KR100789727B1 - Flat Panel Cleaning Device - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 123
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 167
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 claims abstract description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 15
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 9
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009125 cardiac resynchronization therapy Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
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- B08B3/022—Cleaning travelling work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
개시된 평판 패널 세정 장치는 몸체, 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축, 회전축과 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 저면에 다수의 브러시모가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시, 회전축을 둘러싸면서 디스크 브러시가 위치하는 몸체의 내측면에 접하도록 배치되고 몸체의 내부로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 제1 액막이 및 회전축을 둘러싸면서 제1 액막이와 면접함에 의해 결합하는 둘 이상의 제2 액막이를 포함한다. 따라서, 평판 패널 세정 장치로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하기 위하여 평판 패널 세정 장치는 복수 개의 액막이를 포함하고, 그 중에서 적어도 하나 이상의 액막이를 이중 액막이로 구성함으로써, 평판 패널 세정 장치로부터 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 차단할 수 있다. The disclosed flat panel cleaning apparatus includes a body, a rotating shaft having a long cylindrical shape, connected to the rotating shaft, and a disk-shaped disk brush having a plurality of brush hairs formed on a bottom thereof to clean the flat panel, and surrounding the rotating shaft. A first liquid film disposed to contact the inner surface of the body where the disk brush is located and preventing the cleaning liquid from leaking from the inside of the body, and two or more second liquid films joined by an interview with the first liquid film surrounding the rotating shaft. . Therefore, in order to prevent the cleaning liquid from leaking from the flat panel cleaning apparatus, the flat panel cleaning apparatus includes a plurality of liquid membranes, and at least one of the liquid membranes is constituted by a double liquid membrane, whereby the cleaning liquid leaks from the flat panel cleaning apparatus. Can be blocked efficiently.
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치들을 나타낸 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic diagram illustrating flat panel cleaning apparatuses according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이다. FIG. 2 is a configuration diagram illustrating the flat panel cleaning apparatus of FIG. 1 in detail.
도 3은 도 1의 액막이들을 구체적으로 나타내는 절개 사시도이다. 3 is a cutaway perspective view illustrating the liquid barriers of FIG. 1 in detail.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
100 : 평판 패널 세정 장치 200 : 세정 챔버100 flat
210 : 몸체 300 : 회전축210: body 300: rotation axis
310 : 구동부 400 : 디스크 브러시310: driving unit 400: disc brush
410 : 브러시모 420 : 세정액 공급부410: brush head 420: cleaning liquid supply unit
500 : 액막이 510 : 제1 액막이500: liquid film 510: first liquid film
520 : 제2 액막이 530 : 제3 액막이520: second liquid film 530: third liquid film
540 : 오링540: O-ring
본 발명은 평판 패널 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 패널세정 장치로부터 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 방지하기 위한 평판 패널 세정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a flat panel cleaning apparatus, and more particularly, to a flat panel cleaning apparatus for efficiently preventing the cleaning liquid from leaking from the flat panel cleaning apparatus.
최근에는, 고품위(high definition) TV 등의 새로운 첨단 영상 기기가 개발됨에 따라, 브라운관(CRT)을 대신하여 평판 패널 표시장치에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 일반적으로, 평판 패널 표시장치는 다양한 영상들을 시각적으로 표시하는 장치로서 액정표시장치(liquid crystal display device : LCD), PDP(plasma display panel) 장치, ELD(electro luminescence display) 등을 포함한다. 특히, 평판 패널 표시장치는 얇고 가벼우며, 낮은 구동전압 및 낮은 소비전력을 갖는 장점이 있어, 산업 전반에 걸쳐 광범위하게 사용되고 있다. Recently, with the development of new advanced imaging devices such as high definition TVs, research on flat panel displays instead of CRTs has been actively conducted. In general, a flat panel display device is a device for visually displaying various images and includes a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP) device, an electro luminescence display (ELD), and the like. In particular, the flat panel display device is thin and light, has a low driving voltage and low power consumption, and thus is widely used throughout the industry.
이러한 평판 패널 표시장치를 제조하기 위하여 다양한 공정, 예를 들어, 증착 공정, 식각 공정, 패터닝 공정 등이 진행된다. 이에 각각의 공정들이 종료된 경우, 각 공정에서 사용되는 약액 및 불순물 등을 제거하기 위한 세정 공정이 요구된다. In order to manufacture such a flat panel display, various processes such as a deposition process, an etching process, and a patterning process are performed. Therefore, when each process is completed, a cleaning process for removing the chemical liquid and impurities used in each process is required.
이에 평판 패널 표시장치는 평판 패널로부터 불순물 등을 제거하기 위하여 세정 챔버, 회전축 및 디스크 브러시를 포함한다. 즉, 밀폐된 공간을 마련하는 세정 챔버와 상기 세정 챔버의 몸체를 관통하여 형성되어 디스크 브러시를 회전시키는 회전축 및 상기 회전축의 단부에 연결되어 평판 패널을 브러시하는 디스크 브러시를 포함한다. 이에, 디스크 브러시가 공급된 세정액을 브러시하여 평판 패널에 잔류하는 불순물들을 제거한다. The flat panel display includes a cleaning chamber, a rotating shaft, and a disk brush to remove impurities from the flat panel. That is, it includes a cleaning chamber for providing a closed space and a rotating shaft formed through the body of the cleaning chamber to rotate the disk brush and a disk brush connected to the end of the rotating shaft to brush the flat panel. Thus, the disk brush is brushed with the cleaning liquid supplied to remove impurities remaining in the flat panel.
한편, 회전축이 몸체를 관통하여 형성되는 공간에 회전축과 몸체에 형성된 관통홀 사이에 미세한 공간이 발생한다. 이 때 공급되는 세정액이 상기 미세한 공간을 통하여 외부로 누출되는 경우에는 평판 패널 세정 장치의 불량을 야기할 수 있다. 따라서, 평판 패널 세정 장치의 불량에 의하여 제품의 전체적인 수율 및 신뢰성이 저하되는 문제점이 발생한다. On the other hand, a minute space is generated between the rotating shaft and the through hole formed in the body in a space in which the rotating shaft is formed through the body. In this case, when the cleaning liquid supplied leaks out through the microcavity, the flat panel cleaning apparatus may be defective. Therefore, a problem occurs that the overall yield and reliability of the product is lowered due to the failure of the flat panel cleaning apparatus.
본 발명의 일 목적은 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 방지하기 위한 평판 패널 세정 장치를 제공하는데 있다.One object of the present invention is to provide a flat panel cleaning apparatus for efficiently preventing the cleaning liquid from leaking.
상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치는 몸체, 상기 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축, 상기 회전축과 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 저면에 다수의 브러시모가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시, 상기 회전축을 둘러싸면서 상기 디스크 브러시가 위치하는 상기 몸체의 내측면에 접하도록 배치되고 상기 몸체의 내부로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 제1 액막이 및 상기 회전축을 둘러싸면서 상기 제1 액막이와 면접함에 의해 결합하는 둘 이상의 제2 액막이를 포함한다. Flat panel cleaning device according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a body, a rotating shaft disposed through the body and having a long cylindrical shape, connected to the rotating shaft, the bottom surface for cleaning the flat panel A disk-shaped disk brush having a plurality of brush hairs formed thereon, a first liquid film disposed to contact the inner surface of the body in which the disk brush is located while surrounding the rotating shaft, and preventing a cleaning liquid from leaking from the inside of the body; At least two second liquid membranes are coupled to each other by an interview with the first liquid membrane while surrounding the rotating shaft.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이는 상기 회전축의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원통의 형상을 갖는다.According to one embodiment of the invention, the first liquid film and the second liquid film has the shape of a hollow cylinder having an inner diameter larger than the outer diameter of the rotation axis.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이가 결합되는 부위의 상기 제1 액막이의 단면은 상면이 개방된 "ㄷ"자의 형상을 갖고, 상기 제2 액막이의 단면은 하면이 개방된 "ㄷ"자의 형상을 갖는다. 또한, 상기 제1 액막이 및 상기 제2 액막이는 상기 "ㄷ"자 형상에 의해 마련된 공간에 서로 삽입되어 결합된다. According to an embodiment of the present invention, the cross section of the first liquid film at the portion where the first liquid film and the second liquid film are coupled has a shape of “c” having an open upper surface, and the cross section of the second liquid film has a lower surface. It has the shape of an open "c". In addition, the first liquid film and the second liquid film are inserted into and coupled to each other in the space provided by the "C" shape.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 세정액을 상기 평판 패널에 공급하기 위한 세정액 공급부를 더 포함한다. 한편, 상기 세정액 공급부는 외부로부터 상기 세정액을 공급받는 세정액 공급관, 상기 회전축에 형성되고, 상기 세정액 공급관과 연결되어 상기 세정액을 공급받는 세정액 주입관 및 상기 브러시면에 형성되고, 상기 세정액 주입관으로부터 공급받은 세정액을 평판 패널에 분사하는 세정액 분사구를 포함한다. According to an embodiment of the present invention, the cleaning solution further includes a supply for supplying the cleaning liquid to the flat panel. On the other hand, the cleaning liquid supply unit is formed in the cleaning liquid supply pipe receiving the cleaning liquid from the outside, the rotary shaft, the cleaning liquid injection pipe and the brush surface connected to the cleaning liquid supply pipe to receive the cleaning liquid and supplied from the cleaning liquid injection tube The cleaning liquid injection port which injects the received cleaning liquid to the flat panel is included.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제2 액막이와 상기 회전축의 사이에 배치되어 상기 제2 액막이를 상기 회전축과 밀착시키는 오링을 더 포함한다. 또한, 상기 오링은 상기 제2 액막이와 일체형으로 형성된다.According to an embodiment of the present invention, the second liquid film is disposed between the rotary shaft further includes an O-ring for contacting the second liquid film in close contact with the rotary shaft. In addition, the O-ring is formed integrally with the second liquid film.
상기 회전축의 일단에 배치되어 상기 회전축을 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전시키는 구동부를 더 포함한다. The driving unit may further include a driving unit disposed at one end of the rotating shaft to rotate the rotating shaft clockwise or counterclockwise.
이러한 평판 패널 세정 장치에 따르면, 평판 패널 세정 장치는 회전축을 둘러싸면서 배치된 복수 개의 액막이를 포함한다. 또한, 상기 액막이들 중에서 내측에 배치된 액막이가 이중으로 형성됨으로써, 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 방지할 수 있다. According to such a flat panel cleaning apparatus, the flat panel cleaning apparatus includes a plurality of liquid films disposed while surrounding the rotating shaft. In addition, since the liquid film disposed inside of the liquid films is formed in a double, it is possible to efficiently prevent the cleaning liquid from leaking.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설 명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 도면들에 있어서, 기판, 챔버 및 장치들의 두께와 크기 등은 그 명확성을 기하기 위하여 과장되어진 것이다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed subject matter is thorough and complete, and that the scope of the invention to those skilled in the art will fully convey. In the drawings, the thickness, size, etc. of the substrate, the chamber, and the devices are exaggerated for clarity.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치들을 나타낸 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이다. FIG. 1 is a schematic diagram illustrating flat panel cleaning apparatuses according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram illustrating the flat panel cleaning apparatus of FIG. 1 in detail.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치(100)는 세정 챔버(200), 회전축(300), 디스크 브러시(400) 및 액막이(500)를 포함한다. 1 and 2, the flat
세정 챔버(200)는 평판 패널(G)이 세정될 수 있는 공간을 마련한다. 세정 챔버(200)는 공정 종류에 따라 외부로부터 밀폐되는 구조를 가질 수 있다. 따라서, 세정 챔버(200)는 몸체(210)로 둘러싸인 내부 공간을 갖는다. The
세정 챔버(200)는 공정 챔버(도시되지 않음)로부터 평판 패널(G)을 전달받아 공정에서 사용된 약액, 불순물 등을 세정한다. 따라서, 세정 챔버(200)는 공정 챔버와 인접하게 배치된다. 또한, 세정 챔버(200)와 공정 챔버의 사이에는 평판 패널(G)을 이송하기 위한 이송 로봇(도시되지 않음)이 배치된다. 이와 달리, 세정 챔버(200)와 공정 챔버는 내벽(도시되지 않음)을 사이에 두고 인접하게 배치되는 경 우, 롤러(도시되지 않음)를 통하여 평판 패널(G)을 이송할 수 있다. The
회전축(300)은 예를 들어, 몸체(210)를 관통하여 배치된다. 따라서, 회전축(300)은 몸체(210)에 형성된 관통홀(도시되지 않음)을 통하여 세정 챔버(200)의 내부로 배치될 수 있다. 이와 달리, 회전축(300)은 몸체(210)에 고정되도록 배치될 수 있다.The rotating
회전축(300)은 긴 원통 형상을 갖는다. 이와 달리, 회전축(300)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 회전축(300)은 세정 챔버(200)의 몸체(210)에 배치된 베어링(320)에 삽입 설치된다. 이에 회전축(300)은 베어링(320)에 의해 안정적으로 고정된다. 한편, 회전축(300)은 다른 고정 수단에 의하여 고정될 수 있다. The rotating
회전축(300)은 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전한다. 따라서, 회전축(300)이 회전함으로써 회전축(300)과 연결된 디스크 브러시(400)가 동시에 회전한다. 또한, 평판 패널 세정 장치(100)는 회전축(300)의 일단에 배치되어 회전축(300)을 회전시키는 구동부(310)를 더 포함한다. 구동부(310)는 예를 들어, 모터를 포함한다. 이와 달리, 구동부(310)는 별도의 공간에 마련된 임펠러 등과 같은 구동 수단을 포함할 수 있다. The
한편, 구동부(310)는 회전축(300)을 상하 방향으로 구동시킨다. 예를 들어, 평판 패널(G)이 세정 챔버(200)로 이송되는 경우, 구동부(310)는 회전축(300)을 전체적으로 위 방향으로 이동시켜 평판 패널(G)이 용이하게 이송되도록 할 수 있다. 이와 달리, 디스크 브러시(400)를 전체적으로 유지 보수하여야 하는 경우, 회전축(300)을 상부 방향으로 이동시킬 수 있다. On the other hand, the
디스크 브러시(400)는 회전축(300)의 일 단부와 연결된다. 디스크 브러시(400)는 예를 들어, 원판의 형상을 갖는 디스크를 포함한다. 이와 달리, 디스크 브러시(400)는 평판 패널(G)의 표면을 효과적으로 세정하기 위한 다양한 형상의 디스크를 포함할 수 있다. The
디스크 브러시(400)는 평판 패널(G)을 세정하기 위하여 저면에 형성된 브러시모(410)를 포함한다. 예를 들어, 브러시모(410)는 디스크의 저면에 전체적으로 균일하게 배치된다. 이와 달리, 브러시모(410)는 디스크의 중심부보다 디스크의 가장 자리에 다수가 형성될 수 있다. 이와 달리, 브러시모(410)는 분사되는 세정액(W)을 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분포시켜 효율적으로 세정할 수 있다면 다양한 형상을 가질 수 있다. 또한, 브러시모(410)는 평판 패널(G)의 표면 상태에 따라 굵기, 밀도, 재질 등이 다양하게 변경될 수 있을 것이다. The
평판 패널 세정 장치(100)는 세정 공정에 사용되는 세정액(W)을 공급하는 세정액 공급부(420)를 더 포함한다. 한편, 세정액(W)은 공정에 사용되는 약액 및 불순물들을 효과적으로 제거할 수 있다면, 다양한 종류를 포함할 수 있다. 예를 들어, 세정액(W)은 탈이온수를 포함한다. 세정액 공급부(420)는 세정액 공급관(422), 세정액 주입관(424) 및 세정액 분사구(426)를 포함한다. The flat
세정액 공급관(422)은 세정액 공급부(430)로부터 세정액(W)을 공급받는다. 예를 들어, 세정액 공급관(422)은 회전축(300)의 내부에 관통되어 형성된다. 이와 달리, 세정액 공급관(422)은 회전축(300)과 인접하게 형성되어 디스크와 연결될 수 있다. 세정액 주입관(424)은 회전축(300)의 끝단에 형성된다. 또한, 세정액 주입 관(424)은 세정액 공급관(422)과 연결되어 세정액(W)을 전달받는다. 한편, 세정액 분사구(426)는 디스크에 형성된다. 예를 들어, 세정액 분사구(426)는 디스크 브러시(400)의 저면에 형성된다. 세정액 분사구(426)는 세정액 주입관(424)으로부터 공급받은 세정액(W)을 평판 패널(G)에 분사한다. 세정액 분사구(426)는 세정액(W)을 평판 패널(G)에 전체적으로 균일하게 분사한다. 따라서, 세정액(W)은 세정액 분사구(426)를 통하여 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분포된다.The cleaning
액막이(500)는 디스크 브러시(400)가 위치하는 몸체(210)의 내측면에 밀착되도록 배치된다. 따라서, 액막이(500)는 평판 패널(G)을 세정하기 위해 사용된 세정액(W)이 세정 챔버(200)로부터 누출되는 것을 방지한다. The
액막이(500)는 회전축(300)을 둘러싸도록 형성된다. 예를 들어, 액막이(500)는 회전축(300)의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원통의 형상을 가진다. 이와 달리, 액막이(500)는 회전축(300)을 둘러싸면서 세정액(W)의 누출을 효과적으로 방지할 수 있다면, 다양한 형상을 가질 수 있을 것이다. 따라서, 액막이(500)는 몸체(210)과 몸체(210)을 관통하여 형성된 회전축(300)의 사이에 생긴 미세 공간을 커버한다. 또한, 세정 챔버(200)의 다른 공간에 이격 공간이 존재하는 경우에는 액막이(500)는 상기 이격 공간에 배치되어 커버할 수 있다. The
한편, 액막이(500)는 제1 액막이(510), 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 포함한다. Meanwhile, the
제1 액막이(510)는 회전축(300)을 둘러싸면서 몸체(210)의 내측면과 밀접하도록 배치된다. 또한, 제2 액막이(520)는 제1 액막이(510)와 결합하면서 회전 축(300)을 둘러싼다. 또한, 제3 액막이(530)는 제2 액막이(520)와 결합하면서 회전축(3000을 둘러싼다. 액막이(500)들의 구체적인 결합 관계 및 형상에 대해서는 도 3을 통하여 상세하게 설명하기로 한다. The
도 3은 도 1의 액막이들을 구체적으로 부분적으로 나타내는 절개 사시도이다. FIG. 3 is a cutaway perspective view partially illustrating the liquid barriers of FIG. 1.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액막이(500)는 제1 액막이(510), 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 포함한다. 1 to 3, the
제1 액막이(510)는 회전축(300)을 둘러싸면서 몸체(210)의 내측면과 밀접하도록 배치된다. 또한, 제2 액막이(520)는 제1 액막이(510)와 결합하면서 회전축(300)을 둘러싼다. 또한, 제3 액막이(530)는 제2 액막이(520)와 결합하면서 회전축(3000을 둘러싼다. 예를 들어, 제1 액막이(510), 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)는 세정 챔버(200)의 몸체(210)으로부터 차례대로 형성된다. The
제1 액막이(510) 및 제2 액막이(520)는 서로 결합되는 부위의 단면이 "ㄷ"자 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 액막이(510)는 제2 액막이(520)와 결합하는 부위의 단면이 상부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 가지고, 제2 액막이(520)는 제1 액막이(510)와 결합하는 부위의 단면이 하부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 갖는다. 따라서, 제1 액막이(510) 및 제2 액막이(520)는 "ㄷ"자 형상에 의해 마련된 각각의 공간에 서로 삽입되어 결합된다. The
한편, 몸체(210)과 밀착하도록 형성된 제1 액막이(510)를 하부 액막이로 볼 때, 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)는 결합되어 일체로 형성된 상부 액막이를 구성한다. 따라서, 이중으로 형성된 상부 액막이가 1차적으로 세정액(W)이 누출되는 것을 방지하고, 하부 액막이가 최종적으로 세정액(W)이 누출되는 것을 방지된다. 따라서, 상부 액막이, 즉 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)가 이중, 이단으로 형성됨으로써 세정액(W)이 누출되는 것을 효율적으로 차단할 수 있다. 또한, 세정액(W)이 누출되는 것을 효과적으로 차단함으로써, 전체적인 제품의 수율이 향상되고 불량률이 감소된다. On the other hand, when the
또한, 유막이 상부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 갖는 제1 액막이(510)에 의해 생성된 채널 형상의 홈에 형성된다. 상기 유막은 세정액(W) 및 미스트(MIST)가 세정 챔버(200)의 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있다. In addition, an oil film is formed in the channel-shaped groove formed by the
예를 들어, 평판 패널 세정 장치(100)는 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)와 회전축(300)의 사이에 배치되는 오링(540)을 더 포함한다. 오링(540)은 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 회전축(300)에 밀착시킨다. 즉, 오링(540)은 접착성이 있는 물질로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들어, 오링(540)은 고무 재질로 이루어진다. 이와 달리, 오링(540)은 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)를 회전축(300)에 밀착시킬 수 있다면 다양한 재질로 이루어질 수 있다. 한편, 오링(540)은 예를 들어, 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)와 일체형으로 형성된다. 이와 달리, 오링(540)은 제2 액막이(520) 및 제3 액막이(530)와 분리되도록 형성될 수 있다. For example, the flat
이와 같은 평판 패널 세정 장치에 따르면, 평판 패널 세정 장치는 회전축을 둘러싸면서 형성된 이중 액막이를 포함한다. 따라서, 이중 액막이가 세정액이 누출되는 것을 1차적으로 차단하여 세정액이 누출하는 것을 효율적으로 차단할 수 있다. According to such a flat panel cleaning apparatus, the flat panel cleaning apparatus includes a double liquid film formed while surrounding the rotating shaft. Therefore, the double liquid membrane can block the leakage of the cleaning liquid primarily and can effectively block the leakage of the cleaning liquid.
또한, 액막이는 상부가 개방된 "ㄷ"자 형상을 가지며, 상기 형상에 의하여 형성된 홈에 유막이 형성되는 경우 미스트가 누출되는 것을 방지할 수 있다. In addition, the liquid film has an “c” shape with an open top, and when the oil film is formed in the groove formed by the shape, it is possible to prevent the mist from leaking.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. As described above, although described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be variously modified without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. And can be changed.
Claims (9)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070020542A KR100789727B1 (en) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | Flat Panel Cleaning Device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070020542A KR100789727B1 (en) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | Flat Panel Cleaning Device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR100789727B1 true KR100789727B1 (en) | 2008-01-03 |
Family
ID=39216063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020070020542A Active KR100789727B1 (en) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | Flat Panel Cleaning Device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100789727B1 (en) |
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| KR101099591B1 (en) | 2010-01-08 | 2011-12-28 | 세메스 주식회사 | Disk unit for cleaning substrate and substrate cleaning apparatus having the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20070228 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20071214 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20071221 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20071221 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20101203 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20111202 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121130 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20121130 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131203 Year of fee payment: 7 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20131203 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141201 Year of fee payment: 8 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20141201 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161202 Year of fee payment: 10 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20161202 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171204 Year of fee payment: 11 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20171204 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191203 Year of fee payment: 13 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20191203 Start annual number: 13 End annual number: 13 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210930 Start annual number: 15 End annual number: 15 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20221123 Start annual number: 16 End annual number: 16 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20231122 Start annual number: 17 End annual number: 17 |