KR20090056931A - 산 염료 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 I의 화합물, 이의 제조 방법, 및 유기 기재를 염색 및/또는 프린팅하기 위한 이의 용도에 관한 것이다:
화학식 I

Description

산 염료{ACID DYES}
본 발명은 신규한 산 염료, 이의 제조 방법, 및 유기 기재를 염색하기 위한 이의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 하기 화학식 I의 화합물, 또는 하나 이상의 음이온성 치환기를 갖는 하기 화학식 I의 화합물을 제공한다:
Figure 112008077269520-PCT00001
상기 식에서,
R1 및 R8은 독립적으로, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 또는 치환된 분지형 C3-6알킬이고,
R2 및 R7은 독립적으로, 치환 또는 비치환된 아릴, 또는 치환 또는 비치환된 -(CH2)n-아릴(여기서, n = 1, 2, 3 또는 4이다)이고,
R3 및 R6은 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 비치환된 비분지형 C1-6알콕시, 비치환된 분지형 C3-6알콕시, 치환된 비분지형 C1-6알콕시, 치환된 분지형 C3-6알콕시, 할로겐, 치환 또는 비치환된 비분지형 C1-6알킬기를 갖는 -NHCO-(C1-6알킬), 치환 또는 비치환된 분지형 C3-6알킬기를 갖는 -NHCO-(C3-6알킬), 또는 -NHCONH2이고,
R4 및 R5는 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 또는 할로겐이다.
바람직한 화학식 I의 화합물은,
R1 및 R8이 독립적으로, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 또는 치환된 분지형 C3-6알킬이고,
R2 및 R7이 독립적으로, 치환 또는 비치환된 아릴, 또는 치환 또는 비치환된 -(CH2)n-아릴(여기서, n = 1, 2, 3 또는 4이다)이고,
R3 및 R6이 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 비치환된 비분지형 C1-6알콕시, 비치환된 분지형 C3-6알콕시, 치환된 비분지형 C1-6알콕시, 또는 치환된 분지형 C3-6알콕시이고,
R4 및 R5가 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 또는 할로겐인, 화합물이다.
바람직한 화학식 I의 화합물은 하나 이상의 음이온성 치환기, 바람직하게는 1, 2 또는 3개의 음이온성 치환기를 갖고, 2개의 음이온성 치환기를 갖는 것이 특히 매우 바람직하다.
화학식 I의 화합물 중의 하나 이상의 음이온성 치환기는 바람직하게는 치환기 R1, R2, R7 및/또는 R8 중 하나에 위치되고, 보다 바람직하게는 치환기 R2 및/또는 R7 중 하나에 위치된다.
바람직한 음이온성 치환기는 카복실 및/또는 설포기이고, 설포기가 특히 바람직하다.
바람직한 화학식 I의 화합물은 바람직하게는 1, 2 또는 3개, 보다 바람직하게는 2개의 설포기를 갖는다. 바람직하게는 1, 2 또는 3개의 설포기는 라디칼 R1, R2, R7 및/또는 R8 상의 추가 치환기 또는 치환기이고, 보다 바람직하게는 1, 2 또는 3개의 설포기는 치환기 R2 및/또는 R7 중 하나에 위치된다.
아릴기는 바람직하게는 치환된 페닐, 치환된 나프틸, 비치환된 페닐, 비치환된 나프틸, 치환 또는 비치환된 -(CH2)n-페닐, 또는 치환 또는 비치환된 -(CH2)n-나프틸(여기서, n=1, 2, 3 또는 4이다)이다. n이 1 또는 2인 것이 바람직하다.
또한, R2 및 R7이 비치환된 -CH2-페닐기 또는 치환된 -CH2-페닐기인 화학식 I의 화합물이 특히 매우 바람직하다. 바람직한 -CH2-페닐기는 치환된 -CH2-페닐기이고, 바람직하게는 니트로기 및/또는 설포기에 의해 치환되며, 여기서 설포기는 치환된 -CH2-페닐기에 대한 치환기로서 특히 매우 바람직하다.
상기 -CH2-페닐기에서의 이러한 치환기는 바람직하게는 페닐 잔기에 위치된다. 보다 바람직하게는, 상기 -CH2-페닐기에서의 이들 치환기는 메타- 또는 파라-위치에서 페닐 잔기에 위치하고, 메타-위치가 파라-위치보다 더욱 바람직하다.
분지형 C3-6알킬기 또는 비분지형 C1-6알킬기 및 비분지형 C1-6알콕시기 또는 분지형 C3-6알콕시기는 하이드록시기 또는 사이아노기로 추가로 치환될 수 있다. 바람직하게는 상기 알킬기 및/또는 알콕시기가 추가로 치환되지 않는다.
바람직한 화학식 I의 화합물에서, 바람직한 알킬기 및 바람직한 알콕시기는 메틸, 에틸, 프로필, 메톡시 및 에톡시기이다. 메틸, 에틸 및 메톡시기가 특히 매우 바람직하다.
치환된 아릴기는 니트로 또는 설포기로 바람직하게 치환된다. 아릴기 상의 치환기로서 설포기가 특히 바람직하다.
바람직한 화학식 I의 화합물에서, 라디칼
Figure 112008077269520-PCT00002
는 라디칼
Figure 112008077269520-PCT00003
의 m 또는 p 위치에 결합되고, p 위치가 보다 바람직하다.
또한 본 발명은 화학식 I의 화합물의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 화학식 I의 화합물은 통상의 조건 하에 통상적인 공정으로 제조될 수 있다.
이 제조 방법에서, 문헌에 공지되어 있는 하기 화학식 II의 화합물을 통상적으로 디아조화시키고, 1 당량의 하기 화학식 III의 화합물과 커플링시키고, 보호기 SG를 (가수분해에 의해) 제거한 후, 하기 화학식 IV의 아민을 통상적으로 디아조화시키고, 1 당량의 화학식 V의 화합물과 커플링시킨다:
Figure 112008077269520-PCT00004
Figure 112008077269520-PCT00005
Figure 112008077269520-PCT00006
Figure 112008077269520-PCT00007
상기 식에서,
SG는 보호기, 예컨대 아세틸이고,
다른 치환기들은 각각 상기 정의된 바와 같다.
유사한 방식으로, 먼저 하기 화학식 II'의 화합물을 통상적으로 디아조화시키고, 1 당량의 하기 화학식 V의 화합물과 커플링시키고, 보호기 SG를 (가수분해에 의해) 제거한 후, 하기 화학식 IV'의 아민을 통상적으로 디아조화시키고, 1 당량의 화학식 III의 화합물과 커플링시키는 방법으로 진행시킬 수 있다:
[화학식 II']
Figure 112008077269520-PCT00008
화학식 III
Figure 112008077269520-PCT00009
[화학식 IV']
Figure 112008077269520-PCT00010
화학식 V
Figure 112008077269520-PCT00011
상기 식에서,
상기 치환기들은 각각 상기 정의된 바와 같다.
원칙적으로, 하기 화학식 II"의 화합물의 두 아민 작용기 모두를 비스-디아조화한 후, 2당량의 화학식 III 또는 V의 화합물과 커플링시키거나, 화학식 III 및 V의 화합물의 혼합물과 커플링시킬 수 있다. 다양한 가능한 화합물들의 통계학적 혼합물이 그러한 반응 절차, 즉 다이아민(II")이 비스-디아조화된 후 화학식 III 및 V의 화합물들의 혼합물과 반응하는 반응 절차를 초래할 것임은 당업자에게 자명하다:
[화학식 II']
Figure 112008077269520-PCT00012
.
이 절차에서는, 특정 아민을 0 내지 10℃, 또는 바람직하게는 0 내지 5℃,로 냉각시키고, 니트로실 황산을 첨가하여 디아조화시킨다. 이후, 상기 디아조화된 아민을 필요한 화학식 III 또는 V와, 바람직하게는 수용액 중에서 반응시킬 수 있다.
화학식 I의 염료는 통상적 공정에 의해, 예컨대 알칼리 금속 염으로 염석하고, 여과하고, 적절하게는 감압 하에 승온에서 건조함에 의해 반응 매질로부터 단리될 수 있다.
상기 반응 및/또는 단리 조건에 따라, 화학식 I의 염료는 유리 산으로서, 또는 예컨대 알칼리 금속 이온(예: 소듐 이온), 및 암모늄 이온 또는 알킬암모늄 양이온(예: 모노-, 다이- 또는 트라이메틸- 또는 -에틸암모늄 양이온)으로부터 선택된 하나 이상의 양이온을 함유하는 염 또는 혼합 염으로서 수득될 수 있다. 상기 염료는 통상적인 기법에 의해 유리 산으로부터 염 또는 혼합 염으로, 또는 그 역으로, 또는 하나의 염 형태로부터 다른 염 형태로 전환될 수 있다. 필요한 경우, 상기 염료는, 조질 음이온성 염료로부터 원치 않는 염 및 합성 부산물을 분리하는 정 용여과에 의해 추가로 정제될 수 있다.
조질 염료 용액으로부터의 원치 않는 염 및 합성 부산물의 제거 및 물의 부분적 제거는 반투과막을 통해 압력을 가하여 수행되며, 이로써 상기 염료는 원치 않는 염 및 합성 부산물을 함유하지 않는 용액으로서 수득되고, 필요한 경우 통상적인 방식으로 고체 바디(solid body)로서 수득된다.
화학식 I의 염료 및 이의 염은 천연 또는 합성 폴리아미드로 이루어진 섬유성 재료를 적색 내지 자색 색조(shade)로 염색 또는 프린팅하기에 특히 적합하다. 화학식 I의 염료 및 이의 염은 잉크젯 프린팅 잉크 제조, 및 상기 잉크젯 프린팅 잉크를 사용하여 천연 또는 합성 폴리아미드 또는 셀룰로즈로 이루어진 섬유성 재료(예: 종이)를 프린팅하는 것에 적합하다.
따라서, 다른 양태에서 본 발명은 천연 또는 합성 폴리아미드로 이루어진 섬유성 재료를 염색 및/또는 프린팅하기 위한, 화학식 I의 화합물 및 이의 염 및 혼합물의 염료로서의 용도를 제공한다. 다른 양태는 잉크젯 프린팅 잉크의 제조, 및 천연 또는 합성 폴리아미드로 이루어진 섬유성 재료를 프린팅하기 위한 상기 잉크젯 프린팅 잉크의 용도이다.
염색은 공지의 공정, 예컨대 문헌[Ullmanns Encyklopadie der technischen Chemie, 4th Edition, 1982, Volume 22, pages 658-673] 또는 문헌[M. Peter and H. K. Rouette, Grundlagen der Textilveredlung, 13th Edition, 1989, pages 535-556 and 566-574]에 기재된 염색 공정에 의해 실시된다. 30 내지 140℃의 온도, 보다 바람직하게는 80 내지 120℃의 온도, 가장 바람직하게는 80 내지 100℃의 온 도에서 3:1 내지 40:1의 범위의 리쿼(liquor) 비에서 흡진 공정(exhaust process)으로 염색하는 것이 바람직하다.
염색되는 기재는 예컨대 얀, 제직 패브릭(woven fabric), 루프-형성 니트 패브릭 또는 카펫이 형태로 존재할 수 있다. 예컨대 양모, 캐시미어, 알파카 및 모헤어(mohair)와 같은 섬세한 기재 상에서는 심지어는 영구적인 풀 패션(fully fashioned) 염색이 가능하다. 본 발명의 염료는 미세-데니어 섬유(마이크로섬유) 염색에 특히 유용하다.
본 발명에 따른 염료 및 이의 염은 공지의 산 염료와의 상용성이 매우 높다. 따라서, 화학식 I의 염료, 이의 염 또는 혼합물은 염색 또는 프린팅 공정에서 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 달리, 동일한 부류의 다른 산 염료, 즉 동등한 염색 성질, 예컨대 견뢰도 및 염색조로부터 기재로의 흡진율(exhaustion rate)을 갖는 산 염료와 함께 복합색조 염색 또는 프린팅 조성물에서의 성분으로서 사용될 수 있다. 특히 본 발명의 염료는 적합한 발색단을 갖는 특정의 다른 염료와 함께 사용될 수 있다. 상기 염료가 복합색조 염색 또는 프린팅 조성물에 존재하는 경우, 상기 염료의 비는 수득하고자 하는 색조(hue)에 의해 결정된다.
전술된 화학식 I의 신규 염료는, 높은 견뢰도 수준, 특히 우수한 광 견뢰도 및 우수한 습윤 견뢰도(세탁, 알칼리성 발한(perspiration))를 갖는 염색물이 수득되는 천연 및 합성 폴리아미드, 즉 울, 실크 및 모든 나일론 유형을 염색하는데 매우 유용하다. 화학식 I의 염료 및 이의 염은 높은 흡진율을 갖는다. 유사하게 화학식 I의 염료 및 이의 염은 축적(build up) 능력이 매우 우수하다. 규명된 기재 상에서의 온-톤(on-tone) 염색은 현저한 품질을 제공한다. 또한, 모든 염색물은 인공 광(artificial light) 하에 일정한 색조를 갖는다. 또한, 디케이팅(decating) 및 비등에 대한 견뢰도도 우수하다.
상기 신규 염료의 하나의 결정적인 장점은 상기 염료가 금속을 함유하지 않고, 매우 균일한 염색물을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 화합물은 개별적 염료로서 사용되거나, 또는 이의 우수한 상용성에 기인하여, 동등한 염색 성질, 예컨대 일반 견뢰도, 흡진가 등과 관련된 성질을 갖는 동일한 부류의 다른 염료와의 조합 성분으로서 사용될 수 있다. 수득된 복합색조 염색물은 개별적 염료를 사용한 염색물과 유사한 견뢰도를 갖는다.
또한 본 발명의 화학식 I의 염료는 3색(trichromatic) 염색 또는 프린팅에서 적색 성분으로서 사용될 수 있다. 3색 염색 또는 프린팅은 모든 통상적 및 공지의 염색 및 프린팅 공정, 예컨대 연속식 공정, 흡진 공정, 포움(foam) 염색 공정 및 잉크젯 공정을 이용할 수 있다.
본 발명의 공정에서 사용되는 3색 염료 혼합물에서의 개별적 염료 성분들의 조성은 목적하는 색조에 좌우된다. 예컨대 갈색 색조는 바람직하게는 55 내지 65 중량%의 황색 성분, 20 내지 30 중량%의 본 발명의 적색 성분 및 10 내지 20 중량%의 청색 성분을 사용한다.
전술된 황색 성분은 단일 성분으로 구성될 수 있거나, 화학식 I에 따르는 여러 가지 개별적 적색 성분들의 혼합물로 구성될 수 있다. 2성분 및 3성분 조합물이 바람직하다.
특히 바람직한 청색 및/또는 황색 성분들이 WO2002/46318호에 기재되어 있다.
다음의 실시예에서, 부 및 퍼센트는 중량을 기준으로 하고, 온도는 섭씨로서 기록된다.
제조예 1
4-아미노아세틸아닐라이드 15.0 부를 얼음 50 부 및 약 30% 염산 25 체적부의 혼합물에 도입하고, 약 30분 동안 교반하였다. 이후에 0 내지 5℃에서 40% 소듐 나이트라이트 용액 17.3 체적부를 30분 내에 적가하였다. 얼음을 첨가하여 첨가하는 동안 온도를 0 내지 5℃에서 유지하였다. 디아조화가 종결된 후, 과량의 소듐 나이트라이트를 아미노설폰산으로 불활성화시켰다.
3-[(에틸페닐아미노)메틸]벤젠설폰산 29.1 부를 물 200 부에 현탁시켰다. 상기 현탁액을 소듐 카보네이트로 pH 7 내지 7.5로 조정하였다. 이후 강하게 교반하면서 상기 디아조 현탁액을 30분 동안 첨가하였다. 첨가 동안, 소듐 카보네이트 용액을 계량하여 첨가함에 의해 pH를 약 7로 유지하였다.
상기 커플링 반응이 종결된 후, 약 30% 소듐 하이드록사이드 수용액 50 체적부를 첨가하고, 상기 반응 혼합물을 90 내지 100℃로 가열하였다. 상기 반응을 박막 크로마토그래피로 모니터링하였다. 약 24시간 후, 탈아세틸화가 종결되었다. 생성된 하기 화학식의 아미노아조 화합물을 여과해냈다:
Figure 112008077269520-PCT00013
.
물 200 부 중의 3-[(에틸페닐아미노)메틸]벤젠설폰산 29.1 부의 현탁액을 소듐 카보네이트를 사용하여 pH 7 내지 7.5로 조정하였다. 이 현탁액을, 0 내지 5℃에서 아미노아조 화합물 41.0 부 및 40% 소듐 나이트라이트 용액 17.3 체적부로부터 통상적인 방식으로 제조된 디아조늄 염 용액과 혼합하였다. 상기 커플링이 종결된 후, 생성된 하기 화학식의 염료를 소듐 클로라이드로 염석하고, 여과하고, 감압 하에 50℃에서 건조시켰다:
Figure 112008077269520-PCT00014
.
울 및 특히 폴리아미드 섬유 상에서, 상기 염료는 매우 우수한 광 및 습윤 견뢰도(람다(최대)(λmax)=529 nm)를 갖는 적색 염색물을 생성한다.
실시예 2 내지 26
다음의 표는 상응하는 출발 물질을 사용하여 실시예 1에 기재된 방법과 유사하게 제조될 수 있는 염료를 포함한다. 이들 염료는 폴리아미드 섬유 및 울 상에서 매우 우수한 광 및 습윤 견뢰도를 갖는 적색 염색물을 제공한다(Me는 메틸이고, Et는 에틸이고, OMe는 메톡시이고, Pr은 프로필 라디칼이다. 하기 표의 가장 우측 컬럼에 해당 물질의 람다(최대)(λmax)가 기재되어 있다).
Figure 112008077269520-PCT00015
Figure 112008077269520-PCT00016
Figure 112008077269520-PCT00017
Figure 112008077269520-PCT00018
사용 실시예 A
물 2000 부, 에톡실화된 아미노프로필 지방산 아미드에 기초하고 염료에 대한 친화도를 갖는 약 양이온-활성 레벨링제(levelling agent) 1 부, 및 제조예 1의 염료 0.25 부로 이루어지며 1 내지 2 부의 40% 아세트산으로 pH 5로 조정된 40℃의 염색조에 나일론-6 패브릭 100 부를 넣는다. 40℃에서 10분 후에, 상기 염색조를 1분당 1℃의 속도로 98℃까지 가열한 후 그 비등을 45 내지 60분 동안 유지한다. 이후 15분에 걸쳐 70℃로 냉각시킨다. 상기 염색조로부터 염색물을 꺼내어, 고온 수로 세척한 후, 냉수로 세척하고, 건조시킨다. 수득된 결과물은 우수한 광 및 습윤 견뢰도를 갖는 적색 폴리아미드 염색물이다.
사용 실시예 B
물 2000 부, 에톡실화된 아미노프로필 지방산 아미드에 기초하고 염료에 대한 친화도를 갖는 약 양이온-활성 레벨링제 1 부, 및 제조예 1의 염료 0.3 부로 이루어지며 1 내지 2 부의 40% 아세트산으로 pH 5.5로 조정된 40℃의 염색조에 나일론-6 패브릭 100 부를 넣는다. 40℃에서 10분 후에, 상기 염색조를 1분당 1.5℃의 속도로 120℃까지 가열한 후 이 온도를 15 내지 25분 동안 유지한다. 이후 25분에 걸쳐 70℃로 냉각시킨다. 상기 염색조로부터 염색물을 꺼내어, 고온 수로 세척한 후, 냉수로 세척하고, 건조시킨다. 수득된 결과물은 우수한 균일성(levelness)과 광 및 습윤 견뢰도를 갖는 적색 폴리아미드 염색물이다.
사용 실시예 C
물 4000 부, 황산화 에톡실화된 지방산 아미드에 기초하고 염료에 대한 친화도를 갖는 약 양쪽성(amphoteric) 레벨링제 1 부, 및 제조예 1의 염료 0.4 부로 이루어며 1 내지 2 부의 40% 아세트산으로 pH 5로 조정된 40℃의 염색조에 울 패브릭 100 부를 넣는다. 40℃에서 10분 후에, 상기 염색조를 1분당 1℃의 속도로 가열한 후 40 내지 60분 동안 상기 비등을 유지한다. 이후 20분에 걸쳐 70℃로 냉각시킨다. 상기 염색조로부터 염색물을 꺼내어, 고온 수로 세척한 후, 냉수로 세척하고, 건조시킨다. 수득된 결과물은 우수한 광 및 습윤 견뢰도를 갖는 적색 울 염색물이다.
사용 실시예 D
제직 나일론-6 재료 100 부를 하기와 같이 구성된 50℃ 리쿼로 패딩시킨다:
제조예 1의 염료 40 부,
우레아 100 부,
부틸다이글라이콜계 비이온성 가용화제 20 부,
아세트산 15 내지 20 부(pH 4로 조정하기 위함),
에톡실화된 아미노프로필 지방산 아미드에 기초하고 염료에 대한 친화도가 있는 약 양이온-활성 레벨링제 10 부, 및
물 810 내지 815 부(1000 부의 패딩 리쿼로 제조하기 위함).
이와 같이 함침된 재료를 감아 올리고, 85 내지 98℃에서 3 내지 6시간 동안 포화 스팀 조건 하에 스티밍 챔버에 넣어 드웰(dwell)시켜 염착시킨다. 이후 염색물을 고온 수 및 냉수로 세척하고, 건조시킨다. 수득된 결과물은 단편(piece)에서 우수한 균일성을 갖고 우수한 광 및 습윤 견뢰도를 갖는 적색 나일론 염색물이다.
사용 실시예 E
나일론-6으로 구성되고 합성 베이스 패브릭을 갖는 텍스타일 컷 파일 시이트(textile cut pile sheet) 재료를 리쿼 1000 부 당 하기 성분들을 함유하는 리쿼로 패딩시켰다:
제조예 1의 염료 1 부,
상업적으로 입수가능한 캐롭 분말(carob flour) 에터계 증점제 4 부,
고급 알킬페놀의 비이온성 에틸렌 옥사이드 부가물 2 부, 및
60% 아세트산 1 부.
이후 1000 부 당 하기 성분들을 함유하는 페이스트로 프린팅한다:
상업적으로 입수가능한 알콕실화된 지방산 알킬아민(대체 제품) 20 부, 및
상업적으로 입수가능한 캐롭 분말 에터계 증점제 20 부.
상기 날염물을 100℃에서 포화 스팀에서 6분 동안 염착시키고, 세척한 후, 건조시킨다. 수득된 결과물은 적색 및 백색 패턴을 갖는 균일-착색된 커버 재료이다.
사용 실시예 F
물 2000 부, 에톡실화된 아미노프로필 지방산 아미드에 기초하고 염료에 대한 친화도를 갖는 약 양이온-활성 레벨링제 1 부, 제조예 1의 염료 0.2 부, 상업적으로 입수가능한 C.I. 에시드 옐로우(Acid Yellow) 236(닐로산 옐로우(Nylosan Yellow) F-L) 제제 1.5 부 및 특허 출원 WO99/51681호 또는 EP1066340 B1호의 제조예 46의 하기 청색 염료 0.5 부로 이루어지며, 1 내지 2 부의 40% 아세트산으로 pH 5로 조정된 40℃의 염색조에 제직 나일론-6,6 패브릭 100 부를 넣는다:
Figure 112008077269520-PCT00019
(특허 출원 WO99/51681호 또는 EP1066340 B1호의 제조예 46의 청색 염료)
40℃에서 10분 후에, 상기 염색조를 1분당 1℃의 속도로 98℃로 가열한 후 45 내지 60분 동안 상기 비등을 유지한다. 이후 15분에 걸쳐 70℃로 냉각시킨다. 상기 염색조로부터 염색물을 꺼내어, 고온 수로 세척한 후, 냉수로 세척하고, 건조시킨다. 수득된 결과물은 우수한 광 및 습윤 견뢰도를 갖는 균일한 회색 폴리아미드 염색물이다.
사용 실시예 G
크롬-태닝(chrome-tanned)되고 합성적으로 재태닝된 쉐이브-습윤(shave-moist) 그레인 가죽 100 부를, 55℃에서 물 300 부 및 제조예 1의 염료 2 부의 염색조에서 30분 동안 염색시켰다. 아황산화 어유(sulphited fish oil)의 60% 에멀전 4 부를 첨가한 후에, 상기 가죽을 45분 동안 팻리쳐처리한다(fatliquored). 이후 8.5% 포름산으로 산성화시키고, 10분 동안 밀링시킨다(상기 조에서의 최종 pH는 3.5 내지 4.0임). 이후 가죽을 세척하고, 드립 건조시키고, 통상적으로 마무리처리한다. 수득된 결과물은 우수한 견뢰도를 갖고 균일하고 선명한 적색 색조로 염색된 가죽이다.
또한 염료 2 내지 26을 사용하여 상기 사용 실시예 A 내지 G를 실시하여 유사한 결과를 수득할 수 있다.
사용 실시예 H
제조예 3의 염료 3 부를 60℃에서 탈염수 82 부 및 다이에틸렌 글라이콜 15 부에 용해시켰다. 실온으로 냉각시켜, 종이 또는 폴리아미드 및 울 텍스타일 상에 잉크젯 프린팅하기에 매우 적합한 적색 프린팅 잉크를 수득한다.
또한 염료 1 또는 2 및 4 내지 26을 사용하여 사용 실시예 H를 실시하여 유사한 결과를 수득할 수 있다.
사용 실시예 I
물 1000 부, 하소된 글라우버(Glauber) 염 80 부, 소듐 니트로벤젠-3-설포네이트 1 부 및 실시예 79의 염료 1 부로 구성된 염색조를 10분 동안 80℃로 가열한다. 이후, 머서가공된(mercerized) 면 100 부를 첨가한다. 이후 80℃에서 5분 동안 염색한 후, 15분 동안 95℃로 가열한다. 95℃에서 10분 후, 소듐 카보네이트 3 부를 첨가한 다음, 20분 후 추가 7 부의 소듐 카보네이트를 첨가하고, 95℃에서 30분 후 소듐 카보네이트 10 부를 추가로 첨가한다. 상기 염색은 95℃에서 60분 동안 연속적으로 지속한다. 이후 염색된 재료를 염색조로부터 꺼내고, 3분 동안 흐르는 탈염수에서 세척한다. 이후 한번에 5000 부의 끓는 탈염수에서 10분 동안 2회 세척한 후, 흐르는 탈염수에서 60℃에서 3분 동안 세척하고, 1분 동안 냉 수돗물로 세척한다. 상기 염색에 의해 우수한 견뢰도를 갖는 밝은 적색 면 염색물이 수득되었다.
사용 실시예 J
제조예 1의 염료 0.2 부를 100 부의 고온 수에 용해시키고, 상기 용액을 실온으로 냉각시킨다. 이 용액을, 홀랜더(Hollander)에서 2000 부의 물에서 비팅(beat)된 화학적으로 표백된 설파이트 펄프 100 부에 첨가한다. 15분 동안 혼합시킨 후, 상기 스터프(stuff)를 통상적인 방식으로 수지 사이징제 및 알루미늄 설페이트로 사이징한다. 상기 스터프로부터 제조된 종이는 우수한 습윤 견뢰도를 갖는 적색 색조를 갖는다.
또한 염료 2 내지 26을 사용하여 상기 사용 실시예 I 및 J를 실시하여 유사한 결과를 수득할 수 있다.

Claims (7)

  1. 하기 화학식 I의 화합물, 또는 하나 이상의 음이온성 치환기를 갖는 하기 화학식 I의 화합물:
    화학식 I
    Figure 112008077269520-PCT00020
    상기 식에서,
    R1 및 R8은 독립적으로, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 또는 치환된 분지형 C3-6알킬이고,
    R2 및 R7은 독립적으로, 치환 또는 비치환된 아릴, 또는 치환 또는 비치환된 -(CH2)n-아릴(여기서, n = 1, 2, 3 또는 4이다)이고,
    R3 및 R6은 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 비치환된 비분지형 C1-6알콕시, 비치환된 분지형 C3-6알콕시, 치환된 비분지형 C1-6알콕시, 치환된 분지형 C3-6알콕시, 할로겐, 치환 또는 비치환된 비분지형 C1-6알킬기를 갖는 -NHCO-(C1-6알킬), 치 환 또는 비치환된 분지형 C3-6알킬기를 갖는 -NHCO-(C3-6알킬), 또는 -NHCONH2이고,
    R4 및 R5는 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 또는 할로겐이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    R1 및 R8은 독립적으로, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 또는 치환된 분지형 C3-6알킬이고,
    R2 및 R7은 독립적으로, 치환 또는 비치환된 아릴, 또는 치환 또는 비치환된 -(CH2)n-아릴(여기서, n = 1, 2, 3 또는 4이다)이고,
    R3 및 R6은 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 비치환된 비분지형 C1-6알콕시, 비치환된 분지형 C3-6알콕시, 치환된 비분지형 C1-6알콕시, 또는 치환된 분지형 C3-6알콕시이고,
    R4 및 R5는 독립적으로, 수소, 비치환된 비분지형 C1-6알킬, 비치환된 분지형 C3-6알킬, 치환된 비분지형 C1-6알킬, 치환된 분지형 C3-6알킬, 또는 할로겐인 것을 특징으 로 하는, 화합물.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 화학식 1의 화합물이 1, 2 또는 3개의 설포기를 갖는 것을 특징으로 하는 화합물.
  4. 하기 화학식 II의 화합물을 디아조화시키고, 1 당량의 하기 화학식 III의 화합물과 커플링시키고, 보호기 SG를 제거한 후, 생성된 하기 화학식 IV의 아민을 디아조화시키고, 1 당량의 화학식 V의 화합물과 커플링시키거나, 또는
    하기 화학식 II'의 화합물을 디아조화시키고, 1 당량의 하기 화학식 V의 화합물과 커플링시키고, 보호기 SG를 제거한 후, 생성된 하기 화학식 IV'의 아민을 디아조화시키고, 1 당량의 화학식 III의 화합물과 커플링시키는 것을 특징으로 하는,
    제 1 항에 따른 화학식 I의 화합물의 제조 방법:
    화학식 II
    Figure 112008077269520-PCT00021
    화학식 II'
    Figure 112008077269520-PCT00022
    화학식 III
    Figure 112008077269520-PCT00023
    화학식 IV
    Figure 112008077269520-PCT00024
    화학식 IV'
    Figure 112008077269520-PCT00025
    화학식 V
    Figure 112008077269520-PCT00026
    상기 식에서,
    SG는 보호기이고,
    상기 각 치환기들은 상기 정의된 바와 같다.
  5. 유기 기재를 염색 및/또는 프린팅하기 위한, 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물의 용도.
  6. 울, 실크 및 합성 폴리아미드를 염색 및/또는 프린팅하기 위한, 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물의 용도.
  7. 잉크젯 공정용 프린팅 잉크를 제조하기 위한, 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물의 용도.
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