KR20200067879A - 판재의 프레스 성형 방법 - Google Patents
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Abstract
S1 : 목표 형상의 돌기부 영역을 유한 요소 해석용의 평면 요소와 절점으로 이산화한다
S2 : 이산화된 부위에 대하여, 그 내측으로부터 평면 요소의 법선 방향으로 내력을 가하고, 다음의 조건 a, b 하에서 변형시킨다
(a) 구성하는 평면 요소의 변형은 탄성 변형 범위 내
(b) 이웃하는 평면 요소끼리의 각도는 변화 자유
Description
도 2a 는, 본 발명의 취지를 나타내는 개략도이고, 목표로 하는 돌출부의 형상의 일례이다.
도 2b 는, 상기 돌출부를 평면 요소와 절점으로 이산화한 상태를 나타내는 도면이다.
도 2c 는, 상기 돌출부의 예비 형상을 나타내는 도면이다.
도 3a 는, 돌기부 주변을 이산화한 상태를 나타내는 도면이다.
도 3b 는, 도 3a 의 주요부 확대도이다.
도 4a 는, 이산화된 부위에 내압을 부여한 후의 중간 성형체의 형상을 나타내는 도면이다.
도 4b 는, 이산화된 부위의 목표 형상을 나타내는 도면이다.
도 5a 는, 제 1 공정이 얕은 드로잉 성형, 제 2 공정이 패드가 부착된 굽힘 성형으로 이루어지는 비교법을 나타내는 도면이다.
도 5b 는, 도 5a 에 있어서의 패드 누름 위치를 나타내는 도면이다.
도 6 은, 종래법 1 에서 성형했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 7 은, 비교법 1 에서 얕은 드로잉 성형 (제 1 공정) 했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 8 은, 비교법 1 에서 패드가 부착된 굽힘 성형 (제 2 공정) 했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 9 는, 본 발명법 1 에 따라 중간 성형체 형상으로 성형했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 10 은, 본 발명법 1 에 따라 목표 형상으로 성형했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 11 은, 실시예 2 에서 대상으로 하는 부품 형상을 나타내는 도면이다.
도 12 는, 실시예 2 의 대상 부품을 종래법 2 에서 성형했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 13 은, 실시예 2 의 대상 부품을 비교법 2 에서 얕은 드로잉 성형 (제 1 공정) 했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 14 는, 실시예 2 의 대상 부품을 비교법 2 에서 패드가 부착된 굽힘 성형 (제 2 공정) 했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 15a 는, 실시예 2 의 대상 부품의 파단 위험부 부근을 이산화한 상태를 나타내는 도면이다.
도 15b 는, 도 15a 의 주요부 확대도이다.
도 16a 는, 이산화된 부위에 내압을 부여한 후의 중간 성형체의 형상을 나타내는 도면이다.
도 16b 는, 이산화된 부위의 목표 형상을 나타내는 도면이다.
도 17 은, 본 발명법 2 에 따라 중간 성형체 형상으로 성형했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
도 18 은, 본 발명법 2 에 따라 목표 형상으로 성형했을 때의 판두께 감소율을 나타내는 도면이다.
10 : 성형 부재
11 : 천판부
12 : 세로벽부
13 : 플랜지
14 : 돌기부
Claims (1)
- 천판부와 세로벽부 및 플랜지로 이루어지는 단면 해트형으로서, 그 천판부에, 폐색 돌출 형상의 돌기부를 갖는 성형 부재를, 금속 소판으로부터 프레스 성형할 때에,
먼저, 프레스 성형 해석에 의해, 상기 돌기부 영역의 천판부에 대해, 하기에 서술하는 S1, S2 의 순서로, 목표로 하는 형상과 표면적이 거의 동일하고 또한 성형이 간이한 예비 성형 형상을 구하고,
이어서, 금속 소판을, 구한 상기 예비 성형 형상으로 프레스 성형하고, 그리고 나서, 해당 지점을 목표로 하는 최종 형상으로 폼 성형하는, 판재의 프레스 성형 방법.
S1 : 목표 형상의 돌기부 영역을 유한 요소 해석용의 평면 요소와 절점으로 이산화한다
S2 : 이산화된 부위에 대하여, 그 내측으로부터 평면 요소의 법선 방향으로 내력을 가하고, 다음의 조건 a, b 하에서 변형시킨다
(a) 구성하는 평면 요소의 변형은 탄성 변형 범위 내
(b) 이웃하는 평면 요소끼리의 각도는 변화 자유
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