KR20170053565A - 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 - Google Patents
지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170053565A KR20170053565A KR1020160131159A KR20160131159A KR20170053565A KR 20170053565 A KR20170053565 A KR 20170053565A KR 1020160131159 A KR1020160131159 A KR 1020160131159A KR 20160131159 A KR20160131159 A KR 20160131159A KR 20170053565 A KR20170053565 A KR 20170053565A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- support
- nail
- plate
- supporting
- separating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/32—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H10P72/3206—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
-
- H01L21/67712—
-
- H01L21/67242—
-
- H01L21/67742—
-
- H01L21/68707—
-
- H01L21/68742—
-
- H01L21/78—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P54/00—Cutting or separating of wafers, substrates or parts of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/06—Apparatus for monitoring, sorting, marking, testing or measuring
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/33—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H10P72/3302—Mechanical parts of transfer devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/76—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
- H10P72/7602—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade or gripped by a gripper for conveyance
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/76—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
- H10P72/7604—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H10P72/7612—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by lifting arrangements, e.g. lift pins
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Robotics (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(해결 수단) 지지체 분리 장치 (100) 는, 서포트 플레이트 (17) 를 파지하는 손톱부 (1) 와, 구동부 (2) 와, 구동부 (2) 에 의해 이동되는 손톱부 (1) 의 위치를 검지하는 자기 센서 (3) 와, 손톱부 (1) 가, 소정의 영역보다 내측으로 이동한 것을 자기 센서 (3) 가 검지하면, 손톱부 (1) 를 초기의 위치로 이동하도록 제어하는 제어부를 구비하고 있다.
Description
도 2 는 본 발명의 일 실시형태에 관련된 지지체 분리 장치 (100) 의 동작의 개략을 설명하는 도면이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 지지체 분리 장치 (100) 가 구비하고 있는 손톱부 (1) 의 개략도이다.
도 4 는 본 발명의 일 실시형태에 관련된 지지체 분리 장치 (100) 의 개략을 설명하는 블록도이다.
1a ; 포착면 (손톱부)
1b ; 경사면 (손톱부)
1c ; 조정부
2 ; 구동부
2a ; 이동축 (구동부)
2b ; 지지부 (구동부)
3 ; 자기 센서 (검지부)
3a ; 마그넷 (검지부)
3b, 3c ; 센서 헤드 (검지부)
4 ; 분리 플레이트 (플레이트부)
4a ; 당접면 (플레이트부)
6 ; 걸림부
7 ; 베어링부 (걸림부)
7a ; 테이퍼면 (개구면, 걸림부)
8 ; 당접부 (걸림부)
8a ; 감합면 (걸림부)
9 ; 축부 (걸림부)
10 ; 승강부
14 ; 스테이지 (고정부)
17 ; 서포트 플레이트 (지지체)
17a ; 모따기 부위 (지지체)
18 ; 접착층
19 ; 기판
20 ; 적층체
23 ; 제어부
100 ; 지지체 분리 장치
Claims (11)
- 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를 첩부하여 이루어지는 적층체로부터, 상기 지지체를 분리하는 지지체 분리 장치로서,
상기 적층체에 있어서의 상기 지지체의 외주 단부를 파지하는 복수의 손톱부와,
상기 손톱부의 각각을, 상기 지지체의 평면부에 대하여 별개로 평행하게 이동시키는 구동부와,
상기 구동부에 의해 이동되는 상기 손톱부의 각각의 위치를 별개로 검지하는 검지부와,
상기 복수의 손톱부 중 적어도 1 개가, 소정의 영역보다 내측으로 이동한 것을 상기 검지부가 검지하면, 상기 복수의 손톱부 모두를 초기의 위치로 이동하도록 제어하는 제어부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 검지부는, 상기 손톱부의 변위를 검지하는 위치 계측 센서를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 구동부는, 이동축과, 당해 이동축을 가동으로 지지하는 지지부를 구비하고,
상기 검지부는, 적어도 1 개의 마그넷과, 당해 마그넷의 변위를 검지하는 적어도 2 개의 센서 헤드를 구비하고 있고,
상기 손톱부는, 파지되는 상기 지지체의 외주 단부보다 외측에 배치되는 측의 상기 이동축의 단부에 형성되고,
상기 센서 헤드의 각각은, 상기 지지부에 있어서의 상기 이동축의 이동 방향의 전측과 후측에 배치되고,
상기 마그넷은, 상기 이동 축에 고정되고, 상기 2 개의 센서 헤드 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 구동부는, 상기 적층체에 있어서의 상기 지지체의 평면부에 당접하는 당접면을 갖는 플레이트부에 형성되고,
상기 손톱부의 각각은, 상기 플레이트부에 있어서의 상기 당접면으로부터 멀어질수록, 당해 당접면의 외주로부터 내주를 향하는 경사가 커지는 경사면을 구비하고 있고,
상기 당접면에 상기 지지체의 평면부를 당접하고, 상기 지지체의 외주 단부에 형성된 모따기 부위에 상기 경사면을 당접하는 것에 의해, 상기 지지체를 파지하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 4 항에 있어서,
상기 손톱부의 각각은, 상기 플레이트부에 있어서의 당접면의 면 방향에 있어서, 당해 손톱부에 있어서의 경사면의 단변과 상기 플레이트부에 있어서의 당접면 사이의 거리를 조정하는 조정부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 4 항에 있어서,
상기 플레이트부와,
상기 적층체에 있어서의 기판측을 고정시키는 고정부와,
상기 플레이트부를 상하 방향으로 승강시키는 승강부를 구비하고 있고,
상기 플레이트부는, 상하 방향으로 가동하도록, 걸림부에 의해 상기 승강부에 걸리는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를 첩부하여 이루어지는 적층체로부터, 상기 지지체를 분리하는 지지체 분리 방법으로서,
상기 적층체에 있어서의 상기 지지체의 외주 단부를 복수의 손톱부에 의해 파지하는 파지 공정을 포함하고,
상기 파지 공정에서는, 이동한 상기 손톱부의 각각의 위치를 별개로 검지하고, 상기 복수의 손톱부 중 적어도 1 개가, 소정의 영역보다 내측으로 이동한 것을 검지하면, 상기 복수의 손톱부 모두를 초기의 위치로 이동하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 손톱부가 소정의 영역보다 내측으로 이동한 것을 검지하면, 상기 복수의 손톱부 모두를 초기의 위치로 이동하고, 그 후, 재차, 동일한 적층체에 대하여 상기 파지 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법. - 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
상기 파지 공정에서는, 상기 지지체의 평면부에 당접하는 당접면에 상기 지지체의 평면부를 당접하고,
상기 복수의 손톱부의 각각이 가지고 있는, 당해 당접면의 면 방향에 있어서 당해 당접면으로부터 멀어질수록, 당해 당접면의 외주로부터 내주를 향하는 경사가 커지는 복수의 경사면에, 상기 지지체에 형성된 모따기 부위를 당접하는 것에 의해, 상기 지지체를 파지하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법. - 제 9 항에 있어서,
상기 파지 공정 전에, 상기 당접면의 면 방향에 있어서, 당해 손톱부에 있어서의 상기 경사면의 단변과 상기 당접면 사이의 거리를, 상기 지지체의 두께에 따라 조정하는 조정 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법. - 제 9 항에 있어서,
상기 파지 공정에서는, 상기 당접면을 구비하고, 상하 방향으로 가동하도록 걸린 플레이트부를 강하시켜, 상기 지지체의 평면부에 상기 당접면을 당접하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2015-218925 | 2015-11-06 | ||
| JP2015218925A JP6612589B2 (ja) | 2015-11-06 | 2015-11-06 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170053565A true KR20170053565A (ko) | 2017-05-16 |
| KR102543043B1 KR102543043B1 (ko) | 2023-06-14 |
Family
ID=58770885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020160131159A Active KR102543043B1 (ko) | 2015-11-06 | 2016-10-11 | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6612589B2 (ko) |
| KR (1) | KR102543043B1 (ko) |
| TW (1) | TWI685055B (ko) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6244387A (ja) * | 1985-08-16 | 1987-02-26 | 富士通株式会社 | 保持機構 |
| JPH11116046A (ja) | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Mecs Corp | ウェハ搬送ロボットにおけるロボットハンド |
| JP2003197724A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Mitsubishi Electric Corp | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 |
| JP2006032506A (ja) | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Taiyo Yuden Co Ltd | 半導体ウェハの剥離方法および剥離装置 |
| JP2009141027A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Hirata Corp | アライナおよびそれを用いたエッジクランプ検出方法 |
| JP2010010207A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 剥離装置および剥離方法 |
| JP2014060347A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000247537A (ja) * | 1999-02-23 | 2000-09-12 | Matsushita Electric Works Ltd | 剥離装置 |
| JP4021248B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2007-12-12 | 株式会社リコー | 部品剥離方法および装置 |
| JP5210060B2 (ja) * | 2008-07-02 | 2013-06-12 | 東京応化工業株式会社 | 剥離装置および剥離方法 |
-
2015
- 2015-11-06 JP JP2015218925A patent/JP6612589B2/ja active Active
-
2016
- 2016-08-29 TW TW105127695A patent/TWI685055B/zh active
- 2016-10-11 KR KR1020160131159A patent/KR102543043B1/ko active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6244387A (ja) * | 1985-08-16 | 1987-02-26 | 富士通株式会社 | 保持機構 |
| JPH11116046A (ja) | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Mecs Corp | ウェハ搬送ロボットにおけるロボットハンド |
| JP2003197724A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Mitsubishi Electric Corp | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 |
| JP2006032506A (ja) | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Taiyo Yuden Co Ltd | 半導体ウェハの剥離方法および剥離装置 |
| JP2009141027A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Hirata Corp | アライナおよびそれを用いたエッジクランプ検出方法 |
| JP2010010207A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 剥離装置および剥離方法 |
| JP2014060347A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI685055B (zh) | 2020-02-11 |
| JP2017092196A (ja) | 2017-05-25 |
| JP6612589B2 (ja) | 2019-11-27 |
| KR102543043B1 (ko) | 2023-06-14 |
| TW201724344A (zh) | 2017-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7240422B2 (en) | Apparatus for semiconductor chip detachment | |
| JP2010010207A (ja) | 剥離装置および剥離方法 | |
| KR20140110749A (ko) | 박리 장치, 박리 시스템 및 박리 방법 | |
| KR20160018401A (ko) | 점착 테이프 박리 방법 및 점착 테이프 박리 장치 | |
| US7238593B2 (en) | Method for detaching a semiconductor chip from a foil and device for mounting semiconductor chips | |
| KR20170034674A (ko) | 임시 접합 웨이퍼 디본딩장치 및 방법 | |
| KR101625730B1 (ko) | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 | |
| JP2012524419A (ja) | キャリア基板から基板を分離するための装置及び方法 | |
| JP2013102126A (ja) | 半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置 | |
| JP2019041051A (ja) | 粘着テープ剥離方法および粘着テープ剥離装置 | |
| CN112530834A (zh) | 芯片贴装装置、剥离单元、筒夹及半导体器件的制造方法 | |
| EP4075486A1 (en) | Detaching a die from an adhesive tape by air ejection | |
| CN111868901B (zh) | 工具高度调整装置以及具有该装置的芯片部件转印装置 | |
| CN103311150A (zh) | 半导体制造装置以及半导体制造装置的控制方法 | |
| JP5433542B2 (ja) | 両面粘着テープ剥離方法および両面粘着テープ剥離装置 | |
| JP2013168616A (ja) | 保護テープ剥離方法 | |
| JP2016082166A (ja) | 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置 | |
| KR102543036B1 (ko) | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 | |
| KR20170053565A (ko) | 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 | |
| JP6647014B2 (ja) | 支持体分離装置及び支持体分離方法 | |
| KR101425906B1 (ko) | 테이프 파지 기구, 시트 박리 장치, 및 시트 박리 방법 | |
| JP5826701B2 (ja) | チップ位置決め装置、チップ位置決め方法、およびダイボンダ | |
| JP4593200B2 (ja) | チップ配列保持シートの製造方法および製造装置 | |
| JP6612648B2 (ja) | 支持体分離装置及び支持体分離方法 | |
| JPH02246241A (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |