KR20090128558A

KR20090128558A - 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치와 자동 분석 장치

Info

Publication number: KR20090128558A
Application number: KR1020097023515A
Authority: KR
Inventors: 아끼히사 구로다; 미쯔히사 고바야시; 요시히로 가세; 다모쯔 오까와
Original assignee: 베크만 컬터, 인코포레이티드
Priority date: 2007-05-11
Filing date: 2008-04-23
Publication date: 2009-12-15
Also published as: EP2157435B1; US20100051060A1; JP2008281480A; EP2157435A4; US8574372B2; CN101688877B; CN101688877A; EP2157435A1; WO2008142944A1; ES2576645T3

Abstract

액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 세정하는 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치 및 자동 분석 장치에 있어서, 노즐 세정 방법은, 액체를 흡인한 후로서 액체를 토출하기 전에, 분주 노즐의 외벽면을 세정하는 제1 세정 공정과, 액체를 토출한 후에, 분주 노즐의 적어도 내벽면을 세정하는 제2 세정 공정을 포함한다. 노즐 세정 장치(6)는, 분주 노즐이 삽입되는 개구(60a)를 상부에 가진 세정조(60)와, 세정조 내의 상부에서 세정액을 분출시키는 분출용 세정액 공급 장치(61)와, 세정조 내로서 분출용 세정액 공급 장치에 의해 분출되는 세정액의 하방 영역에 배치되며 분주 노즐이 삽입되는 개구(62a)를 상부에 갖고, 또한 세정액이 저류되는 저류부(62)와, 저류부에 대하여 세정액을 공급하는 저류용 세정액 공급 장치(63)를 구비하고 있다.

세정조, 세정액, 세정액 공급 장치, 저류부, 저류용 세정액 공급 장치, 분주 노즐, 특별 세정 모드

Description

노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치와 자동 분석 장치{NOZZLE CLEANING METHOD, NOZZLE CLEANING DEVICE, AND AUTOMATIC ANALYZER}

본 발명은, 액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 세정하는 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치와 자동 분석 장치에 관한 것이다.

종래, 혈액이나 오줌 등의 검체를 분석하는 자동 분석 장치는, 앞서 분주한 검체가 분주 노즐에 부착된 채로 다음에 분주하는 검체에 갖고 넘겨짐으로써, 분석 결과에 영향을 미치는 캐리 오버를 회피하기 위해서, 분주 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치를 구비하고 있다. 이 노즐 세정 장치는, 검체를 흡인하는 위치와 검체를 토출하는 위치 사이의 분주 노즐의 이동 궤적의 도중에 배치되고, 분주 노즐에 대하여 세정액을 공급하도록 구성되어 있다. 이 노즐 세정 장치를 이용한 노즐 세정 방법에서는, 검체의 흡인 및 토출을 행하여 분주가 완료된 후에, 분주 노즐을 노즐 세정 장치의 위치로 이동시켜, 이 분주 노즐에 대하여 세정액을 공급하여 분주 노즐을 세정하고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).

특허 문헌 1 : 일본 특허 공개 2005-241442호 공보

<발명의 개시>

<발명이 해결하고자 하는 과제>

그런데, 자동 분석 장치에서 분석되는 혈액에는, 전혈 검체가 있다. 전혈 검체는, 응고 성분을 포함하고 있으므로, 흡인 후에 공기에 접촉하여 건조되면 분주 노즐의 외벽면에 고착되게 된다. 이 때문에, 분주 노즐의 외벽면에 전혈 검체가 고착된 채로 다음에 분주하는 검체에 갖고 넘겨져 캐리 오버의 문제가 생긴다.

여기서, 종래의 노즐 세정 방법에서, 전혈 검체를 분주하는 경우의 캐리 오버를 회피하기 위해서, 검체를 토출하여 분주가 완료된 후의 분주 노즐의 세정 시간을 연장하는 것이 생각된다. 그러나, 분주 노즐의 세정 시간을 연장하면，1회의 분석에서 검체의 흡인·토출 및 분주 노즐의 세정을 분주의 1사이클로 한 분주 사이클 시간이 길어져, 분석의 고속화를 도모할 수 없다.

본 발명은, 상기를 감안하여 이루어진 것으로, 분주 노즐의 세정을 확실하게 행하고, 또한 분주 사이클 시간이 길어지는 것을 방지하는 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치와 자동 분석 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

<과제를 해결하기 위한 수단>

전술한 과제를 해결하고, 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 따른 노즐 세정 방법은, 액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 세정하는 노즐 세정 방법으로서, 액체를 흡인한 후로서 그 액체를 토출하기 전에, 상기 분주 노즐의 외벽면을 세정하는 제1 세정 공정과, 액체를 토출한 후에, 상기 분주 노즐의 적어도 내벽면을 세정하는 제2 세정 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따른 노즐 세정 방법은, 상기 발명에 있어서, 상기 제1 세정 공정은, 상기 분주 노즐을 세정한 후에, 상기 분주 노즐에 흡인되어 있는 액체 의 일부를 폐기하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따른 노즐 세정 방법은, 상기 발명에 있어서, 상기 제1 세정 공정은, 분출된 세정액의 유로 안에 상기 분주 노즐을 진입시키면서, 그 분주 노즐을 자신의 길이 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따른 노즐 세정 방법은, 상기 발명에 있어서, 상기 제1 세정 공정은, 세정액이 저류된 저류부 내에 상기 분주 노즐을 삽입시키는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치는, 액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치로서, 상기 분주 노즐이 삽입되는 개구를 상부에 가진 세정조와, 상기 세정조 내의 상부에서 세정액을 분출시키는 분출용 세정액 공급 수단과, 상기 세정조 내로서 상기 분출용 세정액 공급 수단에 의해 분출되는 세정액의 하방 영역에 배치되며 상기 분주 노즐이 삽입되는 개구를 상부에 갖고, 또한 세정액이 저류되는 저류부와, 상기 저류부에 대하여 세정액을 공급하는 저류용 세정액 공급 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치는, 상기 발명에 있어서, 상기 분출용 세정액 공급 수단에 의해 공급된 세정액, 및 상기 저류용 세정액 공급 수단에 의해 공급되어 상기 저류부의 개구로부터 넘친 세정액을 상기 세정조의 외부로 배출하는 배출부를 구비한 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따른 자동 분석 장치는, 액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 갖고, 상기 분주 노즐에 의해 액체를 소정 용기에 분주하고, 그 용기 내 에서 서로 다른 액체를 혼합하여 반응시킨 반응액을 분석하는 자동 분석 장치로서, 액체를 흡인한 후로서 그 액체를 토출하기 전에 상기 분주 노즐의 외벽면을 세정하고, 흡인한 액체를 토출한 후에만 상기 분주 노즐의 적어도 내벽면을 세정하는 특별 세정 모드와, 흡인한 액체를 토출한 후에 상기 분주 노즐의 외벽면 및 내벽면을 세정하는 통상 세정 모드를 갖고, 미리 취득한 분석 정보에 기초하여 상기 특별 세정 모드 또는 통상 세정 모드로 절환하는 모드 절환 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따른 자동 분석 장치는, 상기 발명에 있어서, 상기 분석 정보는, 분석을 행하는 액체의 종류, 분석 항목, 혹은 액체를 흡인할 때의 분주 노즐의 액면으로부터의 잠입 깊이이고, 상기 모드 절환 수단은, 이들 분석 정보 중 적어도 하나, 또는 조합에 기초하여 세정 모드를 절환하는 것을 특징으로 한다.

<발명의 효과>

본 발명에 따른 노즐 세정 방법은, 액체를 흡인한 후로서 그 액체를 토출하기 전에, 분주 노즐의 외벽면을 세정하는 제1 세정 공정과, 액체를 토출한 후에, 분주 노즐의 적어도 내벽면을 세정하는 제2 세정 공정을 포함하고 있다. 이 때문에, 제1 세정 공정에서는, 분주 노즐이 액체에 접촉한 직후로서, 그 액체가 공기에 접촉하여 분주 노즐의 외벽면에 고착하기 전에 세정을 행하므로, 분주 노즐의 외벽면의 세정을 확실하게 행할 수 있다. 그리고, 그 후의 제2 세정 공정에서는, 제1 세정 공정에서 분주 노즐의 외벽면이 미리 세정되고, 또한 공기에 접촉하기 어려운 상태로 액체를 유지하고 있던 분주 노즐의 내벽면을 세정하므로, 분주 노즐의 세정 을 확실하게 행할 수 있다. 이 결과, 분주 노즐의 세정을 확실하게 행하여 캐리 오버를 회피하고, 또한 분주 노즐의 전체 세정 시간이 길어지는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 액체의 흡인·토출 및 분주 노즐의 세정을 1사이클로 한 분주 사이클 시간이 길어지는 것을 방지하여, 분석의 고속화를 도모할 수 있다.

본 발명에 따른 노즐 세정 장치는, 분주 노즐이 삽입되는 개구를 상부에 가진 세정조와, 세정조 내의 상부에서 세정액을 분출시키는 분출용 세정액 공급 수단과, 세정조 내로서 분출용 세정액 공급 수단에 의해 분출되는 세정액의 하방 영역에 배치되며 분주 노즐이 삽입되는 개구를 상부에 갖고, 또한 세정액이 저류되는 저류부와, 저류부에 대하여 세정액을 공급하는 저류용 세정액 공급 수단을 구비하고 있다. 이 노즐 세정 장치에서는, 분주 노즐을 세정할 때, 세정조의 상부의 개구에 분주 노즐을 삽입함으로써, 분출용 세정액 공급 수단에 의해 분출된 세정액으로 분주 노즐의 외벽면이 세정되고, 또한 저류부에 분주 노즐이 삽입됨으로써, 저류용 세정액 공급 수단에 의해 저류부에 공급된 세정액으로 분주 노즐의 외벽면이 더 세정된다. 이 때문에, 분주 노즐의 외벽면을 확실하게 세정하는 것이 가능하게 된다. 게다가, 분주 노즐을 세정조에 삽입함으로써 2개의 세정 동작을 함께 행할 수 있으므로 세정 시간의 연장을 방지하는 것이 가능하게 된다. 이 결과, 액체의 흡인·토출 및 분주 노즐의 세정을 1사이클로 한 분주 사이클 시간이 길어지는 것을 방지하여, 분석의 고속화를 도모할 수 있다.

본 발명에 따른 자동 분석 장치는, 액체를 흡인한 후로서 그 액체를 토출하기 전에 분주 노즐의 외벽면을 세정하고, 흡인한 액체를 토출한 후에 분주 노즐의 적어도 내벽면을 세정하는 특별 세정 모드와, 흡인한 액체를 토출한 후에만 분주 노즐의 외벽면 및 내벽면을 세정하는 통상 세정 모드를 갖고, 미리 취득한 분석 정보에 기초하여 상기 특별 세정 모드 또는 통상 세정 모드로 절환하는 모드 절환 수단을 구비하고 있다. 이 자동 분석 장치에서는, 분석 정보에 기초하여, 예를 들면 응고 성분을 포함하는 전혈 검체와 같이 액체의 분주 후의 세정에서는 세정 시간이 길어지는 검체를 분석하는 경우에는, 특별 세정 모드로 절환한다. 한편, 예를 들면 혈청 검체와 같이 액체의 분주 후의 세정이라도 세정 시간을 짧게 유지할 수 있는 검체를 분석하는 경우에는, 통상 세정 모드로 절환한다. 이 때문에, 액체를 분석하는 분석 상황에 따라서 전체 세정 시간의 연장을 방지하도록 세정 모드를 절환하는 것이 가능하게 된다. 이 결과, 액체의 흡인·토출 및 분주 노즐의 세정을 1사이클로 한 분주 사이클 시간이 길어지는 것을 방지하여, 분석의 고속화를 도모할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시 형태인 자동 분석 장치를 도시하는 개략 구성도.

도 2는 분주 장치를 도시하는 개략 구성도.

도 3은 노즐 세정 장치를 도시하는 개략 구성도.

도 4는 분주 노즐 세정에 관련되는 제어계를 도시하는 블록도.

도 5는 분주 노즐의 세정 동작을 설명하는 플로우차트.

도 6은 특별 세정 모드의 경우에서의 제어부에 의한 분주 노즐의 세정 동작을 설명하는 플로우차트.

도 7은 특별 세정 모드의 경우에서의 분주 노즐의 동작도.

도 8은 통상 세정 모드의 경우에서의 제어부에 의한 분주 노즐의 세정 동작을 설명하는 플로우차트.

<부호의 설명>

1 : 자동 분석 장치

2 : 검체 재치부

3 : 반응부

4 : 시약 재치부

5 : 분주 기구

50 : 분주 노즐

51 : 아암

52 : 지축

53 : 노즐 이송부

54a, 54b : 튜브

55 : 실린지

55a : 실린더

55b : 플런저

56 : 플런저 구동부

57 : 탱크

58 : 전자 밸브

59 : 펌프

6 : 노즐 세정 장치

60 : 세정조

60a : 개구

61 : 분출용 세정액 공급 장치

61a : 노즐부

61b : 튜브

61c : 탱크

61d : 전자 밸브

61e : 펌프

62 : 저류부

62a : 개구

62b : 튜브

62c : 폐기 탱크

62d : 전자 밸브

63 : 저류용 세정액 공급 장치

63a : 노즐부

63b : 튜브

63c : 전기 밸브

64 : 배출부

64a : 튜브

100 : 제어부

100a : 모드 절환부

101 : 기억부

101a : 분석 정보

102 : 입력부

L1 : 예압용 액

L2 : 세정액

O : 연직축

S : 중심축

<발명을 실시하기 위한 최량의 형태>

이하에 첨부 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치 및 자동 분석 장치의 바람직한 형태를 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명의 실시 형태인 자동 분석 장치를 도시하는 개략 구성도이다.

자동 분석 장치(1)는, 혈액이나 오줌 등의 검체(액체)와, 검사 항목에 따른 시약을 혼합하여 반응시킨 반응액의 광학적 특성을 측정함으로써 검체의 성분 농도 등을 분석하는 것이다. 자동 분석 장치(1)는, 검체 재치부(2)와, 반응부(3)와, 시약 재치부(4)와, 분주 기구(분주 장치)(5)와, 노즐 세정 장치(6)를 구비하고 있다.

검체 재치부(2)는, 원반 형상의 테이블을 갖고, 그 테이블의 둘레 방향을 따라서 등간격으로 복수 배치된 수납부(21)를 구비하고 있다. 각 수납부(21)에는, 검체를 수용한 검체 용기(22)가 수납된다. 검체 용기(22)는, 상방을 향하여 개구하는 개구부(22a)를 갖고 있다. 또한, 검체 재치부(2)는, 검체 테이블 구동부(도시 생략)에 의해 도 1에 화살표로 나타내는 방향으로 회전한다. 검체 재치부(2)가 회전하면 검체 용기(22)는, 분주 기구(5)에 의해 검체가 흡인되는 검체 흡인 위치로 이동한다.

또한, 검체 용기(22)에는, 수용된 검체의 종류나 분석 항목에 관한 검체 정보를 기록한 바코드 라벨 등의 정보 기록 매체(도시 생략)가 접착되어 있다. 한편, 검체 재치부(2)는, 검체 용기(22)의 상기 정보 기록 매체의 정보를 판독하는 판독부(23)를 구비하고 있다.

반응부(3)는, 원환 형상의 테이블을 갖고, 그 테이블의 둘레 방향을 따라서 등간격으로 복수 배치된 수납부(31)를 구비하고 있다. 각 수납부(31)에는, 검체와 시약을 반응시킨 반응액을 수용하는 투명한 반응 용기(32)가 상방을 향하여 개구한 형태로 수납된다. 또한, 반응부(3)는, 반응 테이블 구동부(도시 생략)에 의해 도 1에 화살표로 나타내는 방향으로 회전한다. 반응부(3)가 회전하면 반응 용기(32)는, 분주 기구(5)에 의해 검체가 토출되는 검체 토출 위치나, 분주 기구(5)에 의해 시약이 토출되는 시약 토출 위치로 이동한다.

또한, 반응부(3)는, 측정 광학계(33)를 구비하고 있다. 측정 광학계(33)는, 광원(33a) 및 측광 센서(33b)를 갖고 있다. 광원(33a)은, 소정 파장의 분석 광(340∼800㎚)을 출사한다. 측광 센서(33b)는, 광원(33a)으로부터 출사되어, 반응 용기(32)의 반응액을 투과한 광속을 측정한다. 또한, 반응부(3)는, 측정 후의 반응액을 반응 용기(32)로부터 배출하고, 반응 용기(32)를 세정하는 세정 기구(34)를 구비하고 있다.

시약 재치부(4)는, 원반 형상의 테이블을 갖고, 그 테이블의 둘레 방향을 따라서 등간격으로 복수 배치된 수납부(41)를 구비하고 있다. 각 수납부(41)에는, 시약을 수용한 시약 용기(42)가 수납된다. 시약 용기(42)는, 상방을 향하여 개구하는 개구부(42a)를 갖고 있다. 또한, 시약 재치부(4)는, 시약 테이블 구동부(도시 생략)에 의해 도 1에 화살표로 나타내는 방향으로 회전한다. 시약 재치부(4)가 회전하면 시약 용기(42)는, 분주 기구(5)에 의해 시약이 흡인되는 시약 흡인 위치로 이동한다.

또한, 시약 용기(42)에는, 수용된 시약의 종류나 수용량에 관한 시약 정보를 기록한 바코드 라벨 등의 정보 기록 매체(도시 생략)가 접착되어 있다. 한편, 시약 재치부(4)는, 시약 용기(42)의 상기 정보 기록 매체의 정보를 판독하는 판독부(43)를 구비하고 있다.

분주 기구(5)는, 검체 재치부(2)와 반응부(3) 사이, 및 시약 재치부(4)와 반응부(3) 사이에 각각 설치된 것으로, 도 2에 도시한 바와 같이 분주 노즐(50)을 갖고 있다. 분주 노즐(50)은, 스테인레스 등에 의해 막대관 형상으로 형성된 것으로, 선단을 하방으로 향하게 하고 상방의 기단이 아암(51)의 선단에 부착되어 있다. 아암(51)은, 수평 배치되고, 그 기단이 지축(52)의 상단에 고정되어 있다. 지축(52)은, 연직 배치되어 있고, 노즐 이송부(53)에 의해 연직축 O를 중심으로 하여 회전한다. 지축(52)이 회전하면, 아암(51)이 수평 방향으로 선회하여, 분주 노 즐(50)을 수평 방향으로 이동시킨다. 또한, 지축(52)은, 노즐 이송부(53)에 의해 연직축 O를 따라서 승강한다. 지축(52)이 승강하면, 아암(51)이 연직 방향으로 승강하여, 분주 노즐(50)을 연직(상하) 방향으로서 분주 노즐(50)의 길이 방향으로 승강시킨다.

분주 노즐(50)의 기단에는, 튜브(54a)의 일단이 접속되어 있다. 이 튜브(54a)의 타단은, 실린지(55)에 접속되어 있다. 실린지(55)는, 튜브(54a)의 타단이 접속된 통 형상의 실린더(55a)와, 실린더(55a)의 내벽면에 섭동하면서 실린더(55a) 내를 진퇴 가능하게 설치된 플런저(55b)를 갖는다. 플런저(55b)는, 플런저 구동부(56)에 접속되어 있다. 플런저 구동부(56)는, 예를 들면 리니어 모터를 이용하여 구성되고, 실린더(55a)에 대한 플런저(55b)의 진퇴 이동을 행하는 것이다. 실린지(55)의 실린더(55a)에는, 튜브(54b)의 일단이 접속되어 있다. 이 튜브(54b)의 타단은, 예압용 액 L1을 수용하는 탱크(57)에 접속하고 있다. 또한, 튜브(54b)의 도중에는, 전자 밸브(58) 및 펌프(59)가 접속되어 있다. 또한, 예압용 액 L1로서는, 증류수나 탈기수 등의 비압축성 유체가 적용된다. 이 예압용 액 L1은, 분주 노즐(50)의 내부의 세정을 행하는 세정액으로서도 적용된다.

분주 기구(5)는, 펌프(59)를 구동하고, 전자 밸브(58)를 열림 상태로 함으로써 탱크(57)에 수용되어 있는 예압용 액 L1이, 튜브(54b)를 거쳐 실린지(55)의 실린더(55a) 내에 충전되고, 또한 실린더(55a)로부터 튜브(54a)를 거쳐 분주 노즐(50)의 선단까지 채워진다. 이와 같이 예압용 액 L1이 분주 노즐(50)의 선단까지 채워진 상태에서, 전자 밸브(58)를 닫힘 상태로 하고, 펌프(59)를 멈춘다. 그 리고, 검체나 시약의 흡인을 행하는 경우, 플런저 구동부(56)를 구동하여 플런저(55b)를 실린더(55a)에 대하여 후퇴 이동시킴으로써, 예압용 액 L1을 통하여 분주 노즐(50)의 선단부에 흡인압이 인가되고, 이 흡인압에 의해 검체나 시약이 흡인된다. 한편, 검체나 시약의 토출을 행하는 경우에는, 플런저 구동부(56)를 구동하여 플런저(55b)를 실린더(55a)에 대하여 진출 이동시킴으로써, 예압용 액 L1을 통하여 분주 노즐(50)의 선단부에 토출압이 인가되고, 이 토출압에 의해 검체나 시약이 토출된다.

또한, 도면에는 명시하지 않지만 분주 기구(5)는, 분주 노즐(50)에서 분주하는 검체 및 시약의 액면을 검지하는 액면 검지 기능을 구비하고 있다. 액면 검지 기능에는, 예를 들면 분주 노즐(50)이 검체나 시료에 접하였을 때의 정전 용량의 변화에 의해 액면을 검지하는 것이 있다.

노즐 세정 장치(6)는, 검체 재치부(2)와 반응부(3) 사이, 및 시약 재치부(4)와 반응부(3) 사이로서, 분주 기구(5)에서의 분주 노즐(50)의 수평 이동의 궤적의 도중 위치에 설치되어 있다. 노즐 세정 장치(6)는, 도 3에 도시한 바와 같이 세정조(60)를 갖고 있다. 세정조(60)는, 통 형상으로 형성되고, 하강하는 분주 노즐(50)의 선단이 상방으로부터 삽입되도록 상부에 개구(60a)를 갖고 있다.

세정조(60)에는, 분출용 세정액 공급 장치(61)가 설치되어 있다. 분출용 세정액 공급 장치(61)는, 노즐부(61a)를 갖고 있다. 노즐부(61a)는, 세정조(60) 내의 상부에 배치되어 있고, 그 토출구를 비스듬히 하방으로 향하게 하고, 또한 세정조(60)의 연직된 중심선 S를 향하여 복수(본 실시 형태에서는 2개) 설치되어 있다. 각 노즐부(61a)에는, 튜브(61b)의 분기된 일단이 각각 접속되어 있다. 또한, 튜브(61b)는, 일단으로부터 타단에 이르는 도중에서 1개로 합류하여 형성되어 있다. 이 튜브(61b)의 타단은, 세정액 L2를 수용하는 탱크(61c)에 접속되어 있다. 또한, 1개로 합류한 튜브(61b)의 도중에는, 전자 밸브(61d) 및 펌프(61e)가 접속되어 있다. 또한, 세정액 L2로서는, 증류수나 탈기수 등이 적용된다.

세정조(60)의 내부로서 노즐부(61a)의 하방 영역에는, 저류부(62)가 설치되어 있다. 저류부(62)는, 세정조(60)의 중심선 S를 따라서 배치되어 있고, 하강하는 분주 노즐(50)의 선단이 상방으로부터 삽입되도록, 그 상부에 개구(62a)를 갖고, 또한 세정액 L2가 저류되도록 바닥이 있게 형성되어 있다. 또한 저류부(62)의 저부에는, 튜브(62b)의 일단이 접속되어 있다. 튜브(62b)의 타단은, 폐기 탱크(62c)에 접속되어 있다. 또한, 튜브(62b)의 도중에는, 전자 밸브(62d)가 접속되어 있다.

또한, 세정조(60)에는, 저류용 세정액 공급 장치(63)가 설치되어 있다. 저류용 세정액 공급 장치(63)는, 노즐부(63a)를 갖고 있다. 노즐부(63a)는, 저류부(62)의 저부 근방에 배치되어 있고, 그 토출구를 저류부(62)의 안쪽을 향하여 설치하고 있다. 노즐부(63a)에는, 튜브(63b)의 일단이 접속되어 있다. 튜브(63b)의 타단은, 분출용 세정액 공급 장치(61)의 튜브(61b)의 도중으로서, 전자 밸브(61d)와 펌프(61e) 사이에 접속되어 있다. 또한, 튜브(63b)의 도중에는, 전자 밸브(63c)가 접속되어 있다. 즉, 튜브(63b)는, 노즐부(63a)로부터 전자 밸브(63c)를 통하여 튜브(61b)에 접속되어 있고, 또한 펌프(61e)를 통하여 탱크(61c)에 접속되 어 있다.

또한, 세정조(60)에는, 배출부(64)가 설치되어 있다. 배출부(64)는, 세정조(60)의 내부에서 저류부(62)에 나란히 배치되어 있다. 배출부(64)는, 상부에 형성한 개구가 저류부(62)의 개구(62a)로부터 하방으로 경사하는 사면을 이루도록 유발 형상으로 형성되고, 하부가 세정조(60)의 저부에 관통하여 형성되어 있다. 배출부(64)의 하부에는, 튜브(64a)의 일단이 접속되어 있다. 튜브(64a)의 타단은, 폐기 탱크(62c)에 접속되어 있다.

노즐 세정 장치(6)는, 전자 밸브(61d)를 열림 상태로 하고 펌프(61e)를 구동 함으로써 탱크(61c)에 수용되어 있는 세정액 L2가, 튜브(61b)를 거쳐 노즐부(61a)의 토출구로부터 세정조(60)의 내부에 분출된다. 또한, 전자 밸브(63c)를 열림 상태로 하고 펌프(61e)를 구동함으로써 탱크(61c)에 수용되어 있는 세정액 L2가, 튜브(63b)를 거쳐 노즐부(63a)의 토출구로부터 저류부(62)의 내부에 공급되고, 또한 저류부(62)의 내부에서 저류된다. 노즐부(61a)로부터 세정조(60)의 내부에 토출된 세정액 L2, 및 노즐부(63a)로부터 저류부(62)의 내부에 공급되어 저류부(62)의 개구(62a)로부터 넘치는 세정액 L2는, 배출부(64)에서의 상부 개구의 사면을 따라서 배출부(64) 내로 유도되고, 배출부(64)로부터 튜브(64a)를 거쳐 세정조(60)의 외부에 있는 폐기 탱크(62c)에 배출된다. 또한, 전자 밸브(62d)를 열림 상태로 함으로써 저류부(62)에 저류된 세정액 L2가, 튜브(62b)를 거쳐 폐기 탱크(62c)에 배출된다.

이와 같은 구성의 자동 분석 장치(1)에서는, 반응 용기(32)에 대하여 검체 재치부(2)와 반응부(3) 사이에 설치한 분주 기구(5)가, 검체 용기(22)로부터 검체를 분주한다. 또한, 반응 용기(32)에는, 시약 재치부(4)와 반응부(3) 사이에 설치한 분주 기구(5)가 시약 용기(42)로부터 시약을 분주한다. 그리고, 검체 및 시약이 분주된 반응 용기(32)는, 반응부(3)에 의해 둘레 방향을 따라서 반송되는 사이에 검체와 시약이 교반되어 반응하고, 광원(33a)와 측광 센서(33b) 사이를 통과한다. 이 때, 반응 용기(32) 내의 반응액은, 측광 센서(33b)에 의해 측광되어 성분 농도 등이 분석된다. 그리고, 분석이 종료된 반응 용기(32)는, 세정 기구(34)에 의해 측정 후의 반응액이 배출되어 세정된 후, 다시 검체의 분석에 사용된다.

도 4는 분주 노즐의 세정에 관련되는 제어계를 도시하는 블록도이다. 자동 분석 장치(1)는, 도 4에 도시한 바와 같이 제어부(100)를 갖고 있다. 제어부(100)는, 자동 분석 장치(1)를 구성하는 각 구성부의 분석 동작을 제어하는 것이며, 특히, 제어부(100)에는, 기억부(101)와, 입력부(102)가 접속되어 있다. 또한, 제어부(100)에는, 전술한 분주 기구(5)의 노즐 이송부(53)와, 플런저 구동부(56)와, 전자 밸브(58)와, 펌프(59)가 접속되어 있다. 또한, 제어부(100)에는, 전술한 노즐 세정 장치(6)의 전자 밸브(61d)와, 펌프(61e)와, 전자 밸브(63c)와, 전자 밸브(62d)가 접속되어 있다. 제어부(100)는, 기억부(101)에 미리 저장한 프로그램이나 데이터에 따라서, 특히 기억부(101)로부터 취득한 분석 정보(101a)를 이용하여 분주 기구(5) 및 노즐 세정 장치(6)를 제어한다.

제어부(100)에는, 입력부(102)(예를 들면 판독부(23)나 키보드나 마우스)에 의해 분석 정보(101a)가 입력된다. 입력부(102)에 의해 입력되는 분석 정보(101a) 에는, 분석을 하는 검체의 종류(예를 들면 혈액이나 오줌)나, 분석 항목(예를 들면 혈청 검체의 분석이나 전혈 검체의 분석)이나, 검체를 분주 노즐(50)로 흡인할 때의 검체 액면으로부터의 분주 노즐(50)의 잠입 깊이 등이 있다. 분주 노즐(50)의 잠입 깊이는, 분석 항목에 기초하는 것으로, 혈청 검체의 분석이면 검체 액면으로부터 수밀리 정도(예를 들면 3㎜)로 되고, 전혈 검체의 분석이면 검체의 전체 깊이에 따른 깊이(예를 들면 액면으로부터 전체 깊이의 70%)로 된다. 제어부(100)는, 분석 정보(101a)를 취득하고, 검체 재치부(2)에 재치된 검체 용기(22)에 대응지어 기억부(101)에 기억한다.

제어부(100)는, 모드 절환부(100a)를 갖고 있다. 모드 절환부(100a)는, 분주 노즐(50)의 세정 모드를 절환하기 위한 것이다. 세정 모드로서는, 특별 세정 모드와 통상 세정 모드가 있다. 특별 세정 모드는, 검체를 흡인한 후로서 그 검체를 토출하기 전에 분주 노즐(50)의 외벽면을 세정하고, 검체를 토출한 후에 분주 노즐(50)의 외벽면 및 내벽면을 세정하는 모드이다. 또한, 통상 세정 모드는, 흡인한 검체를 토출한 후에만 분주 노즐(50)의 외벽면 및 내벽면을 세정하는 모드이다.

제어부(100)에서는, 상기 분석 정보(101a)에 기초하여, 모드 절환부(100a)에 의해 어느 하나의 세정 모드로 절환한다. 예를 들면, 분석을 하는 검체의 종류가 혈액인 경우에 특별 세정 모드로 절환하는 한편, 검체가 오줌인 경우에 통상 세정 모드로 절환한다. 또한, 분석 항목이 전혈 검체의 분석인 경우에 특별 세정 모드로 절환하는 한편, 분석 항목이 혈청 검체의 분석인 경우에 통상 세정 모드로 절환 한다. 또한, 검체 액면으로부터의 분주 노즐(50)의 잠입 깊이가 소정 깊이(예를 들면 3㎜)를 초과하는 경우에 특별 세정 모드로 절환하는 한편, 잠입 깊이가 소정 깊이 이하인 경우에 통상 세정 모드로 절환한다. 또한, 모드 절환부(100a)에 의해 세정 모드를 절환하는 경우, 제어부(100)는, 예를 들면, 분석을 하는 검체의 종류가 혈액이고, 또한 분석 항목이 전혈 검체인 경우에 특별 세정 모드로 절환하도록, 분석 정보의 조합에 의해 세정 모드를 절환하도록 하여도 된다.

상기 제어부(100)에 의한 검체의 분주와, 분주에 수반되는 분주 노즐(50)의 세정 동작에 대하여 설명한다. 도 5는 제어부(100)에 의한 분주 노즐의 세정 동작을 설명하는 플로우차트이고, 도 6은 특별 세정 모드의 경우에서의 제어부(100)에 의한 분주 노즐(50)의 세정 동작을 설명하는 플로우차트이고, 도 7은 특별 세정 모드의 경우에서의 분주 노즐(50)의 동작도이고, 도 8은 통상 세정 모드의 경우에서의 제어부(100)에 의한 분주 노즐(50)의 세정 동작을 설명하는 플로우차트이다.

도 5에 도시한 바와 같이 제어부(100)는, 기억부(101)로부터 분석 정보(101a)를 취득한다(스텝 S1). 제어부(100)는, 분석 정보(101a)에 기초하여 모드 절환부(100a)에 의해 세정 모드를 절환한다(스텝 S2). 스텝 S2에서, 특별 세정 모드로 절환한 경우(스텝 S2 : 예), 제어부(100)는, 본 실시 형태에 따른 노즐 세정 방법으로서의 특별 세정 모드를 실행하고 본 제어를 종료한다(스텝 S3). 한편, 스텝 S2에서, 통상 세정 모드로 절환한 경우(스텝 S2 : 아니오), 제어부(100)는, 통상 세정 모드를 실행하고 본 제어를 종료한다(스텝 S4).

도 6에 도시한 바와 같이 특별 세정 모드(스텝 S3)에서는, 우선, 제어 부(100)는, 분주 노즐(50)을 검체 흡인 위치에 있는 검체 용기(22)의 개구부(22a)의 상방으로 이동시켜, 분주 노즐(50)로 검체를 흡인시킨다(스텝 S31). 다음으로, 제어부(100)는, 제1 세정 공정으로서, 흡인한 검체를 토출하기 전에, 분주 노즐(50)을 노즐 세정 장치(6)에서의 세정조(60)의 개구(60a)의 상방으로 이동시켜, 노즐 세정 장치(6)에 분주 노즐(50)의 외벽면을 세정시킨다(스텝 S32). 다음으로, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)을 검체 토출 위치에 있는 반응 용기(32)의 상방으로 이동시켜, 분석 정보(101a)에 따라서 검체를 소정량 토출시킨다(스텝 S33). 이에 의해, 반응 용기(32)에 검체의 분주가 종료된다. 마지막으로, 제어부(100)는, 제2 세정 공정으로서, 분주 노즐(50)을 노즐 세정 장치(6)에서의 세정조(60)의 개구(60a)의 상방으로 이동시켜, 노즐 세정 장치(6)에 분주 노즐(50)의 내벽면 및 외벽면을 세정시킨다(스텝 S34).

상기 특별 세정 모드(스텝 S3)의 제1 세정 공정(스텝 S32)에서는, 우선, 제어부(100)는, 도 7의 (a)에 도시한 바와 같이 분출용 세정액 공급 장치(61)의 노즐부(61a)로부터 세정조(60) 내의 상부에 세정액 L2을 공급시키고, 또한 저류부(62)의 전자 밸브(62d)를 닫힘 상태로 하여 저류용 세정액 공급 장치(63)의 노즐부(63a)로부터 저류부(62)에 세정액 L2를 공급시킨다. 이 상태에서, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)을 하강시켜 세정조(60)의 개구(60a)에 삽입시킨다. 그렇게 하면, 노즐부(61a)로부터 공급되는 세정액 L2의 유로 안에 진입하면서 분주 노즐(50)이 자신의 길이 방향을 따라서 하방으로 이동한다. 이에 의해, 노즐부(61a)로부터 분사된 세정액이 분주 노즐(50)의 길이 방향을 따라서 분주 노즐(50)의 외벽면에 충돌하여, 분주 노즐(50)의 외벽면에 부착되어 있는 검체가 제거되어 분주 노즐(50)의 외벽면이 세정된다. 제거된 검체는, 세정액 L2와 함께 배출부(64)에 의해 세정조(60)의 외부로 배출된다.

또한, 하강하는 분주 노즐(50)은, 저류부(62)에 삽입된다. 그렇게 하면, 분주 노즐(50)은, 저류부(62)에 저류된 세정액 L2에 침지되어 분주 노즐(50)의 외벽면이 더 세정된다. 저류부(62)에서는, 노즐부(63a)로부터 공급되면서 상방의 개구(62a)로부터 넘친 세정액 L2가 배출부(64)에 의해 세정조(60)의 외부로 배출되고 있다. 따라서, 제거된 검체를 포함하는 더러워진 세정액 L2는, 저류부(62)에 머물지 않고 배출되고, 저류부(62)에는 청정한 세정액 L2가 항상 공급되고 있기 때문에, 더러워진 세정액 L2가 분주 노즐(50)에 부착되는 일이 없다. 또한, 분주 노즐(50)을 저류부(62)에 삽입하는 깊이는, 검체의 흡인 시에 분주 노즐(50)을 검체에 잠입시킨 깊이 이상이면 된다.

다음으로, 제어부(100)는, 도 7의 (b)에 도시한 바와 같이 분주 노즐(50)을 상승시켜 저류부(62)로부터 인출한다. 이 때, 분출용 세정액 공급 장치(61) 및 저류용 세정액 공급 장치(63)에 의한 세정액 L2의 공급을 멈추어도 된다. 단, 분출용 세정액 공급 장치(61)에 의한 세정액 L2의 공급을 계속해서 행하여, 노즐부(61a)로부터 공급되는 세정액 L2의 유로 안에 진입한 형태로 분주 노즐(50)이 자신의 길이 방향을 따라서 상방으로 이동함으로써, 분주 노즐(50)의 외벽면을 더 세정하도록 하여도 된다.

다음으로, 제어부(100)는, 도 7의 (c)에 도시한 바와 같이 분주 노즐(50)의 선단이 저류부(62)로부터 나왔을 때, 분주 노즐(50)로 흡인하고 있는 검체의 일부를 토출하여 폐기한다. 이에 의해, 상기의 세정에서 분주 노즐(50)의 선단에 부착되어 있는 세정액 L2가 토출한 검체와 함께 폐기되므로, 반응 용기(32)에 토출하는 검체에 세정액 L2가 혼입되는 사태를 방지하는 것이 가능하게 된다. 마지막으로, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)을 세정조(60)로부터 인출함과 함께, 저류부(62)의 전자 밸브(62d)를 열림 상태로 하여 저류부(62)에 저류되어 있는 세정액 L2를 배출하고 스텝 S32에서의 세정을 종료한다.

또한, 도면에는 명시하지 않지만, 상기 특별 세정 모드(스텝 S3)의 제2 세정 공정(스텝 S34)에서, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)에 채워져 있는 세정액(예압 용 액 L1)을 남은 검체와 함께 토출하여 세정조(60)에 폐기하고, 분주 노즐(50)의 내벽면을 세정한다. 다음으로, 제어부(100)는, 분출용 세정액 공급 장치(61)의 노즐부(61a)로부터 세정액 L2을 공급함과 함께, 분주 노즐(50)을 하강시켜 세정조(60)의 개구(60a)에 삽입함으로써, 노즐부(61a)로부터 공급되는 세정액 L2에 의해 분주 노즐(50)의 외벽면을 세정한다. 또한, 하강하는 분주 노즐(50)은, 저류부(62)에 삽입되어, 저류부(62)에 저류된 세정액 L2에 침지되어 분주 노즐(50)의 외벽면이 더 세정된다. 마지막으로, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)을 세정조(60)로부터 인출하고 스텝 S34에서의 세정을 종료한다.

또한, 상기 스텝 S34에서, 분주 노즐(50)은, 분출용 세정액 공급 장치(61)로부터 공급된 세정액 L2만으로 외벽면의 세정을 행하여도 된다. 이 경우, 저류용 세정액 공급 장치(63)로부터 세정액 L2의 공급을 행하지 않고, 저류부(62)의 전자 밸브(62d)를 열림 상태로 하여, 저류부(62)에 유입한 세정액 L2를 배출시킨다. 또한, 스텝 S34에서, 분출용 세정액 공급 장치(61)로부터 세정액 L2의 공급을 행하지 않고, 저류부(62)에 분주 노즐(50)을 삽입하는 것만으로 분주 노즐(50)의 외벽면의 세정을 행하여도 된다. 또한, 스텝 S34에서는, 스텝 S32에서 이미 분주 노즐(50)의 외벽면이 세정되어 있기 때문에, 분주 노즐(50)의 내벽면을 세정하는 것만으로 되고, 분출용 세정액 공급 장치(61) 및 저류용 세정액 공급 장치(63)로부터 세정액 L2의 공급을 행하지 않고, 분주 노즐(50)에 채워져 있는 세정액(예압용 액 L1)을 검체와 함께 토출하여 세정조(60)에 폐기하고 분주 노즐(50)의 내벽면을 세정하는 것만으로도 된다.

한편, 도 8에 도시한 바와 같이 통상 세정 모드(스텝 S4)에서는, 우선, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)을 검체 흡인 위치에 있는 검체 용기(22)의 개구부(22a)의 상방으로 이동시켜, 분주 노즐(50)로 검체를 흡인한다(스텝 S41). 다음으로, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)을 검체 토출 위치에 있는 반응 용기(32)의 상방으로 이동시켜, 검체를 토출한다(스텝 S42). 이에 의해, 반응 용기(32)에 검체의 분주가 종료된다. 마지막으로, 제어부(100)는, 분주 노즐(50)을 노즐 세정 장치(6)에서의 세정조(60)의 개구(60a)의 상방으로 이동시켜, 상기 특별 세정 모드의 제2 세정 공정(스텝 S34)과 동일하게 분주 노즐(50)의 내벽면 및 외벽면을 세정한다(스텝 S43).

그런데, 분주 노즐(50)에 의해 검체를 분주하고, 또한, 분주 노즐(50)을 세정하여 다음 검체의 분주를 행하는 경우, 다음 검체에의 캐리 오버가, 감염증을 일 으키는 병원 미생물이 건네질 우려가 없는 0.1ppm 이하로 될 때까지 세정하는 요망이 있다. 본 실시 형태의 상기 특별 세정 모드에서, 전혈 검체의 분주량을 10mL로 하여 검체 용기(22) 내의 최하까지 분주 노즐(50)의 선단을 잠입시킨 경우에서 캐리 오버를 측정한 결과에서는, 다음 검체에의 캐리 오버가 0.002ppm∼0.018ppm의 범위로 되어, 캐리 오버 0.1ppm 이하의 요망을 달성할 수 있었다.

이와 같이, 전술한 자동 분석 장치(1)에 관련되는 노즐 세정 방법에 의하면, 검체를 흡인한 후로서 그 검체를 토출하기 전에 분주 노즐(50)의 외벽면을 세정하는 제1 세정 공정과, 검체를 토출한 후에 분주 노즐(50)의 적어도 내벽면을 세정하는 제2 세정 공정을 포함하고 있다. 이 때문에, 예를 들면 전혈 검체와 같이 응고 성분을 포함하고, 또한 점성을 가진 검체의 분주를 행하는 경우, 제1 세정 공정에서는, 분주 노즐(50)이 검체에 접촉한 직후로서, 그 검체가 공기에 접촉하여 분주 노즐(50)의 외벽면에 고착하기 전에 세정하므로, 캐리 오버를 회피할 수 있을 때까지의 분주 노즐(50)의 세정을 용이하게 행할 수 있다. 그 후의 제2 세정 공정에서는, 제1 세정 공정에서 분주 노즐(50)의 외벽면이 미리 세정되어 있고, 또한 공기에 접촉하기 어려운 상태에서 검체를 유지하고 있던 분주 노즐(50)의 내벽면을 세정하므로, 분주 노즐(50)의 세정을 용이하게 행할 수 있다. 이 결과, 분주 노즐(50)의 세정을 확실하게 행하여 캐리 오버를 회피한 후에, 분주 노즐(50)의 전체 세정 시간의 연장을 방지하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 검체의 흡인·토출 및 분주 노즐(50)의 세정을 1사이클로 한 분주 사이클 시간이 길어지는 것을 방지하여, 분석의 고속화를 도모할 수 있다.

또한, 상기 제1 세정 공정에서는, 분주 노즐(50)을 세정한 후에, 분주 노즐(50)에 흡인되어 있는 검체의 일부를 폐기한다. 이 때문에, 검체를 흡인한 후로서 그 검체를 토출하기 전에 분주 노즐(50)의 외벽면을 세정하였을 때에, 세정액 L2가 분주 노즐(50) 내에 흡인되어 있는 검체에 접촉하여 그 검체에 혼입하는 것이 생각되지만, 이 세정액 L2가 일부 폐기한 검체와 함께 폐기되므로, 반응 용기(32)에 토출하는 검체에 세정액 L2가 혼입되는 것을 방지하여, 분석에 영향을 미치는 일이 없다. 또한, 검체의 일부의 폐기에 따라서, 분주 노즐(50)의 선단부의 외벽면에 부착되어 있는 세정액 L2도 함께 폐기되므로, 분주 노즐(50)의 선단부의 외벽면에 부착된 세정액 L2가 반응 용기(32)에 토출하는 검체에 혼입하는 것도 막을 수 있다.

또한, 상기 제1 세정 공정에서는, 분출용 세정액 공급 장치(61)의 노즐부(61a)로부터 분출된 세정액 L2의 유로 안에 분주 노즐(50)을 진입시키면서, 분주 노즐(50)을 길이 방향으로 하강 혹은 상승시킨다. 이 때문에, 노즐부(61a)로부터 분사된 세정액이 분주 노즐(50)의 길이 방향을 따라서 분주 노즐(50)의 외벽면에 충돌하여, 분주 노즐(50)의 외벽면이 세정되므로, 분주 노즐(50)의 선단으로부터 기단을 향하여 길이 방향의 비교적 넓은 범위에서 검체가 부착되어 있어도, 이 분주 노즐(50)의 세정을 확실하게 행하는 것이 가능하게 된다.

또한, 상기 제1 세정 공정에서는, 저류용 세정액 공급 장치(63)에서 공급한 세정액 L2가 저류된 저류부(62)에 대하여, 분주 노즐(50)의 길이 방향의 이동에 수반하여 분주 노즐(50)을 진입시킨다. 이 때문에, 노즐부(61a)로부터 공급된 세정 액 L2에 의한 세정에 수반하여, 분주 노즐(50)의 외벽면이 저류부(62)의 세정액에 침지되어 더 세정되므로, 분주 노즐(50)의 선단으로부터 기단을 향하여 비교적 넓은 범위에서 검체가 부착되어 있어도, 이 분주 노즐(50)의 세정을 확실하게 행하는 것이 가능하게 된다.

전술한 자동 분석 장치(1)에 관련되는 노즐 세정 장치에 의하면, 분주 노즐(50)이 삽입되는 개구(60a)를 상부에 가진 세정조(60)와, 세정조(60) 내의 상부에서 세정액 L2를 분출하는 노즐부(61a)를 가진 분출용 세정액 공급 장치(61)와, 세정조(60) 내로서 분출용 세정액 공급 장치(61)에서의 노즐부(61a)의 하방 영역에 배치되며 분주 노즐(50)이 삽입되는 개구(62a)를 상부에 갖고, 또한 세정액 L2가 저류되는 저류부(62)와, 저류부(62)에 대하여 세정액 L2를 공급하는 저류용 세정액 공급 장치(63)를 구비하고 있다. 노즐 세정 장치(6)는, 분주 노즐(50)을 세정할 때, 세정조(60)의 상부의 개구(60a)에 분주 노즐(50)을 삽입함으로써, 세정조(60) 내의 상부에서 노즐부(61a)로부터 분출된 세정액 L2에 의해 분주 노즐(50)의 외벽면이 세정되고, 이 세정에 수반하여 저류부(62)에 분주 노즐(50)이 삽입됨으로써, 저류용 세정액 공급 장치(63)로부터 저류부(62)에 공급된 세정액 L2에 의해 분주 노즐(50)의 외벽면이 더 세정된다. 이 때문에, 분주 노즐(50)의 선단으로부터 기단을 향하여 비교적 넓은 범위에서 검체가 부착되어 있어도, 분주 노즐(50)의 세정을 확실하게 행하는 것이 가능하게 된다. 게다가, 분주 노즐(50)의 1회의 하강 동작으로 2개의 세정을 함께 행하므로 세정 시간의 연장을 방지하는 것이 가능하게 된다. 이 결과, 검체의 흡인·토출 및 분주 노즐의 세정을 1사이클로 한 분주 사 이클 시간이 길어지는 것을 방지하여, 분석의 고속화를 도모할 수 있다.

또한, 노즐 세정 장치(6)는, 분출용 세정액 공급 장치(61)에 의해 공급된 세정액 L2, 및 저류용 세정액 공급 장치(63)에 의해 공급되어 저류부(62)의 개구(62a)로부터 넘친 세정액 L2를 세정조(60)의 외부로 배출하는 배출부(64)를 구비하고 있다. 이 때문에, 분출용 세정액 공급 장치(61)의 노즐부(61a)로부터 공급되어 분주 노즐(50)의 외벽면으로부터 제거한 검체를 포함하는 세정액 L2가 배출부(64)에 의해 배출되고, 또한 저류부(62)로부터 넘쳐 분주 노즐(50)의 외벽면으로부터 제거한 검체를 포함하는 세정액 L2가 배출부(64)에 의해 배출된다. 이 결과, 저류부(62)에는 제거한 검체를 포함하지 않는 세정액 L2가 저류되므로, 제거된 검체가 다시 분주 노즐(50)에 부착되는 것을 방지한다.

전술한 자동 분석 장치(1)에 의하면, 검체를 흡인한 후로서 그 검체를 토출 하기 전에 분주 노즐(50)의 외벽면을 세정하고, 흡인한 검체를 토출한 후에 분주 노즐(50)의 적어도 내벽면을 세정하는 특별 세정 모드와, 흡인한 검체를 토출한 후에만 분주 노즐(50)의 외벽면 및 내벽면을 세정하는 통상 세정 모드를 갖고, 미리 취득한 분석 정보(101a)에 기초하여 특별 세정 모드 또는 통상 세정 모드로 절환하는 모드 절환부(100a)를 구비하고 있다. 이 자동 분석 장치(1)에서는, 분석 정보(101a)에 기초하여, 예를 들면 응고 성분을 포함하고, 또한 점성을 가진 전혈 검체와 같이, 검체의 분주 후의 세정에서는 세정 시간이 길어지는 경우에는, 특별 세정 모드로 절환한다. 한편, 예를 들면 혈청 검체와 같이 분주 노즐(50)의 외벽면의 세정이 비교적 하기 쉽고, 검체의 분주 후의 세정이라도 세정 시간을 짧게 유지 할 수 있는 경우에는, 통상 세정 모드로 절환한다. 이 때문에, 검체를 분석하는 분석 상황에 따라서 전체 세정 시간의 연장을 방지하도록 세정 모드를 절환하는 것이 가능하게 된다. 이 결과, 검체의 흡인·토출 및 분주 노즐의 세정을 1사이클로 한 분주 사이클 시간이 길어지는 것을 방지하여, 분석의 고속화를 도모할 수 있다.

또한, 분석 정보는, 분석을 하는 검체의 종류, 분석 항목, 혹은 검체를 흡인할 때의 분주 노즐의 액면으로부터의 잠입 깊이이고, 모드 절환부는, 이들 분석 정보 중 적어도 하나, 또는 조합에 기초하여 세정 모드를 절환함으로써, 검체를 분석하는 분석 상황에 있던 세정 모드의 선택이 가능하게 된다.

또한, 자동 분석 장치(1)는, 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치(6)를 이용하여 검체를 분주하였을 때에 분주 노즐을 세정하는 경우에 대하여 설명하였지만, 시약을 분주한 분주 노즐을 세정할 때에 사용하여도 된다.

이상과 같이, 본 발명의 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 장치와 자동 분석 장치는, 혈액이나 오줌 등의 검체를 분석할 때에 사용하는 분주 노즐의 세정을 확실하게 행하고, 또한 분주 사이클 시간이 길어지는 것을 방지하는 데에 유용하다.

Claims

액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 세정하는 노즐 세정 방법으로서,

액체를 흡인한 후로서 그 액체를 토출하기 전에, 상기 분주 노즐의 외벽면을 세정하는 제1 세정 공정과,

액체를 토출한 후에, 상기 분주 노즐의 적어도 내벽면을 세정하는 제2 세정 공정

을 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 방법.
제1항에 있어서,

상기 제1 세정 공정은, 상기 분주 노즐을 세정한 후에, 상기 분주 노즐에 흡인되어 있는 액체의 일부를 폐기하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서,

상기 제1 세정 공정은, 분출된 세정액의 유로 안에 상기 분주 노즐을 진입시키면서, 그 분주 노즐을 자신의 길이 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 제1 세정 공정은, 세정액이 저류(貯留)된 저류부 내에 상기 분주 노즐 을 삽입시키는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 방법.
액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치로서,

상기 분주 노즐이 삽입되는 개구를 상부에 가진 세정조와,

상기 세정조 내의 상부에서 세정액을 분출시키는 분출용 세정액 공급 수단과,

상기 세정조 내로서 상기 분출용 세정액 공급 수단에 의해 분출되는 세정액의 하방 영역에 배치되며 상기 분주 노즐이 삽입되는 개구를 상부에 갖고, 또한 세정액이 저류되는 저류부와,

상기 저류부에 대하여 세정액을 공급하는 저류용 세정액 공급 수단

을 구비한 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
제5항에 있어서,

상기 분출용 세정액 공급 수단에 의해 공급된 세정액, 및 상기 저류용 세정액 공급 수단에 의해 공급되어 상기 저류부의 개구로부터 넘친 세정액을 상기 세정조의 외부로 배출하는 배출부를 구비한 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
액체의 흡인 및 토출을 행하는 분주 노즐을 갖고, 상기 분주 노즐에 의해 액체를 소정 용기에 분주하고, 그 용기 내에서 서로 다른 액체를 혼합하여 반응시킨 반응액을 분석하는 자동 분석 장치로서,

액체를 흡인한 후로서 그 액체를 토출하기 전에 상기 분주 노즐의 외벽면을 세정하고, 흡인한 액체를 토출한 후에 상기 분주 노즐의 적어도 내벽면을 세정하는 특별 세정 모드와, 흡인한 액체를 토출한 후에만 상기 분주 노즐의 외벽면 및 내벽면을 세정하는 통상 세정 모드를 갖고, 미리 취득한 분석 정보에 기초하여 상기 특별 세정 모드 또는 통상 세정 모드로 절환하는 모드 절환 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 자동 분석 장치.
제7항에 있어서,

상기 분석 정보는, 분석을 행하는 액체의 종류, 분석 항목, 혹은 액체를 흡인할 때의 분주 노즐의 액면으로부터의 잠입 깊이이고, 상기 모드 절환 수단은, 이들 분석 정보 중 적어도 하나, 또는 조합에 기초하여 세정 모드를 절환하는 것을 특징으로 하는 자동 분석 장치.