KR20160021402A - 구동 어셈블리 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 구동 어셈블리를 나타내는 도면이다.
도 3은 배관 제어 유닛을 나타내는 도면이다.
도 4는 배관 제어 모듈의 구체적 구성을 도시한 도면이다.
도 5는 피스톤이 실린더의 하부에서 상부로 이동할 때를 나타내는 도면이다.
도 6은 피스톤의 속력이 조절되는 과정을 나타내는 플로우 차트이다.
도 7은 피스톤이 실린더의 상부에서 하부로 이동할 때를 나타내는 도면이다.
도 8은 다른 실시 예에 따라 피스톤의 속력이 조절되는 과정을 나타내는 플로우 차트이다.
120: 로드 포트 140: 이송 프레임
220: 버퍼 유닛 240: 이송 챔버
260: 공정 챔버 800: 구동 어셈블리
810: 구동 부재 821: 제 1 배관
822: 제 2 배관 830: 배관 제어 유닛
850: 유체 공급원 860: 제어 부재
Claims (7)
- 피스톤;
상기 피스톤을 이동 가능하게 수용하고, 상기 피스톤의 구동을 위한 유체가 공급되는 배관들에 연결되는 실린더;
상기 실린더의 내부에 위치되는 센서들; 및
상기 배관을 유동하는 유체를 통해 상기 피스톤의 속력을 제어하되, 상기 센서들에 의해 감지된 신호를 바탕으로 계측된 상기 피스톤의 계측 속력을 설정 속력과 비교하는 방식으로 상기 피스톤의 속력을 자동으로 조절하는 배관 제어 유닛을 포함하는 구동 어셈블리. - 제 1 항에 있어서,
상기 센서들은,
상기 피스톤이 이동하는 방향의 일측에 위치되는 제 1 센서; 및
상기 피스톤이 이동하는 방향의 타측에 위치되는 제 2 센서를 포함하는 구동 어셈블리. - 제 2 항에 있어서,
상기 배관 제어 유닛은 상기 제 1 센서와 상기 제 2 센서가 송신하는 신호의 시간차를 이용해 상기 계측 속력을 산출하는 구동 어셈블리. - 제 1 항에 있어서,
상기 배관 제어 유닛은,
상기 배관들을 유동하는 유체를 제어하는 배관 제어 모듈; 및
제어 값을 통해 상기 배관 제어 모듈의 동작을 조절하는 모듈 제어부를 포함하는 구동 어셈블리. - 제 4 항에 있어서,
상기 배관 제어 모듈은 피에조 에추에이터를 포함하여 구성되는 구동 어셈블리. - 제 5 항에 있어서,
상기 제어 값은 전압 값으로 제공되는 구동 어셈블리. - 제 6 항에 있어서,
상기 모듈 제어부는 상기 제어 값을 초기 제어 값으로 설정하여 상기 피스톤을 구동한 후, 산출된 상기 계측 속력에 따라 상기 제어 값을 증가 또는 감소 시키는 작업을 1회 이상 수행하여 상기 피스톤의 속력을 자동으로 조절하는 구동 어셈블리.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140106303A KR102264294B1 (ko) | 2014-08-14 | 2014-08-14 | 구동 어셈블리 |
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| KR1020140106303A KR102264294B1 (ko) | 2014-08-14 | 2014-08-14 | 구동 어셈블리 |
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| KR102264294B1 KR102264294B1 (ko) | 2021-06-15 |
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| KR1020140106303A Active KR102264294B1 (ko) | 2014-08-14 | 2014-08-14 | 구동 어셈블리 |
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| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102264294B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021015591A1 (ko) * | 2019-07-24 | 2021-01-28 | 정종홍 | 이차전지 제조공정용 직선왕복구동장치 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH10149977A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置の制御方法及び処理装置 |
| JP2000018207A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-01-18 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| KR20060059735A (ko) * | 2004-11-29 | 2006-06-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조설비의 리프트장치 및 그 구동방법 |
| KR20070055154A (ko) * | 2005-11-25 | 2007-05-30 | 삼성전자주식회사 | 유공압 실린더를 포함한 반도체 제조장치 |
-
2014
- 2014-08-14 KR KR1020140106303A patent/KR102264294B1/ko active Active
Patent Citations (4)
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|---|---|
| KR102264294B1 (ko) | 2021-06-15 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
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| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |