発まで繰返す。生成溶液を過し、40mlの濃
アンモニアまたは当量の水酸化ナトリウムと
混合し、そして室温で1〜2時間保持せしめ
る。次いで、混合物を冷却および低速撹拌し
ながら、塩酸(1:1)で酸性化してPH1.5
〜2とし、そして濁り外観時に播種する。結
晶化が完了するまで撹拌を継続する。生成物
を滴定およびIRで確認する。
(2) Repeat the method of Example a) 1 above until the acetone evaporates. The resulting solution is filtered, mixed with 40 ml of concentrated ammonia or an equivalent amount of sodium hydroxide, and kept at room temperature for 1-2 hours. The mixture was then acidified with hydrochloric acid (1:1) to pH 1.5 while cooling and stirring at low speed.
~2 and sow when cloudy in appearance. Continue stirring until crystallization is complete. Confirm the product by titration and IR.

(3) 500gのD―(―)―4―ヒドロキシフエ
ニルグリシンを4の水に懸濁し、懸濁物を
2〜5℃に冷却し、そして1の水中の360
gの水酸化ナトリウムの溶液をゆつくりと滴
下する。温度を5℃またはそれ以下に維持す
る。次いで、900mlのイソプロピルクロロホ
ルメートを加える。再び、5℃の温度を維持
する。混合物を氷冷却しながら、1時間撹拌
し、次いで780mlの10N―NaOHを加える。
20℃で30分後、混合物を過し、液を濁つ
てくるまで硫酸で酸性とする。5〜10分の結
晶化時間後、更に硫酸を撹拌しながら加え、
2.0のPHに到達せしめる。結晶化を完結する
ため、混合物を氷冷却しながら15〜30分間撹
拌する。混合物を水洗し、次いで先ず50℃、
そして80〜90℃の真空乾燥棚付乾燥器にて乾
燥する。このようにして得られる表記化合物
はTLCに従つて純粋で、162〜164℃の融点
を示し、〔α〕20 D=−155゜(c=1、メタノー
ル中)の比旋光度(specific rotation)を有
する。
(3) Suspend 500 g of D-(-)-4-hydroxyphenylglycine in 4 of water, cool the suspension to 2-5°C, and
G of sodium hydroxide solution is slowly added dropwise. Maintain temperature at 5°C or below. Then add 900 ml of isopropyl chloroformate. Again, maintain a temperature of 5°C. The mixture is stirred for 1 hour with ice cooling and then 780 ml of 10N NaOH are added.
After 30 minutes at 20°C, the mixture is filtered and acidified with sulfuric acid until the liquid becomes cloudy. After 5-10 minutes of crystallization time, add more sulfuric acid with stirring,
Let it reach a pH of 2.0. The mixture is stirred with ice cooling for 15-30 minutes to complete crystallization. The mixture was washed with water and then first heated to 50°C.
Then, dry in a dryer with a vacuum drying shelf at 80 to 90°C. The title compound thus obtained is pure according to TLC, exhibiting a melting point of 162-164°C and a specific rotation of [α] 20 D = -155° (c = 1, in methanol). has.

b D―(―)―N―メトキシカルボニル―4―
ヒドロキシフエニルグリシン 320mlの水中の40gのD―(―)―4―ヒドロ
キシフエニルグリシンを、80mlの水中の9.6gの
NaOHの溶液と混合する。これに、80mlの水中
の9.6gのNaOHと40mlのアセトン中の19.8mlの
メチルクロロホルメートの混合物を、水冷しなが
ら滴下して、9.5〜9.8のPHを維持する。付加的
に、35mlの3N―NaOHが必要である。室温で2
時間撹拌後、最終PHは9.5である。アセトンを蒸
発し、混合物を過し、そして水性層を塩酸
(1:1)で酸性とし、酢酸エチルで抽出する。
混合物を蒸発させ、残渣をクロロホルム/ヘキサ
ンより再結晶して、純粋な表記化合物を得る。融
点134〜137℃。
b D-(-)-N-methoxycarbonyl-4-
Hydroxyphenylglycine 40g of D-(-)-4-hydroxyphenylglycine in 320ml of water is mixed with 9.6g of D-(-)-4-hydroxyphenylglycine in 80ml of water.
Mix with a solution of NaOH. To this is added a mixture of 9.6 g NaOH in 80 ml water and 19.8 ml methyl chloroformate in 40 ml acetone dropwise with water cooling to maintain a pH of 9.5-9.8. Additionally, 35 ml of 3N-NaOH are required. 2 at room temperature
After stirring for an hour, the final pH is 9.5. The acetone is evaporated, the mixture is filtered and the aqueous layer is acidified with hydrochloric acid (1:1) and extracted with ethyl acetate.
The mixture is evaporated and the residue is recrystallized from chloroform/hexane to give the pure title compound. Melting point 134-137℃.

c D―(―)―N―イソプロポキシカルボニル
―フエニルグリシン 113.1gのD―(―)―フエニルグリシンを1
の水に懸濁し、50%NaOHを冷却(冷水)お
よび撹拌しながら添加してPHを10.2〜10.4に調整
する。225mlのイソプロピルクロロホルメートお
よび50%水酸化ナトリウムを同時に加え、上記PH
を維持する。次いで、反応混合物をPH12〜13のア
ルカリ性とし、このPHで40分間撹拌する。実際に
透明な溶液を、濁つてくるまで冷却しながら濃塩
酸で酸性とする。混合物は播種されて結晶し始
め、そして20分後にPHは更に2.0まで下がる。30
分の結晶時間後、混合物を過し、残渣を100ml
の水で5回洗い、そして50〜60℃の真空乾燥棚付
乾燥器にてシリカゲル上で乾燥する。摩擦後、更
に60〜70℃で16〜17時間乾燥する。M.p116〜120
℃(酢酸エチルより)。
c D-(-)-N-isopropoxycarbonyl-phenylglycine 113.1g of D-(-)-phenylglycine 1
of water and adjust the pH to 10.2-10.4 by adding 50% NaOH with cooling (cold water) and stirring. Add 225ml of isopropyl chloroformate and 50% sodium hydroxide at the same time and adjust the above pH.
maintain. The reaction mixture is then made alkaline to a pH of 12-13 and stirred at this pH for 40 minutes. In practice, a clear solution is acidified with concentrated hydrochloric acid while cooling until it becomes cloudy. The mixture begins to seed and crystallize, and after 20 minutes the PH further drops to 2.0. 30
After a crystallization time of 1 min, filter the mixture and remove 100 ml of the residue.
of water five times and dried on silica gel in a dryer with a vacuum drying shelf at 50-60°C. After rubbing, it is further dried at 60-70°C for 16-17 hours. M.p116~120
°C (from ethyl acetate).

先の実施例で使用する式〔〕の他の化合物
は、上記実施例a)〜c)で記載したものと類似
の方法で得てもよい。
Other compounds of formula [ ] used in the previous examples may be obtained in analogous manner to those described in Examples a) to c) above.

D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシル
クロライド塩酸塩(ジオキサン半溶媒化物)の特
性表示: 〔α〕20 D=−95゜(c=1,1N―HCl)。
Characteristics of D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride (dioxane semi-solvated product): [α] 20 D = -95° (c = 1,1N-HCl).

溶媒量(gc)=ジオキサン16%,CH2Cl20.2%。Solvent amount (gc) = dioxane 16%, CH 2 Cl 2 0.2%.

IRピークcm-1:3280(s),1770(s),1735(s),
1210(s),1170(s),865(s)。
IR peak cm -1 : 3280 (s), 1770 (s), 1735 (s),
1210(s), 1170(s), 865(s).

非溶媒化物結晶のD―(―)―ヒドロキシフエ
ニルグリシルクロライド―塩酸塩の特性表示: 〔α〕20 D=−112(c=1,1N―HCl)。
Characteristics of unsolvated crystalline D-(-)-hydroxyphenylglycyl chloride-hydrochloride: [α] 20 D = -112 (c = 1, 1N-HCl).

溶媒量(gc)=酢酸ブチル0.5%,CH2Cl20.2%。Solvent amount (gc) = butyl acetate 0.5%, CH 2 Cl 2 0.2%.

IRピークcm-1=3000(Br),1735(s),1170(s),
830。
IR peak cm -1 = 3000 (Br), 1735 (s), 1170 (s),
830.

M.pは分解のため測定不可能。 M.p cannot be measured due to decomposition.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、Rは水素またはヒドロキシ、R1は直
鎖または分枝状低級アルキルまたはベンジルであ
る。〕 の化合物をチオニルクロライドと反応させ、そし
て生成物を塩化水素ガスと反応させることから成
る式 〔式中、Rは前記と同意義。〕 の化合物の製造法。 2 チオニルクロライドとの反応を強酸の存在下
に実施する上記第1項の方法。 3 強酸がトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、
p―トルエンスルホン酸またはメタンスルホン酸
である上記第2項の方法。 4 塩化水素ガスとの反応を不活性ジオキサン含
有溶媒化物中で実施して、ジオキサン半溶媒化物
の形態で生成物を得る上記第1項〜第3項のいず
れか一の方法。 5 D―(―)―4―ヒドロキシフエニルグリシ
ルクロライド塩酸塩ジオキサン半溶媒化物の製造
のための上記第4項の方法。 6 塩化水素ガスとの反応をジオキサンを含有し
ない不活性溶媒中で実施して、溶媒化物のない形
態で生成物を得る上記第1項〜第3項のいずれか
一の方法。 7 不活性溶媒がジアルキルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、アニソール、芳香族炭化水素、エス
テルまたは塩素化炭化水素から成る上記第6項の
方法。 8 溶媒化物のないD―(―)―4―ヒドロキシ
フエニルグリシルクロライド塩酸塩の製造のため
の上記第6項または第7項の方法。
[Claims] 1 formula [In the formula, R is hydrogen or hydroxy, and R 1 is linear or branched lower alkyl or benzyl. ] consisting of reacting the compound with thionyl chloride and reacting the product with hydrogen chloride gas [In the formula, R has the same meaning as above. ] Method for producing the compound. 2. The method of item 1 above, wherein the reaction with thionyl chloride is carried out in the presence of a strong acid. 3 Strong acids include trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid,
The method according to the above item 2, which is p-toluenesulfonic acid or methanesulfonic acid. 4. The method according to any one of items 1 to 3 above, wherein the reaction with hydrogen chloride gas is carried out in an inert dioxane-containing solvate to obtain the product in the form of a dioxane hemi-solvate. 5. The method of item 4 above for producing D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride dioxane hemisolvate. 6. The method according to any one of paragraphs 1 to 3 above, wherein the reaction with hydrogen chloride gas is carried out in an inert solvent that does not contain dioxane to obtain the product in a solvate-free form. 7. The method of item 6 above, wherein the inert solvent comprises a dialkyl ether, tetrahydrofuran, anisole, aromatic hydrocarbon, ester or chlorinated hydrocarbon. 8. The method of item 6 or 7 above for the production of solvate-free D-(-)-4-hydroxyphenylglycyl chloride hydrochloride.
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