KR20020006032A - 원자력 현미경용 액티브 프로브 및 그 이용방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (38)
- 접촉 모드에서 지정 주사 속도로 샘플을 분석하는 AFM으로서,상기 AFM은 자체-동작 캔틸레버, 제 1 피드백 회로, 제 2 피드백 회로, Z-위치 액츄에이터를 포함하며,상기 자체-동작 캔틸레버는 그 위에 배치되는 Z-위치설정 요소를 가지고, 상기 캔틸레버에 부착되어 주사 과정 중 샘플과 계속적으로 접촉하는 팁을 가지며,상기 제 1 피드백 회로는 상기 자체-동작 캔틸레버의 수직 변위에 따라 캔틸레버 제어 신호를 발생시키고,상기 제 2 패드백 회로는 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 위치 제어 신호를 발생시키며, 이때 상기 제 1 피드백 회로는 상기 제 2 피드백 회로 내에 위치하고,상기 Z-위치 액츄에이터는 상기 위치 제어 신호에 따라, 자체-동작 캔틸레버와 샘플 사이의 공간을 변화시키도록 자체-동작 캔틸레버와 샘플 중 하나를 위치설정하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 1 항에 있어서, 상기 Z-위치설정 요소는 압전 물질인 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 피드백 회로는 상기 자체-동작 캔틸레버의 수직 변위를 감지하면서 상응하는 편향 신호를 발생시키는 편향 감지기를 포함하는것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 피드백 회로는 상기 편향 신호에 따라 오류 신호를 발생시키는 차등 증폭기를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 4 항에 있어서, 상기 제 1 피드백 회로는 상기 캔틸레버 제어 신호를 발생시키도록 상기 오류 신호에 이득을 공급하는 제어기를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 5 항에 있어서, 상기 이득은 비례 이득, 일체 이득, 차등 이득 중 한 개 이상인 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 4 항에 있어서, 상기 Z-위치설정 요소는 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라, 상기 오류 신호를 무효화시키도록 상기 자체-동작 캔틸레버의 수직 변위를 이끄는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 3 항에 있어서, 상기 편향 감지기는 광감지기와 레이저를 포함하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 1 항에 있어서, AFM은 마운트를 포함하고, 상기 자체-동작 캔틸레버는 상기 마운트에 부착되는 제 1 단부와, 상기 팁이 위치하는 제 2 말단부를 가지는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 9 항에 있어서, 상기 자체-동작 캔틸레버는 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라, 상기 팁과 상기 샘플 표면 사이에 상대적으로 일정한 힘을 유지하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 1 항에 있어서, 상기 캔틸레버 제어 신호는 샘플 표면 구조를 나타내는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 자체-동작 캔틸레버와 Z-위치 액츄에이터를 가지는 프로브-기반의 AFM으로 샘플을 이미징하는 방법으로서, 상기 방법은,- 지정 주사 속도로 샘플 표면을 자체-동작 캔틸레버로 주사하고,- 상기 주사 단계에 따라 캔틸레버 편향을 감지하고 상응하는 편향 신호를 발생시키며,- 상기 편향 신호에 따라 제 1 피드백 회로로 캔틸레버 제어 신호를 발생시키고,- 상기 주사 단계 중 자체-동작 캔틸레버와 표준 사이에 일정한 힘을 유지하기 위해 자체-동작 캔틸레버에 상기 캔틸레버 제어 신호를 공급하며,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 제 2 피드백 회로로 위치 제어 신호를 발생시키고, 이때 상기 제 1 피드백 회로는 상기 제 2 피드백 회로 내에 위치하며,- 상기 주사 단계 중 샘플 위치 설정을 위해 Z-위치 액츄에이터에 상기 위치 제어 신호를 공급하는, 이상의 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 캔틸레버 제어 신호는 상기 샘플 표면의 고주파 형태를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 감지 단계는 광감지기와 레이저를 이용하여 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 감지 단계는 광선 바운스 기술과 인터디지털 회절 격자 기술 중 하나를 이용하여 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 13 항에 있어서, 상기 주사 속도가 500㎛보다 작을 때 위치 제어 신호 자체만으로 샘플의 형태를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 13 항에 있어서, 상기 방법은,- Z-위치 액츄에이터로 자체-동작 캔틸레버를 측정하여 상기 캔틸레버 제어 신호를 이용함으로서 자체-동작 캔틸레버를 제 1 방향으로 움직이게 하고 상기 위치 제어 신호를 이용하여 Z-위치 액츄에이터를 제 1 방향과는 반대인 제 2 방향으로 움직이게 하여 자체-동작 캔틸레버의 제로 알짜 움직임을 얻으며,- 그후, 상기 캔틸레버 제어 신호와 상기 위치 제어 신호를 비교하는, 이상의 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 주기 모드로 샘플 표면을 분석하는 AFM으로서,상기 AFM은 자체-동작 캔틸레버, 발진기, 제 1 피드백 회로, 제 2 피드백 회로, Z-위치 액츄에이터를 포함하며,상기 자체-동작 캔틸레버는 이와 통합된 Z-위치설정 요소를 가지고,상기 발진기는 상기 자체-동작 캔틸레버를 진동시키며,상기 제 1 피드백 회로는 주사 작동 중 상기 자체-동작 캔틸레버의 수직 변위에 따라 캔틸레버 제어 신호를 발생시키고,상기 제 2 피드백 회로는 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 위치 제어 신호를 발생시키며, 이때 상기 제 1 피드백 회로는 상기 제 2 피드백 회로 내에 위치하며,상기 Z-위치 액츄에이터는 상기 위치 제어 신호에 따라, 자체-동작 캔틸레버와 샘플 사이의 간격을 변화시키도록 상기 자체-동작 캔틸레버와 샘플 중 하나를 위치설정하고,이때 상기 자체-동작 캔틸레버는 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라, 프로브 진동의 매개변수를 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 18 항에 있어서, 상기 발진기는 상기 자체-동작 캔틸레버를 진동시키도록상기 Z-위치 설정 요소에 직접 진동 전압을 공급하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 19 항에 있어서, 상기 Z-위치설정 요소는 압전물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 18 항에 있어서, 상기 위치 제어 신호는 상기 샘플 표면의 형태의 저주파 성분을 나타내는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 21 항에 있어서, 상기 저주파 성분은 표면 형태의 경사를 포함하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 제 18 항에 있어서, 상기 캔틸레버 제어 신호는 표면 형태 매핑에 사용되는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 1) 제 1 피드백 신호를 출력하는 제 1 피드백 루프,2) 상기 제 1 피드백 신호에 의해 제어되는 자체-동작 캔틸레버,3) 제 2 피드백 루프에 의해 제어되는 Z-위치 액츄에이터를 포함하는 것을 특징으로 하고,이때 상기 제 2 피드백 루프가 상기 제 1 피드백 신호를 오류 신호로 이용하도록 상기 제 1 피드백 루프는 상기 제 2 피드백 루프 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 AFM.
- 자체-동작 캔틸레버와 Z-위치 액츄에이터를 가지는 프로브-기반의 AFM으로 주기 모드에서 샘플을 이미징하는 방법으로서, 상기 방법은,- 통합된 Z-위치설정 요소를 포함하는 자체-동작 캔틸레버로 샘플 표면을 주사하고,- 상기 주사 단계 중 자체-동작 캔틸레버의 편향에 따라 편향 신호를 발생시키며,- 자체-동작 캔틸레버를 진동시키도록 상기 Z-위치 설정 요소에 진동 구동 전압을 공급하고,- 상기 편향 신호에 따라 캔틸레버 제어 신호를 발생시키며,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라, 샘플에 대한 자체-동작 캔틸레버의 상대적 위치를 서보 기구로 제어함으로서 자체-동작 캔틸레버의 진동과 연계된 매개변수를 일정값으로 유지하고,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 위치 제어 신호를 발생시키며,- 상기 위치 제어 신호에 따라 Z-위치 액츄에이터를 제어하는, 이상의 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 25 항에 있어서, 상기 캔틸레버 제어 신호는 제 1 피드백 회로로 발생되고, 상기 위치 제어 신호는 제 2 피드백 회로로 발생되며, 상기 제 1 피드백 회로는 상기 제 2 피드백 회로 내에 위치하고, 상기 제 2 피드백 회로는 상기 제 1 피드백 회로보다 저속에서 작동하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 26 항에 있어서, 상기 Z-위치 액츄에이터는 샘플의 Z-위치를 제어하는 피조-튜브 액츄에이터인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 25 항에 있어서, Z-위치 액츄에이터는 열적 액츄에이터인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 28 항에 있어서, 상기 Z-위치설정 요소는 산화아연을 포함하고, 상기 자체-동작 캔틸레버는 실리콘으로 만들어진 긴 연장부를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 방법은 상기 긴 연장부가 수직 방향으로 구부러지도록 차제 동작 캔틸레버를 가열하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 30 항에 있어서, 상기 가열 단계는 자체-동작 캔틸레버에 배치되는 가열 요소를 이용하여 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 25 항에 있어서, 표면 형태 매핑을 위해 상기 캔틸레버 제어 신호를 이용하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 프로브-기반 AFM으로 주기 모드에서 샘플을 이미징하는 방법으로서, 상기 방법은,- 통합된 Z-위치설정 요소를 포함하는 자체-동작 캔틸레버와, 피조 튜브 Z-위치 액츄에이터를 제공하고,- 캔틸레버 공명 주파수에서 지정 진동 진폭으로 상기 자체-동작 캔틸레버를 상기 Z-위치설정 요소로 진동시키며,- 상기 자체-동작 캔틸레버로 샘플 표면을 주사하고,- 상기 주사 단계에 따라 편향 신호를 발생시키며,- 상기 편향 신호에 따라 캔틸레버 제어 신호를 제 1 피드백 루프로 발생시키고,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 상기 진동 진폭을 일정값으로 유지시키며,- Z-위치 액츄에이터 제어를 위해 제 2 피드백 루프에서 상기 캔틸레버 제어 신호를 오류 신호로 이용하고, 이때 상기 제 1 피드백 루프는 상기 제 2 피드백 루프 내에 위치하는, 이상의 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 33 항에 있어서, 상기 진동 단계는 상기 Z-위치 설정 요소에 직접 진동전압을 공급함으로서 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 33 항에 있어서, 상기 주사 단계가 500㎛/초보다 빠른 속도로 실행될 때 상기 캔틸레버 제어 신호가 샘플 형태를 나타내는 것을 특징으로 하는 방법.
- 프로브 기반 AFM으로 샘플 표면을 분석하는 방법으로서, 상기 방법은,- 실리콘으로 구성된 1) 긴 연장부와 산화아연으로 구성된 2) Z-위치설정 요소를 가지는 자체-동작 캔틸레버를 제공하고,- 지정 진동 진폭에서 캔틸레버 공명 주파수로 상기 자체-동작 캔틸레버를 진동시키며,- 상기 자체-동작 캔틸레버로 표면을 주사하고,- 상기 주사 단계에 따라 편향 신호를 발생시키며,- 상기 편향 신호에 따라 캔틸레버 제어 신호를 제 1 피드백 루프로 발생시키고,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 상기 진동 진폭을 일정한 값으로 유지하며,- 위치 제어 신호를 발생시키도록 제 2 피드백 루프에서 상기 캔틸레버 제어 신호를 오류 신호로 이용하고, 이때 상기 제 1 피드백 루프는 상기 제 2 피드백 루프 내에 위치하며,- 상기 자체-동작 캔틸레버의 Z-위치를 제어하기 위해 상기 위치 제어 신호에 따라 상기 자체-동작 캔틸레버를 가열하는, 이상의 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- Z-위치 설정 요소를 포함하는 자체-동작 캔틸레버와, Z-위치 액츄에이터를 가지는 프로브 기반 AFM으로 주기 모드에서 샘플을 분석하는 방법으로서, 상기 방법은,- 자체-동작 캔틸레버를 진동시키고 캔틸레버 팁을 간헐적으로 샘플 표면과 접촉하게 하도록 진동 구동 전압을 상기 Z-위치설정 요소에 공급하고,- 자체-동작 캔틸레버의 편향에 따라 편향 신호를 발생시키며,- 상기 편향 신호에 따라 캔틸레버 제어 신호를 발생시키고,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 샘플에 대한 자체-동작 캔틸레버의 상대적 위치를 서보 기구로 제어함으로서 자체-동작 캔틸레버의 진동과 관련된 매개변수를 일정한 값으로 유지하며,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 위치 제어 신호를 발생시키고,- 상기 캔틸레버 제어 신호에 따라 Z-위치 액츄에이터를 제어하는, 이상의 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 37 항에 있어서, 상기 공급 단계는 샘플 표면 상의 한 점에서 팁이 간헐적으로 접촉하게 하는 것을 특징으로 하는 방법.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101324598B1 (ko) * | 2006-10-17 | 2013-11-01 | 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드 | 주사탐침현미경을 사용한 샘플 스캐닝 방법 및 장치 |
Families Citing this family (116)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6672144B2 (en) * | 1999-03-29 | 2004-01-06 | Veeco Instruments Inc. | Dynamic activation for an atomic force microscope and method of use thereof |
| US7987006B2 (en) * | 2007-08-29 | 2011-07-26 | Agilent Technologies, Inc. | Automatic generation of PID parameters for a scanning probe microscope |
| DE10003693A1 (de) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Zeiss Carl | Abtastsystem mit auslenkbarer Tastspitze |
| JP2002188988A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-07-05 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
| US20020092340A1 (en) * | 2000-10-30 | 2002-07-18 | Veeco Instruments Inc. | Cantilever array sensor system |
| JP3817466B2 (ja) * | 2000-11-29 | 2006-09-06 | キヤノン株式会社 | 非接触型原子間力顕微鏡およびそれを用いた観察方法 |
| US6873163B2 (en) * | 2001-01-18 | 2005-03-29 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | Spatially resolved electromagnetic property measurement |
| US6612160B2 (en) | 2001-03-09 | 2003-09-02 | Veeco Instruments, Inc. | Apparatus and method for isolating and measuring movement in metrology apparatus |
| US6862921B2 (en) | 2001-03-09 | 2005-03-08 | Veeco Instruments Inc. | Method and apparatus for manipulating a sample |
| EP1393014A4 (en) * | 2001-03-29 | 2007-06-20 | Georgia Tech Res Inst | MICROINTERFEROMETER WITH OPTIMIZATION OF EFFICIENCY |
| US6642129B2 (en) * | 2001-07-26 | 2003-11-04 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Parallel, individually addressable probes for nanolithography |
| US7247895B2 (en) * | 2001-07-26 | 2007-07-24 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Electrostatic nanolithography probe actuation device and method |
| US20030075992A1 (en) * | 2001-10-19 | 2003-04-24 | Kouns Heath Elliot | Utilizing feedback for control of switch actuators |
| US6941823B1 (en) * | 2001-11-07 | 2005-09-13 | Veeco Instruments Inc. | Apparatus and method to compensate for stress in a microcantilever |
| EP1488193B1 (de) * | 2002-03-21 | 2013-06-12 | Vistec Electron Beam GmbH | Vorrichtung und verfahren zur maskenlosen afm mikrolithographie |
| JP3828030B2 (ja) * | 2002-03-25 | 2006-09-27 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 温度測定プローブおよび温度測定装置 |
| US7518737B2 (en) * | 2002-03-29 | 2009-04-14 | Georgia Tech Research Corp. | Displacement-measuring optical device with orifice |
| US7440117B2 (en) * | 2002-03-29 | 2008-10-21 | Georgia Tech Research Corp. | Highly-sensitive displacement-measuring optical device |
| US7116430B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-10-03 | Georgia Technology Research Corporation | Highly-sensitive displacement-measuring optical device |
| EP1359388B1 (de) * | 2002-05-03 | 2004-12-08 | Nanoworld AG | SPM-Sensor und Verfahren zu dessen Herstellung |
| ES2194607B1 (es) * | 2002-05-03 | 2005-03-16 | Consejo Superior Investigaciones Cientificas | Un dispositivo de control de una señal de excitacion de un elemento oscilador mecanico resonante, un dispositivo de medicion, un metodo para controlar la señal de excitacion, un metodo para realizar mediciones, un programa de ordenador y un dispositivo de almacenamiento. |
| ES2194608B1 (es) * | 2002-05-03 | 2005-03-16 | Consejo Sup. Investig. Cientificas | El metodo de evolucion temporal continua y su implementacion para optimizar la respuesta en frecuencias de un microscopio de fuerzas. |
| JP4190936B2 (ja) * | 2002-09-17 | 2008-12-03 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 走査型プローブ顕微鏡およびその操作法 |
| KR100501893B1 (ko) * | 2002-11-14 | 2005-07-25 | 한국전자통신연구원 | 주파수 응답 분리 방식을 이용한 비접촉식 측정 장치 및그 측정 방법 |
| US6780664B1 (en) | 2002-12-20 | 2004-08-24 | Advanced Micro Devices, Inc. | Nanotube tip for atomic force microscope |
| US6886395B2 (en) | 2003-01-16 | 2005-05-03 | Veeco Instruments Inc. | Method of fabricating a surface probing device and probing device produced thereby |
| US7521257B2 (en) * | 2003-02-11 | 2009-04-21 | The Board Of Regents Of The Nevada System Of Higher Education On Behalf Of The University Of Nevada, Reno | Chemical sensor with oscillating cantilevered probe and mechanical stop |
| US7260980B2 (en) * | 2003-03-11 | 2007-08-28 | Adams Jesse D | Liquid cell and passivated probe for atomic force microscopy and chemical sensing |
| US7022976B1 (en) | 2003-04-02 | 2006-04-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Dynamically adjustable probe tips |
| JP4832296B2 (ja) * | 2003-07-15 | 2011-12-07 | ユニバーシティ・オブ・ブリストル | 原子間力顕微鏡用プローブ |
| US7055378B2 (en) * | 2003-08-11 | 2006-06-06 | Veeco Instruments, Inc. | System for wide frequency dynamic nanomechanical analysis |
| US7165445B2 (en) | 2003-08-25 | 2007-01-23 | Asylum Research Corporation | Digital control of quality factor in resonant systems including cantilever based instruments |
| US20060257286A1 (en) | 2003-10-17 | 2006-11-16 | Adams Jesse D | Self-sensing array of microcantilevers for chemical detection |
| JP2005321758A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-11-17 | Sii Nanotechnology Inc | 走査型プローブ装置および走査型プローブ加工方法 |
| JP2007532916A (ja) * | 2004-04-14 | 2007-11-15 | ビーコ インストルメンツ インコーポレイテッド | プローブベース機器を用いて定量的測定を獲得する方法および装置 |
| US7385411B2 (en) * | 2004-08-31 | 2008-06-10 | Formfactor, Inc. | Method of designing a probe card apparatus with desired compliance characteristics |
| US7111504B2 (en) * | 2004-09-30 | 2006-09-26 | Lucent Technologies Inc. | Atomic force microscope |
| US7694346B2 (en) * | 2004-10-01 | 2010-04-06 | Board Of Regents Of The Nevada System Of Higher Education On Behalf Of The University Of Nevada | Cantilevered probe detector with piezoelectric element |
| US7485847B2 (en) * | 2004-12-08 | 2009-02-03 | Georgia Tech Research Corporation | Displacement sensor employing discrete light pulse detection |
| JP4995466B2 (ja) * | 2005-03-08 | 2012-08-08 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 走査型プローブによる加工方法 |
| FR2885446B1 (fr) * | 2005-05-09 | 2007-07-20 | St Microelectronics Sa | Sonde coaxiale, son procede de fabrication et dispositif de mesure en champ proche electromagnetique sur des systemes a distance submicrometrique |
| JP5164147B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2013-03-13 | 国立大学法人金沢大学 | 走査型プローブ顕微鏡およびカンチレバー駆動装置 |
| US8220318B2 (en) * | 2005-06-17 | 2012-07-17 | Georgia Tech Research Corporation | Fast microscale actuators for probe microscopy |
| US7513142B2 (en) * | 2005-08-12 | 2009-04-07 | Veeco Instruments Inc. | Tracking qualification and self-optimizing probe microscope and method |
| EP1755137A1 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | University of Teheran | A method of forming a carbon nanotube emitter, carbon nanotube emitter with applications in nano-printing and use thereof |
| WO2007041374A2 (en) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Veeco Instruments Inc. | Method and apparatus of high speed property mapping |
| US7395698B2 (en) * | 2005-10-25 | 2008-07-08 | Georgia Institute Of Technology | Three-dimensional nanoscale metrology using FIRAT probe |
| US7752898B2 (en) * | 2005-10-28 | 2010-07-13 | Georgia Tech Research Corporation | Devices for probe microscopy |
| US7647965B2 (en) * | 2005-10-31 | 2010-01-19 | Baker Hughes Incorporated | Method and apparatus for insulating a resonator downhole |
| WO2007078979A2 (en) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Karma Technology, Inc. | Probe module with integrated actuator for a probe microscope |
| US8302456B2 (en) | 2006-02-23 | 2012-11-06 | Asylum Research Corporation | Active damping of high speed scanning probe microscope components |
| US7607342B2 (en) * | 2006-04-26 | 2009-10-27 | Vecco Instruments, Inc. | Method and apparatus for reducing lateral interactive forces during operation of a probe-based instrument |
| FR2901601B1 (fr) * | 2006-05-24 | 2008-12-19 | Univ Grenoble 1 | Microscope a force atomique asservi |
| US8485016B2 (en) * | 2006-06-12 | 2013-07-16 | Trefford Simpson | Method of calibrating a biometric device |
| US7748260B2 (en) * | 2006-07-12 | 2010-07-06 | Veeco Instruments Inc. | Thermal mechanical drive actuator, thermal probe and method of thermally driving a probe |
| US7568381B2 (en) * | 2006-08-02 | 2009-08-04 | University Of North Carolina At Charlotte | Apparatus and method for surface property measurement with in-process compensation for instrument frame distortion |
| US7797757B2 (en) * | 2006-08-15 | 2010-09-14 | Georgia Tech Research Corporation | Cantilevers with integrated actuators for probe microscopy |
| US7975315B2 (en) * | 2006-09-04 | 2011-07-05 | National University Corporation Kanazawa University | Atomic force microscope |
| US7975314B2 (en) * | 2006-09-06 | 2011-07-05 | National University Corporation Kanazawa University | Scanning probe microscope and active damping drive control device |
| US7853067B2 (en) * | 2006-10-27 | 2010-12-14 | Asml Holding N.V. | Systems and methods for lithographic reticle inspection |
| US7574327B2 (en) * | 2006-12-12 | 2009-08-11 | Sc Solutions | All-digital cantilever controller |
| US8248750B2 (en) * | 2007-12-13 | 2012-08-21 | Bayer Materialscience Ag | Electroactive polymer transducers |
| EP1950764A1 (de) * | 2007-01-23 | 2008-07-30 | Nambition GmbH | Fluidzelle für die Rastersondenmikroskopie oder Kraftsprektroskopie |
| US7745206B2 (en) * | 2007-01-29 | 2010-06-29 | Arizona State University | AFM for simultaneous recognition of multiple factors |
| US8168120B1 (en) | 2007-03-06 | 2012-05-01 | The Research Foundation Of State University Of New York | Reliable switch that is triggered by the detection of a specific gas or substance |
| US7721587B2 (en) * | 2007-03-12 | 2010-05-25 | Purdue Research Foundation | System and method for improving the precision of nanoscale force and displacement measurements |
| US8429954B2 (en) * | 2007-03-12 | 2013-04-30 | Purdue Research Foundation | Monolithic comb drive system and method for large-deflection multi-DOF microtransduction |
| US8402819B2 (en) * | 2007-05-15 | 2013-03-26 | Anasys Instruments, Inc. | High frequency deflection measurement of IR absorption |
| DE102007031112A1 (de) * | 2007-06-27 | 2009-01-02 | Technische Universität Ilmenau | Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung von Oberflächeneigenschaften verschiedenartiger Materialien |
| US7952261B2 (en) | 2007-06-29 | 2011-05-31 | Bayer Materialscience Ag | Electroactive polymer transducers for sensory feedback applications |
| CN100570347C (zh) * | 2007-07-19 | 2009-12-16 | 清华大学 | 一种谐振式微悬臂梁自激振荡自检测传感器 |
| US8505110B2 (en) * | 2007-10-10 | 2013-08-06 | Eloret Corporation | Apparatus and process for controlled nanomanufacturing using catalyst retaining structures |
| JP5148969B2 (ja) * | 2007-10-26 | 2013-02-20 | みずほ情報総研株式会社 | カンチレバー評価システム、カンチレバー評価方法及びカンチレバー評価プログラム |
| EP2283486A2 (en) * | 2008-05-23 | 2011-02-16 | Veeco Instruments Inc. | Preamplifying cantilever and applications thereof |
| WO2010044869A1 (en) * | 2008-10-14 | 2010-04-22 | Proksch, Roger | Modular atomic force microscope |
| CN103328984B (zh) * | 2010-11-29 | 2015-11-25 | 布鲁克纳米公司 | 使用峰值力轻敲模式来测量样本的物理特性的方法和设备 |
| JP5226481B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-07-03 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 自己変位検出型カンチレバーおよび走査型プローブ顕微鏡 |
| CN102272610B (zh) | 2008-12-11 | 2015-02-25 | 因菲尼泰西马有限公司 | 动态探针检测系统 |
| JP5340119B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2013-11-13 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 走査型プローブ顕微鏡における探針とサンプルの近接方法 |
| EP2219035A1 (en) * | 2009-02-16 | 2010-08-18 | Institut Curie | Method for automatic adjustment of the applied force and control of the force drift in an Atomic Force Microscope during contact mode imaging. |
| EP2239793A1 (de) | 2009-04-11 | 2010-10-13 | Bayer MaterialScience AG | Elektrisch schaltbarer Polymerfilmaufbau und dessen Verwendung |
| US20120047610A1 (en) | 2010-04-09 | 2012-02-23 | Boise State University | Cantilever-based optical interface force microscope |
| US8549660B2 (en) | 2010-04-09 | 2013-10-01 | Boise State University | Cantilever-based optical fiber probe interfacial force microscope for partial immersion in liquid |
| US9408555B2 (en) | 2010-06-30 | 2016-08-09 | Indiana University Research And Technology Corporation | Supersensitive linear pressure transducer |
| WO2012115653A1 (en) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | Agilent Technologies, Inc. | Atomic force microscopy controller and method |
| WO2012118916A2 (en) | 2011-03-01 | 2012-09-07 | Bayer Materialscience Ag | Automated manufacturing processes for producing deformable polymer devices and films |
| JP2014517331A (ja) | 2011-03-22 | 2014-07-17 | バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 電場応答性高分子アクチュエータレンチキュラシステム |
| US8458810B2 (en) * | 2011-04-07 | 2013-06-04 | Michael E. MCCONNEY | Scanning thermal twisting atomic force microscopy |
| US8997954B2 (en) | 2011-04-14 | 2015-04-07 | Phillip D. Rodenbeck | Variable-elastomer semi-active damping apparatus |
| US9689891B2 (en) * | 2011-05-27 | 2017-06-27 | Keysight Technologies, Inc. | Automatic gain tuning in atomic force microscopy |
| ES2403555B1 (es) | 2011-10-10 | 2014-03-28 | Universidad Autonoma De Madrid | Procedimiento de control de un microscopio de barrido |
| US9876160B2 (en) | 2012-03-21 | 2018-01-23 | Parker-Hannifin Corporation | Roll-to-roll manufacturing processes for producing self-healing electroactive polymer devices |
| KR20150031285A (ko) | 2012-06-18 | 2015-03-23 | 바이엘 인텔렉쳐 프로퍼티 게엠베하 | 연신 공정을 위한 연신 프레임 |
| US9590193B2 (en) | 2012-10-24 | 2017-03-07 | Parker-Hannifin Corporation | Polymer diode |
| WO2014083358A1 (en) | 2012-11-29 | 2014-06-05 | Infinitesima Limited | Probe calibration or measurement routine |
| US8726411B1 (en) * | 2013-03-21 | 2014-05-13 | National Tsing Hua University | Charged probe and electric fields measurement method thereof |
| US8943611B2 (en) | 2013-07-23 | 2015-01-27 | National Institute Of Standards And Technology | Probe module, method for making and use of same |
| EP2913681A1 (en) * | 2014-02-28 | 2015-09-02 | Infinitesima Limited | Probe system with multiple actuation locations |
| EP2913682A1 (en) * | 2014-02-28 | 2015-09-02 | Infinitesima Limited | Probe actuation system with feedback controller |
| US9383388B2 (en) | 2014-04-21 | 2016-07-05 | Oxford Instruments Asylum Research, Inc | Automated atomic force microscope and the operation thereof |
| EP3237912A4 (en) * | 2014-12-23 | 2018-08-15 | Yale University | Tuned oscillator atomic force microscopy methods and apparatus |
| EP3359929B1 (en) * | 2015-10-09 | 2024-06-19 | Leica Microsystems CMS GmbH | Dynamic lock-in detection bandwidth for srs imaging |
| KR102407818B1 (ko) * | 2016-01-26 | 2022-06-10 | 삼성전자주식회사 | 원자힘 현미경용 캔틸레버 세트, 이를 포함하는 기판 표면 검사 장치, 이를 이용한 반도체 기판의 표면 분석 방법 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법 |
| WO2017191015A1 (en) | 2016-05-04 | 2017-11-09 | Institut National De La Santé Et De La Recherche Médicale (Inserm) | A method of operating an afm |
| RU2638365C1 (ru) * | 2016-11-29 | 2017-12-13 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "Центр перспективных технологий" | Проточная жидкостная ячейка для сканирующей зондовой микроскопии |
| RU2645884C1 (ru) * | 2016-11-29 | 2018-02-28 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "Центр перспективных технологий" | Проточная жидкостная ячейка для сканирующей зондовой микроскопии |
| CN109580990B (zh) * | 2017-09-28 | 2021-08-06 | 中国医学科学院基础医学研究所 | 一种采用原子力显微镜检测细胞表面孔洞的方法 |
| JP7031851B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2022-03-08 | 株式会社生体分子計測研究所 | 原子間力顕微鏡 |
| JP7048964B2 (ja) * | 2018-03-26 | 2022-04-06 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 走査型プローブ顕微鏡及びその走査方法 |
| CN109873948B (zh) * | 2019-01-30 | 2020-06-26 | 中国地质大学(武汉) | 一种光学显微镜智能自动聚焦方法、设备及存储设备 |
| US12091313B2 (en) | 2019-08-26 | 2024-09-17 | The Research Foundation For The State University Of New York | Electrodynamically levitated actuator |
| JP7531919B2 (ja) * | 2019-09-05 | 2024-08-13 | 国立大学法人大阪大学 | 走査型プローブ顕微鏡及び走査型プローブ顕微鏡の駆動制御装置 |
| US11002759B2 (en) | 2019-09-10 | 2021-05-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | High-sensitivity, low thermal deflection, stress-matched atomic force microscopy and scanning thermal microscopy probes |
| WO2021145578A1 (ko) * | 2020-01-14 | 2021-07-22 | 파크시스템스 주식회사 | 기울어진 팁을 이용하여 측정 대상의 표면의 특성을 얻는 방법, 이 방법이 수행되기 위한 원자 현미경 및 이 방법이 수행되기 위해 저장 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램 |
| WO2022258084A1 (en) | 2021-07-13 | 2022-12-15 | Ceske Vysoke Uceni Technicke V Praze | A method of examining a sample in an atomic force microscope |
| EP4553505A1 (en) | 2023-11-09 | 2025-05-14 | Infinitesima Limited | Scanning probe microscope |
Family Cites Families (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US34489A (en) * | 1862-02-25 | Improvement in metallic cases for pictures, cards | ||
| US4935634A (en) * | 1989-03-13 | 1990-06-19 | The Regents Of The University Of California | Atomic force microscope with optional replaceable fluid cell |
| US5237859A (en) | 1989-12-08 | 1993-08-24 | Digital Instruments, Inc. | Atomic force microscope |
| US5224376A (en) | 1989-12-08 | 1993-07-06 | Digital Instruments, Inc. | Atomic force microscope |
| JP2976131B2 (ja) * | 1990-09-13 | 1999-11-10 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 走査型トンネル顕微鏡 |
| JP2915554B2 (ja) | 1990-11-19 | 1999-07-05 | オリンパス光学工業株式会社 | バリアハイト測定装置 |
| US5210410A (en) | 1991-09-26 | 1993-05-11 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Scanning probe microscope having scan correction |
| JP3070216B2 (ja) * | 1992-01-13 | 2000-07-31 | 株式会社日立製作所 | 表面顕微鏡及び顕微方法 |
| DE69309318T2 (de) | 1992-01-10 | 1997-10-30 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Verfahren und Vorrichtung zum Beobachten einer Fläche |
| US5319960A (en) * | 1992-03-06 | 1994-06-14 | Topometrix | Scanning force microscope |
| US5412980A (en) | 1992-08-07 | 1995-05-09 | Digital Instruments, Inc. | Tapping atomic force microscope |
| US5519212A (en) * | 1992-08-07 | 1996-05-21 | Digital Instruments, Incorporated | Tapping atomic force microscope with phase or frequency detection |
| US5321977A (en) | 1992-12-31 | 1994-06-21 | International Business Machines Corporation | Integrated tip strain sensor for use in combination with a single axis atomic force microscope |
| US5406832A (en) | 1993-07-02 | 1995-04-18 | Topometrix Corporation | Synchronous sampling scanning force microscope |
| US5537863A (en) * | 1993-07-15 | 1996-07-23 | Nikon Corporation | Scanning probe microscope having a cantilever used therein |
| US5440121A (en) | 1993-12-28 | 1995-08-08 | Seiko Instruments Inc. | Scanning probe microscope |
| US5883705A (en) * | 1994-04-12 | 1999-03-16 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Jr. University | Atomic force microscope for high speed imaging including integral actuator and sensor |
| US5742377A (en) | 1994-04-12 | 1998-04-21 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Jr. University | Cantilever for scanning probe microscope including piezoelectric element and method of using the same |
| US5517280A (en) | 1994-04-12 | 1996-05-14 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Jr. University | Photolithography system |
| US5883387A (en) * | 1994-11-15 | 1999-03-16 | Olympus Optical Co., Ltd. | SPM cantilever and a method for manufacturing the same |
| JP3229914B2 (ja) * | 1994-12-12 | 2001-11-19 | 日本電子株式会社 | 走査型プローブ顕微鏡 |
| US5838005A (en) * | 1995-05-11 | 1998-11-17 | The Regents Of The University Of California | Use of focused ion and electron beams for fabricating a sensor on a probe tip used for scanning multiprobe microscopy and the like |
| JP3608009B2 (ja) * | 1995-07-05 | 2005-01-05 | 株式会社ニコン | 原子間力顕微鏡 |
| JP3175913B2 (ja) * | 1995-12-08 | 2001-06-11 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | プローブ顕微鏡の制御方法 |
| JPH10239329A (ja) * | 1997-02-27 | 1998-09-11 | Jeol Ltd | 走査プローブ顕微鏡 |
| JPH09264897A (ja) * | 1996-03-28 | 1997-10-07 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
| JPH1010140A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-16 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
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| JP2000266657A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Seiko Instruments Inc | 自己励振型カンチレバー |
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Cited By (1)
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