KR100789727B1 - Flat Panel Cleaning Device - Google Patents

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이정수
윤태열
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세메스 주식회사
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Abstract

개시된 평판 패널 세정 장치는 몸체, 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축, 회전축과 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 저면에 다수의 브러시모가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시, 회전축을 둘러싸면서 디스크 브러시가 위치하는 몸체의 내측면에 접하도록 배치되고 몸체의 내부로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 제1 액막이 및 회전축을 둘러싸면서 제1 액막이와 면접함에 의해 결합하는 둘 이상의 제2 액막이를 포함한다. 따라서, 평판 패널 세정 장치로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하기 위하여 평판 패널 세정 장치는 복수 개의 액막이를 포함하고, 그 중에서 적어도 하나 이상의 액막이를 이중 액막이로 구성함으로써, 평판 패널 세정 장치로부터 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 차단할 수 있다. The disclosed flat panel cleaning apparatus includes a body, a rotating shaft having a long cylindrical shape, connected to the rotating shaft, and a disk-shaped disk brush having a plurality of brush hairs formed on a bottom thereof to clean the flat panel, and surrounding the rotating shaft. A first liquid film disposed to contact the inner surface of the body where the disk brush is located and preventing the cleaning liquid from leaking from the inside of the body, and two or more second liquid films joined by an interview with the first liquid film surrounding the rotating shaft. . Therefore, in order to prevent the cleaning liquid from leaking from the flat panel cleaning apparatus, the flat panel cleaning apparatus includes a plurality of liquid membranes, and at least one of the liquid membranes is constituted by a double liquid membrane, whereby the cleaning liquid leaks from the flat panel cleaning apparatus. Can be blocked efficiently.

Description

평판 패널 세정 장치{APPARATUS OF CLEANING FLAT PANEL} Flat panel cleaning device {APPARATUS OF CLEANING FLAT PANEL}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치들을 나타낸 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic diagram illustrating flat panel cleaning apparatuses according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이다. FIG. 2 is a configuration diagram illustrating the flat panel cleaning apparatus of FIG. 1 in detail.

도 3은 도 1의 액막이들을 구체적으로 나타내는 절개 사시도이다. 3 is a cutaway perspective view illustrating the liquid barriers of FIG. 1 in detail.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 평판 패널 세정 장치 200 : 세정 챔버100 flat panel cleaning device 200 cleaning chamber

210 : 몸체 300 : 회전축210: body 300: rotation axis

310 : 구동부 400 : 디스크 브러시310: driving unit 400: disc brush

410 : 브러시모 420 : 세정액 공급부410: brush head 420: cleaning liquid supply unit

500 : 액막이 510 : 제1 액막이500: liquid film 510: first liquid film

520 : 제2 액막이 530 : 제3 액막이520: second liquid film 530: third liquid film

540 : 오링540: O-ring

본 발명은 평판 패널 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 패널세정 장치로부터 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 방지하기 위한 평판 패널 세정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a flat panel cleaning apparatus, and more particularly, to a flat panel cleaning apparatus for efficiently preventing the cleaning liquid from leaking from the flat panel cleaning apparatus.

최근에는, 고품위(high definition) TV 등의 새로운 첨단 영상 기기가 개발됨에 따라, 브라운관(CRT)을 대신하여 평판 패널 표시장치에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 일반적으로, 평판 패널 표시장치는 다양한 영상들을 시각적으로 표시하는 장치로서 액정표시장치(liquid crystal display device : LCD), PDP(plasma display panel) 장치, ELD(electro luminescence display) 등을 포함한다. 특히, 평판 패널 표시장치는 얇고 가벼우며, 낮은 구동전압 및 낮은 소비전력을 갖는 장점이 있어, 산업 전반에 걸쳐 광범위하게 사용되고 있다. Recently, with the development of new advanced imaging devices such as high definition TVs, research on flat panel displays instead of CRTs has been actively conducted. In general, a flat panel display device is a device for visually displaying various images and includes a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP) device, an electro luminescence display (ELD), and the like. In particular, the flat panel display device is thin and light, has a low driving voltage and low power consumption, and thus is widely used throughout the industry.

이러한 평판 패널 표시장치를 제조하기 위하여 다양한 공정, 예를 들어, 증착 공정, 식각 공정, 패터닝 공정 등이 진행된다. 이에 각각의 공정들이 종료된 경우, 각 공정에서 사용되는 약액 및 불순물 등을 제거하기 위한 세정 공정이 요구된다. In order to manufacture such a flat panel display, various processes such as a deposition process, an etching process, and a patterning process are performed. Therefore, when each process is completed, a cleaning process for removing the chemical liquid and impurities used in each process is required.

이에 평판 패널 표시장치는 평판 패널로부터 불순물 등을 제거하기 위하여 세정 챔버, 회전축 및 디스크 브러시를 포함한다. 즉, 밀폐된 공간을 마련하는 세정 챔버와 상기 세정 챔버의 몸체를 관통하여 형성되어 디스크 브러시를 회전시키는 회전축 및 상기 회전축의 단부에 연결되어 평판 패널을 브러시하는 디스크 브러시를 포함한다. 이에, 디스크 브러시가 공급된 세정액을 브러시하여 평판 패널에 잔류하는 불순물들을 제거한다. The flat panel display includes a cleaning chamber, a rotating shaft, and a disk brush to remove impurities from the flat panel. That is, it includes a cleaning chamber for providing a closed space and a rotating shaft formed through the body of the cleaning chamber to rotate the disk brush and a disk brush connected to the end of the rotating shaft to brush the flat panel. Thus, the disk brush is brushed with the cleaning liquid supplied to remove impurities remaining in the flat panel.

한편, 회전축이 몸체를 관통하여 형성되는 공간에 회전축과 몸체에 형성된 관통홀 사이에 미세한 공간이 발생한다. 이 때 공급되는 세정액이 상기 미세한 공간을 통하여 외부로 누출되는 경우에는 평판 패널 세정 장치의 불량을 야기할 수 있다. 따라서, 평판 패널 세정 장치의 불량에 의하여 제품의 전체적인 수율 및 신뢰성이 저하되는 문제점이 발생한다. On the other hand, a minute space is generated between the rotating shaft and the through hole formed in the body in a space in which the rotating shaft is formed through the body. In this case, when the cleaning liquid supplied leaks out through the microcavity, the flat panel cleaning apparatus may be defective. Therefore, a problem occurs that the overall yield and reliability of the product is lowered due to the failure of the flat panel cleaning apparatus.

본 발명의 일 목적은 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 방지하기 위한 평판 패널 세정 장치를 제공하는데 있다.One object of the present invention is to provide a flat panel cleaning apparatus for efficiently preventing the cleaning liquid from leaking.

상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치는 몸체, 상기 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축, 상기 회전축과 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 저면에 다수의 브러시모가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시, 상기 회전축을 둘러싸면서 상기 디스크 브러시가 위치하는 상기 몸체의 내측면에 접하도록 배치되고 상기 몸체의 내부로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 제1 액막이 및 상기 회전축을 둘러싸면서 상기 제1 액막이와 면접함에 의해 결합하는 둘 이상의 제2 액막이를 포함한다. Flat panel cleaning device according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a body, a rotating shaft disposed through the body and having a long cylindrical shape, connected to the rotating shaft, the bottom surface for cleaning the flat panel A disk-shaped disk brush having a plurality of brush hairs formed thereon, a first liquid film disposed to contact the inner surface of the body in which the disk brush is located while surrounding the rotating shaft, and preventing a cleaning liquid from leaking from the inside of the body; At least two second liquid membranes are coupled to each other by an interview with the first liquid membrane while surrounding the rotating shaft.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이는 상기 회전축의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원통의 형상을 갖는다.According to one embodiment of the invention, the first liquid film and the second liquid film has the shape of a hollow cylinder having an inner diameter larger than the outer diameter of the rotation axis.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이가 결합되는 부위의 상기 제1 액막이의 단면은 상면이 개방된 "ㄷ"자의 형상을 갖고, 상기 제2 액막이의 단면은 하면이 개방된 "ㄷ"자의 형상을 갖는다. 또한, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이는 상기 "ㄷ"자 형상에 의해 마련된 공간에 서로 삽입되어 결합된다. According to an embodiment of the present invention, the cross section of the first liquid film at the portion where the first liquid film and the second liquid film are coupled has a shape of “c” having an open upper surface, and the cross section of the second liquid film has a lower surface. It has the shape of an open "c". In addition, the first liquid film and the second liquid film are inserted into and coupled to each other in the space provided by the "C" shape.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 세정액을 상기 평판 패널에 공급하기 위한 세정액 공급부를 더 포함한다. 한편, 상기 세정액 공급부는 외부로부터 상기 세정액을 공급받는 세정액 공급관, 상기 회전축에 형성되고, 상기 세정액 공급관과 연결되어 상기 세정액을 공급받는 세정액 주입관 및 상기 브러시면에 형성되고, 상기 세정액 주입관으로부터 공급받은 세정액을 평판 패널에 분사하는 세정액 분사구를 포함한다. According to an embodiment of the present invention, the cleaning solution further includes a supply for supplying the cleaning liquid to the flat panel. On the other hand, the cleaning liquid supply unit is formed in the cleaning liquid supply pipe receiving the cleaning liquid from the outside, the rotary shaft, the cleaning liquid injection pipe and the brush surface connected to the cleaning liquid supply pipe to receive the cleaning liquid and supplied from the cleaning liquid injection tube The cleaning liquid injection port which injects the received cleaning liquid to the flat panel is included.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제2 액막이와 상기 회전축의 사이에 배치되어 상기 제2 액막이를 상기 회전축과 밀착시키는 오링을 더 포함한다. 또한, 상기 오링은 상기 제2 액막이와 일체형으로 형성된다.According to an embodiment of the present invention, the second liquid film is disposed between the rotary shaft further includes an O-ring for contacting the second liquid film in close contact with the rotary shaft. In addition, the O-ring is formed integrally with the second liquid film.

상기 회전축의 일단에 배치되어 상기 회전축을 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전시키는 구동부를 더 포함한다. The driving unit may further include a driving unit disposed at one end of the rotating shaft to rotate the rotating shaft clockwise or counterclockwise.

이러한 평판 패널 세정 장치에 따르면, 평판 패널 세정 장치는 회전축을 둘러싸면서 배치된 복수 개의 액막이를 포함한다. 또한, 상기 액막이들 중에서 내측에 배치된 액막이가 이중으로 형성됨으로써, 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 방지할 수 있다. According to such a flat panel cleaning apparatus, the flat panel cleaning apparatus includes a plurality of liquid films disposed while surrounding the rotating shaft. In addition, since the liquid film disposed inside of the liquid films is formed in a double, it is possible to efficiently prevent the cleaning liquid from leaking.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설 명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 도면들에 있어서, 기판, 챔버 및 장치들의 두께와 크기 등은 그 명확성을 기하기 위하여 과장되어진 것이다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed subject matter is thorough and complete, and that the scope of the invention to those skilled in the art will fully convey. In the drawings, the thickness, size, etc. of the substrate, the chamber, and the devices are exaggerated for clarity.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치들을 나타낸 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이다. FIG. 1 is a schematic diagram illustrating flat panel cleaning apparatuses according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram illustrating the flat panel cleaning apparatus of FIG. 1 in detail.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치(100)는 세정 챔버(200), 회전축(300), 디스크 브러시(400) 및 액막이(500)를 포함한다. 1 and 2, the flat panel cleaning apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a cleaning chamber 200, a rotating shaft 300, a disk brush 400, and a liquid film 500.

세정 챔버(200)는 평판 패널(G)이 세정될 수 있는 공간을 마련한다. 세정 챔버(200)는 공정 종류에 따라 외부로부터 밀폐되는 구조를 가질 수 있다. 따라서, 세정 챔버(200)는 몸체(210)로 둘러싸인 내부 공간을 갖는다. The cleaning chamber 200 provides a space in which the flat panel G can be cleaned. The cleaning chamber 200 may have a structure that is sealed from the outside according to the process type. Thus, the cleaning chamber 200 has an interior space surrounded by the body 210.

세정 챔버(200)는 공정 챔버(도시되지 않음)로부터 평판 패널(G)을 전달받아 공정에서 사용된 약액, 불순물 등을 세정한다. 따라서, 세정 챔버(200)는 공정 챔버와 인접하게 배치된다. 또한, 세정 챔버(200)와 공정 챔버의 사이에는 평판 패널(G)을 이송하기 위한 이송 로봇(도시되지 않음)이 배치된다. 이와 달리, 세정 챔버(200)와 공정 챔버는 내벽(도시되지 않음)을 사이에 두고 인접하게 배치되는 경 우, 롤러(도시되지 않음)를 통하여 평판 패널(G)을 이송할 수 있다. The cleaning chamber 200 receives the flat panel G from a process chamber (not shown) to clean chemicals, impurities, and the like used in the process. Thus, the cleaning chamber 200 is disposed adjacent to the process chamber. In addition, a transfer robot (not shown) for transferring the flat panel G is disposed between the cleaning chamber 200 and the process chamber. In contrast, when the cleaning chamber 200 and the process chamber are disposed adjacent to each other with an inner wall (not shown) interposed therebetween, the cleaning panel 200 and the process chamber may transfer the flat panel G through a roller (not shown).

회전축(300)은 예를 들어, 몸체(210)를 관통하여 배치된다. 따라서, 회전축(300)은 몸체(210)에 형성된 관통홀(도시되지 않음)을 통하여 세정 챔버(200)의 내부로 배치될 수 있다. 이와 달리, 회전축(300)은 몸체(210)에 고정되도록 배치될 수 있다.The rotating shaft 300 is disposed through, for example, the body 210. Therefore, the rotation shaft 300 may be disposed inside the cleaning chamber 200 through a through hole (not shown) formed in the body 210. In contrast, the rotation shaft 300 may be disposed to be fixed to the body 210.

회전축(300)은 긴 원통 형상을 갖는다. 이와 달리, 회전축(300)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 회전축(300)은 세정 챔버(200)의 몸체(210)에 배치된 베어링(320)에 삽입 설치된다. 이에 회전축(300)은 베어링(320)에 의해 안정적으로 고정된다. 한편, 회전축(300)은 다른 고정 수단에 의하여 고정될 수 있다. The rotating shaft 300 has a long cylindrical shape. Alternatively, the rotation shaft 300 may have various shapes. For example, the rotating shaft 300 is inserted into the bearing 320 disposed in the body 210 of the cleaning chamber 200. The rotation shaft 300 is stably fixed by the bearing 320. On the other hand, the rotating shaft 300 may be fixed by another fixing means.

회전축(300)은 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전한다. 따라서, 회전축(300)이 회전함으로써 회전축(300)과 연결된 디스크 브러시(400)가 동시에 회전한다. 또한, 평판 패널 세정 장치(100)는 회전축(300)의 일단에 배치되어 회전축(300)을 회전시키는 구동부(310)를 더 포함한다. 구동부(310)는 예를 들어, 모터를 포함한다. 이와 달리, 구동부(310)는 별도의 공간에 마련된 임펠러 등과 같은 구동 수단을 포함할 수 있다. The rotary shaft 300 rotates clockwise or counterclockwise. Therefore, as the rotating shaft 300 rotates, the disk brush 400 connected to the rotating shaft 300 simultaneously rotates. In addition, the flat panel cleaning apparatus 100 further includes a driving unit 310 disposed at one end of the rotating shaft 300 to rotate the rotating shaft 300. The driver 310 includes a motor, for example. Alternatively, the driving unit 310 may include a driving means such as an impeller provided in a separate space.

한편, 구동부(310)는 회전축(300)을 상하 방향으로 구동시킨다. 예를 들어, 평판 패널(G)이 세정 챔버(200)로 이송되는 경우, 구동부(310)는 회전축(300)을 전체적으로 위 방향으로 이동시켜 평판 패널(G)이 용이하게 이송되도록 할 수 있다. 이와 달리, 디스크 브러시(400)를 전체적으로 유지 보수하여야 하는 경우, 회전축(300)을 상부 방향으로 이동시킬 수 있다. On the other hand, the driving unit 310 drives the rotating shaft 300 in the vertical direction. For example, when the flat panel G is transferred to the cleaning chamber 200, the driving unit 310 may move the rotary shaft 300 in the upward direction to allow the flat panel G to be easily transferred. On the contrary, when the disk brush 400 needs to be maintained as a whole, the rotating shaft 300 may be moved upward.

디스크 브러시(400)는 회전축(300)의 일 단부와 연결된다. 디스크 브러시(400)는 예를 들어, 원판의 형상을 갖는 디스크를 포함한다. 이와 달리, 디스크 브러시(400)는 평판 패널(G)의 표면을 효과적으로 세정하기 위한 다양한 형상의 디스크를 포함할 수 있다. The disc brush 400 is connected to one end of the rotation shaft 300. The disc brush 400 includes, for example, a disc having the shape of a disc. In contrast, the disk brush 400 may include various shapes of disks for effectively cleaning the surface of the flat panel G.

디스크 브러시(400)는 평판 패널(G)을 세정하기 위하여 저면에 형성된 브러시모(410)를 포함한다. 예를 들어, 브러시모(410)는 디스크의 저면에 전체적으로 균일하게 배치된다. 이와 달리, 브러시모(410)는 디스크의 중심부보다 디스크의 가장 자리에 다수가 형성될 수 있다. 이와 달리, 브러시모(410)는 분사되는 세정액(W)을 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분포시켜 효율적으로 세정할 수 있다면 다양한 형상을 가질 수 있다. 또한, 브러시모(410)는 평판 패널(G)의 표면 상태에 따라 굵기, 밀도, 재질 등이 다양하게 변경될 수 있을 것이다. The disk brush 400 includes a brush bristle 410 formed on a bottom surface of the flat panel G to clean the flat panel G. For example, the brush bristles 410 are uniformly disposed on the bottom of the disk. Alternatively, a plurality of brush hairs 410 may be formed at the edge of the disk rather than the center of the disk. On the other hand, the brush bristle 410 may have various shapes as long as it can efficiently clean the sprayed cleaning solution W on the entire surface of the flat panel G. FIG. In addition, the brush bristle 410 may vary in thickness, density, material, etc. according to the surface state of the flat panel (G).

평판 패널 세정 장치(100)는 세정 공정에 사용되는 세정액(W)을 공급하는 세정액 공급부(420)를 더 포함한다. 한편, 세정액(W)은 공정에 사용되는 약액 및 불순물들을 효과적으로 제거할 수 있다면, 다양한 종류를 포함할 수 있다. 예를 들어, 세정액(W)은 탈이온수를 포함한다. 세정액 공급부(420)는 세정액 공급관(422), 세정액 주입관(424) 및 세정액 분사구(426)를 포함한다. The flat panel cleaning apparatus 100 further includes a cleaning liquid supply part 420 for supplying the cleaning liquid W used in the cleaning process. Meanwhile, the cleaning liquid W may include various kinds as long as it can effectively remove the chemical liquid and impurities used in the process. For example, the washing liquid W contains deionized water. The cleaning solution supply unit 420 includes a cleaning solution supply pipe 422, a cleaning solution injection pipe 424, and a cleaning solution injection port 426.

세정액 공급관(422)은 세정액 공급부(430)로부터 세정액(W)을 공급받는다. 예를 들어, 세정액 공급관(422)은 회전축(300)의 내부에 관통되어 형성된다. 이와 달리, 세정액 공급관(422)은 회전축(300)과 인접하게 형성되어 디스크와 연결될 수 있다. 세정액 주입관(424)은 회전축(300)의 끝단에 형성된다. 또한, 세정액 주입 관(424)은 세정액 공급관(422)과 연결되어 세정액(W)을 전달받는다. 한편, 세정액 분사구(426)는 디스크에 형성된다. 예를 들어, 세정액 분사구(426)는 디스크 브러시(400)의 저면에 형성된다. 세정액 분사구(426)는 세정액 주입관(424)으로부터 공급받은 세정액(W)을 평판 패널(G)에 분사한다. 세정액 분사구(426)는 세정액(W)을 평판 패널(G)에 전체적으로 균일하게 분사한다. 따라서, 세정액(W)은 세정액 분사구(426)를 통하여 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분포된다.The cleaning liquid supply pipe 422 receives the cleaning liquid W from the cleaning liquid supply unit 430. For example, the cleaning liquid supply pipe 422 is formed to penetrate the inside of the rotation shaft 300. In contrast, the cleaning solution supply pipe 422 may be formed adjacent to the rotating shaft 300 to be connected to the disk. The cleaning liquid injection pipe 424 is formed at the end of the rotation shaft 300. In addition, the cleaning liquid injection pipe 424 is connected to the cleaning liquid supply pipe 422 to receive the cleaning liquid (W). On the other hand, the cleaning liquid injection port 426 is formed in the disk. For example, the cleaning liquid injection hole 426 is formed at the bottom of the disk brush 400. The cleaning liquid injection port 426 injects the cleaning liquid W supplied from the cleaning liquid injection pipe 424 to the flat panel G. The cleaning liquid injection port 426 uniformly injects the cleaning liquid W to the flat panel G as a whole. Therefore, the cleaning liquid W is uniformly distributed on the entire surface of the flat panel G through the cleaning liquid injection port 426.

액막이(500)는 디스크 브러시(400)가 위치하는 몸체(210)의 내측면에 밀착되도록 배치된다. 따라서, 액막이(500)는 평판 패널(G)을 세정하기 위해 사용된 세정액(W)이 세정 챔버(200)로부터 누출되는 것을 방지한다. The liquid film 500 is disposed to be in close contact with the inner surface of the body 210 where the disk brush 400 is located. Therefore, the liquid film 500 prevents the cleaning liquid W used to clean the flat panel G from leaking from the cleaning chamber 200.

액막이(500)는 회전축(300)을 둘러싸도록 형성된다. 예를 들어, 액막이(500)는 회전축(300)의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원통의 형상을 가진다. 이와 달리, 액막이(500)는 회전축(300)을 둘러싸면서 세정액(W)의 누출을 효과적으로 방지할 수 있다면, 다양한 형상을 가질 수 있을 것이다. 따라서, 액막이(500)는 몸체(210)과 몸체(210)을 관통하여 형성된 회전축(300)의 사이에 생긴 미세 공간을 커버한다. 또한, 세정 챔버(200)의 다른 공간에 이격 공간이 존재하는 경우에는 액막이(500)는 상기 이격 공간에 배치되어 커버할 수 있다. The liquid film 500 is formed to surround the rotation shaft 300. For example, the liquid film 500 has a shape of a hollow cylinder having an inner diameter larger than the outer diameter of the rotation shaft 300. On the contrary, the liquid film 500 may have various shapes if it can effectively prevent the leakage of the cleaning liquid W while surrounding the rotating shaft 300. Therefore, the liquid film 500 covers the microcavity generated between the body 210 and the rotating shaft 300 formed through the body 210. In addition, when the separation space exists in another space of the cleaning chamber 200, the liquid film 500 may be disposed in the separation space to cover.

한편, 액막이(500)는 제1 액막이(510), 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 포함한다. Meanwhile, the liquid film 500 includes a first liquid film 510, a second liquid film 520, and a third liquid film 530.

제1 액막이(510)는 회전축(300)을 둘러싸면서 몸체(210)의 내측면과 밀접하도록 배치된다. 또한, 제2 액막이(520)는 제1 액막이(510)와 결합하면서 회전 축(300)을 둘러싼다. 또한, 제3 액막이(530)는 제2 액막이(520)와 결합하면서 회전축(3000을 둘러싼다. 액막이(500)들의 구체적인 결합 관계 및 형상에 대해서는 도 3을 통하여 상세하게 설명하기로 한다. The first liquid film 510 is disposed to be in close contact with the inner surface of the body 210 while surrounding the rotating shaft 300. In addition, the second liquid film 520 is coupled to the first liquid film 510 and surrounds the rotation axis 300. In addition, the third liquid film 530 is coupled to the second liquid film 520 and surrounds the rotation shaft 3000. A detailed coupling relationship and shape of the liquid films 500 will be described in detail with reference to FIG. 3.

도 3은 도 1의 액막이들을 구체적으로 부분적으로 나타내는 절개 사시도이다. FIG. 3 is a cutaway perspective view partially illustrating the liquid barriers of FIG. 1.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액막이(500)는 제1 액막이(510), 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 포함한다. 1 to 3, the liquid film 500 according to an embodiment of the present invention includes a first liquid film 510, a second liquid film 520, and a third liquid film 530.

제1 액막이(510)는 회전축(300)을 둘러싸면서 몸체(210)의 내측면과 밀접하도록 배치된다. 또한, 제2 액막이(520)는 제1 액막이(510)와 결합하면서 회전축(300)을 둘러싼다. 또한, 제3 액막이(530)는 제2 액막이(520)와 결합하면서 회전축(3000을 둘러싼다. 예를 들어, 제1 액막이(510), 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)는 세정 챔버(200)의 몸체(210)으로부터 차례대로 형성된다. The first liquid film 510 is disposed to be in close contact with the inner surface of the body 210 while surrounding the rotating shaft 300. In addition, the second liquid film 520 is coupled to the first liquid film 510 and surrounds the rotation shaft 300. In addition, the third liquid film 530 is coupled to the second liquid film 520 and surrounds the rotation shaft 3000. For example, the first liquid film 510, the second liquid film 520, and the third liquid film 530 are It is formed in sequence from the body 210 of the cleaning chamber 200.

제1 액막이(510) 및 제2 액막이(520)는 서로 결합되는 부위의 단면이 "ㄷ"자 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 액막이(510)는 제2 액막이(520)와 결합하는 부위의 단면이 상부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 가지고, 제2 액막이(520)는 제1 액막이(510)와 결합하는 부위의 단면이 하부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 갖는다. 따라서, 제1 액막이(510) 및 제2 액막이(520)는 "ㄷ"자 형상에 의해 마련된 각각의 공간에 서로 삽입되어 결합된다. The first liquid film 510 and the second liquid film 520 may have a cross-section of a portion where the portions are coupled to each other. For example, the first liquid film 510 has a “c” shape in which the cross section of the portion joining the second liquid film 520 is opened, and the second liquid film 520 is connected to the first liquid film 510. The cross section of the joining part has a "c" shape with an open bottom. Therefore, the first liquid film 510 and the second liquid film 520 are inserted into and coupled to each other in the space provided by the letter “C”.

한편, 몸체(210)과 밀착하도록 형성된 제1 액막이(510)를 하부 액막이로 볼 때, 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)는 결합되어 일체로 형성된 상부 액막이를 구성한다. 따라서, 이중으로 형성된 상부 액막이가 1차적으로 세정액(W)이 누출되는 것을 방지하고, 하부 액막이가 최종적으로 세정액(W)이 누출되는 것을 방지된다. 따라서, 상부 액막이, 즉 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)가 이중, 이단으로 형성됨으로써 세정액(W)이 누출되는 것을 효율적으로 차단할 수 있다. 또한, 세정액(W)이 누출되는 것을 효과적으로 차단함으로써, 전체적인 제품의 수율이 향상되고 불량률이 감소된다. On the other hand, when the first liquid film 510 formed to be in close contact with the body 210 as the lower liquid film, the second liquid film 520 and the third liquid film 530 are combined to form an upper liquid film formed integrally. Therefore, the upper liquid film formed in duplicate prevents the washing liquid W from leaking out first, and the lower liquid film is finally prevented from leaking the washing liquid W. Therefore, since the upper liquid film, that is, the second liquid film 520 and the third liquid film 530 are formed in two and two stages, it is possible to effectively prevent the cleaning liquid W from leaking. In addition, by effectively preventing the cleaning liquid W from leaking, the overall product yield is improved and the defective rate is reduced.

또한, 유막이 상부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 갖는 제1 액막이(510)에 의해 생성된 채널 형상의 홈에 형성된다. 상기 유막은 세정액(W) 및 미스트(MIST)가 세정 챔버(200)의 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있다. In addition, an oil film is formed in the channel-shaped groove formed by the first liquid film 510 having a “c” shape with an open upper portion. The oil film may prevent the cleaning liquid W and the mist MIST from leaking to the outside of the cleaning chamber 200.

예를 들어, 평판 패널 세정 장치(100)는 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)와 회전축(300)의 사이에 배치되는 오링(540)을 더 포함한다. 오링(540)은 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 회전축(300)에 밀착시킨다. 즉, 오링(540)은 접착성이 있는 물질로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들어, 오링(540)은 고무 재질로 이루어진다. 이와 달리, 오링(540)은 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 회전축(300)에 밀착시킬 수 있다면 다양한 재질로 이루어질 수 있다. 한편, 오링(540)은 예를 들어, 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)와 일체형으로 형성된다. 이와 달리, 오링(540)은 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)와 분리되도록 형성될 수 있다. For example, the flat panel cleaning apparatus 100 further includes an O-ring 540 disposed between the second liquid film 520 and the third liquid film 530 and the rotation shaft 300. The o-ring 540 closely contacts the second liquid film 520 and the third liquid film 530 to the rotation shaft 300. That is, the O-ring 540 is preferably made of an adhesive material. For example, the o-ring 540 is made of a rubber material. Alternatively, the O-ring 540 may be made of various materials as long as the second liquid film 520 and the third liquid film 530 may be in close contact with the rotation shaft 300. On the other hand, the O-ring 540 is formed integrally with, for example, the second liquid film 520 and the third liquid film 530. Alternatively, the O-ring 540 may be formed to be separated from the second liquid film 520 and the third liquid film 530.

이와 같은 평판 패널 세정 장치에 따르면, 평판 패널 세정 장치는 회전축을 둘러싸면서 형성된 이중 액막이를 포함한다. 따라서, 이중 액막이가 세정액이 누출되는 것을 1차적으로 차단하여 세정액이 누출하는 것을 효율적으로 차단할 수 있다. According to such a flat panel cleaning apparatus, the flat panel cleaning apparatus includes a double liquid film formed while surrounding the rotating shaft. Therefore, the double liquid membrane can block the leakage of the cleaning liquid primarily and can effectively block the leakage of the cleaning liquid.

또한, 액막이는 상부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 가지며, 상기 형상에 의하여 형성된 홈에 유막이 형성되는 경우 미스트가 누출되는 것을 방지할 수 있다. In addition, the liquid film has an “c” shape with an open top, and when the oil film is formed in the groove formed by the shape, it is possible to prevent the mist from leaking.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be variously modified without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. And can be changed.

Claims (9)

몸체;Body; 상기 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축;A rotating shaft disposed through the body and having a long cylindrical shape; 상기 회전축과 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 저면에 다수의 브러시모가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시;A disk-shaped disk brush connected to the rotating shaft and having a plurality of brush hairs formed on a bottom thereof to clean the flat panel; 상기 회전축을 둘러싸면서 상기 디스크 브러시가 위치하는 상기 몸체의 내측면에 접하도록 배치되고 상기 몸체의 내부로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 제1 액막이; 및A first liquid film disposed to be in contact with an inner surface of the body in which the disk brush is located while surrounding the rotation shaft, and preventing a cleaning liquid from leaking from the inside of the body; And 상기 회전축을 둘러싸면서 상기 제1 액막이와 면접함에 의해 결합하는 둘 이상의 제2 액막이를 포함하는 평판 패널 세정 장치.Flat panel panel cleaning apparatus including at least two second liquid film is coupled to the first liquid film by the interview while surrounding the rotation axis. 제1 항에 있어서, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이는 상기 회전축의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원통의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.The flat panel cleaning apparatus according to claim 1, wherein the first liquid film and the second liquid film have a shape of a hollow cylinder having an inner diameter larger than an outer diameter of the rotation shaft. 제1 항에 있어서, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이가 결합되는 부위의 상기 제1 액막이의 단면은 상면이 개방된 "ㄷ"자의 형상을 갖고, 상기 제2 액막이의 단면은 하면이 개방된 "ㄷ"자의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.The cross section of the first liquid film in a portion where the first liquid film and the second liquid film are coupled has a shape of a letter 'C' with an open top surface, and a cross section of the second liquid film with an open bottom surface. Flat panel cleaning device, characterized in that the "c" shape. 제3 항에 있어서, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이는 상기 "ㄷ"자 형상에 의해 마련된 공간에 서로 삽입되어 결합되는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.The flat panel cleaning apparatus according to claim 3, wherein the first liquid film and the second liquid film are inserted into and coupled to each other in a space provided by the letter 'C'. 제1 항에 있어서, 상기 세정액을 상기 평판 패널에 공급하기 위한 세정액 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.The flat panel cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a cleaning liquid supply unit for supplying the cleaning liquid to the flat panel. 제5 항에 있어서, 상기 세정액 공급부는 According to claim 5, wherein the cleaning liquid supply unit 외부로부터 상기 세정액을 공급받는 세정액 공급관;A cleaning solution supply pipe receiving the cleaning solution from the outside; 상기 회전축에 형성되고, 상기 세정액 공급관과 연결되어 상기 세정액을 공급받는 세정액 주입관; 및A cleaning liquid inlet tube formed on the rotating shaft and connected to the cleaning liquid supply pipe to receive the cleaning liquid; And 상기 브러시면에 형성되고, 상기 세정액 주입관으로부터 공급받은 세정액을 평판 패널에 분사하는 세정액 분사구를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.And a cleaning liquid injection port formed on the brush surface and spraying the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid injection tube to the flat panel. 제1 항에 있어서, 상기 제2 액막이와 상기 회전축의 사이에 배치되어 상기 제2 액막이를 상기 회전축과 밀착시키는 오링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.The flat panel cleaning apparatus according to claim 1, further comprising an O-ring disposed between the second liquid film and the rotating shaft to bring the second liquid film into close contact with the rotating shaft. 제7 항에 있어서, 상기 오링은 상기 제2 액막이와 일체형으로 형성된 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.The flat panel cleaning apparatus according to claim 7, wherein the O-ring is integrally formed with the second liquid film. 제1 항에 있어서, 상기 회전축의 일단에 배치되어 상기 회전축을 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전시키는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.The flat panel cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a driving unit disposed at one end of the rotating shaft to rotate the rotating shaft in a clockwise or counterclockwise direction.
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