KR20200087227A - 기재로부터의 프로세스 가스의 저장 및 전달을 위한 방법, 시스템, 및 디바이스 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2 는 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 저장 디바이스의 나선형-권선된 기재의 사시도를 도시하는 그림 도면이다.
도 3 은 본 발명에 따른 저장 디바이스의 예시적인 실시형태의 사시도를 도시하는 그림 도면이다.
도 4a 및 도 4b 는 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 심지 기재 (wick substrate) 를 포함하는 예시적인 저장 디바이스를 도시하는 그림 도면들이다.
도 4c 는 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 하이드로겔 기재를 포함하는 저장 디바이스의 단면도를 도시하는 그림 도면이다.
도 4d 는 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른, 도 14c 의 라인 D-D 를 따라 취해진 하이드로겔 기재를 포함하는 저장 디바이스의 단면도를 도시하는 그림 도면이다.
도 4e 는 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 저장 디바이스의 사시도를 도시하는 그림 도면이다.
도 5 는 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 테스팅을 위하여 이용된 P&ID 의 그림 도면이다.
도 6 은 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 테스팅을 위하여 이용된 P&ID 의 그림 도면이다.
도 7 내지 도 18 은 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 저장 디바이스에서 포함된 다양한 기재들의 증기 농도 출력들을 도시하는 그래픽 도면들이다.
도 19 는 본 개시내용의 어떤 실시형태들에 따른 증기 압력 테스트들 동안의 온도에 대한 증기 압력 상승을 도시하는 그래픽 도면이다.
도 20 은 본 발명의 다양한 실시형태들에 따른 저장 디바이스에서 포함된 부직 심지 기재 (non-woven wick substrate) 의 결과들을 도시하는 그래픽 도면이다.
도 21 내지 도 23 은 개시내용의 어떤 실시형태들에 따른 저장 디바이스에서 포함된 하이드로겔 기재들을 이용하는 과산화수소 증기 출력을 도시하는 그래픽 도면들이다.
본 개시내용의 실시형태들 및 그 장점들은 뒤따르는 상세한 설명을 참조함으로써 최상으로 이해된다. 유사한 참조 번호들은 도면들 중의 하나 이상에서 예시된 유사한 엘리먼트들을 식별하기 위하여 이용된다는 것이 인식되어야 한다.
Claims (102)
- 프로세스 용액을 위한 저장 디바이스로서,
(a) 기재가 안에 배치된 하우징;
(b) 상기 하우징 내에 포함된 프로세스 용액으로서, 상기 프로세스 용액이 상기 기재 상으로 흡착 (adsorb) 됨으로써 상기 기재 내에서 상기 프로세스 용액을 희석시키도록 상기 기재와 유체 접촉하는, 상기 프로세스 용액; 및
(c) 상기 하우징 내에 포함되고, 상기 기재에 의해 상기 프로세스 용액으로부터 분리된 헤드 공간을 포함하고,
상기 하우징은 캐리어 가스 (carrier gas) 가 상기 헤드 공간을 통해 유동하는 것을 허용하도록 구성되거나, 상기 프로세스 용액의 가스 상 (gas phase) 을 포함하는 가스 스트림을 생성하여 상기 가스 스트림을 중요 (critical) 프로세스, 애플리케이션, 또는 저장 용기로 전달하기 위하여 상기 헤드 공간을 통해 진공이 형성되는 것을 허용하도록 구성되는, 저장 디바이스. - 제 1 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 액체 용액 또는 가스 용액인, 저장 디바이스. - 제 2 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 과산화수소 (hydrogen peroxide), 하이드라진 (hydrazine), 모노-메틸 하이드라진 (mono-methyl hydrazine), 삼차 부틸 하이드라진 (tertiary butyl hydrazine), 디메틸하이드라진 (dimethylhydrazine), 및 그 임의의 유도체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는, 저장 디바이스. - 제 3 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 무수성 (anhydrous) 과산화수소 용액 또는 무수성 하이드라진 용액인, 저장 디바이스. - 제 4 항에 있어서,
상기 무수성 과산화수소 용액 또는 무수성 하이드라진 용액은 2 %, 0.5 %, 0.1 %, 0.01 %, 0.001 %, 0.0001 %, 또는 0.00001 % 미만의 물을 함유하는, 저장 디바이스. - 제 1 항에 있어서,
상기 기재는 알루미나 (alumina), 알루미늄 옥사이드 (aluminum oxide), 티타늄 디옥사이드 (titanium dioxide), 실리카 (silica), 실리콘 디옥사이드 (silicon dioxide), 석영 (quartz), 활성 탄소 (activated carbon), 탄소 분자체 (carbon molecular sieve), 탄소 피롤리제이트 (carbon pyrolyzate), 폴리테트라플루오로에틸렌 (polytetrafluoroethylene; PTFE), 폴리에스터 (polyester; PE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (polyethylene terephthalate; PET), 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머(polyethylene/polyethylene terephthalate co-polymer; PE/PET), 폴리프로필렌 (polypropylene; PP), 레이온 (rayon), 지르코늄 옥사이드 (zirconium oxide), 지올라이트 (zeolite), 고 실리카 지올라이트 (high silica zeolite), 폴리메틸펜텐 (polymethylpentene; PMP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (polybutylene terephthalate; PBT), 폴리에틸렌/폴리프로필렌 코-폴리머 (polyethylene/polypropylene co-polymer) 들, 친수성 고밀도 폴리에틸렌 (Hydrophilic High Density Polyethylene; HDPE), 소수성 고밀도 폴리에틸렌 (Hydrophobic High Density Polyethylene; HDPE), 친수성 UHMW 폴리에틸렌 (Hydrophilic UHMW Polyethylene), 소수성 UHMW 폴리에틸렌 (Hydrophobic UHMW Polyethlyene), 퍼플루오로알콕시 알칸 (perfluoroalkoxy alkane; PFA), 폴리비닐리덴 플루오라이드 (polyvinylidene fluoride; PVF), 실크 (silk), 텐셀 (tencel), 스폰지 재료들, 폴리에틸렌 글리콜 (polyethylene glycol; PEG), 폴리비닐 알콜 (polyvinyl alcohol; PVA), 및/또는 폴리비닐피롤리돈 (polyvinylpyrrolidone; PVP), 폴리피리딘 (polypyridine), 폴리아크릴레이트 (polyacrylate) 들, 폴리아크릴산 (polyacrylic acid), 폴리아크릴산/아크릴레이트 코-폴리머들, 폴리카보네이트 (polycarbonate) 들, 폴리아크릴아미드 (polyacrylamide) 들, 폴리아크릴레이트/아크릴아미드 코-폴리머들, 셀룰로우스 재료들, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료로 형성되는, 저장 디바이스. - 제 1 항에 있어서,
상기 기재는 실리콘 디옥사이드, 석영, 활성 탄소, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), 폴리에스터 (PE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머 (PE/PET), 폴리프로필렌 (PP), 폴리메틸펜텐 (PMP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌/폴리프로필렌 코-폴리머들, 친수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 소수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 친수성 UHMW 폴리에틸렌, 소수성 UHMW 폴리에틸렌, 퍼플루오로알콕시 알칸 (PFA), 폴리비닐리덴 플루오라이드 (PVF), 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료로 형성되는, 저장 디바이스. - 제 1 항에 있어서,
상기 기재는 PTFE 인, 저장 디바이스. - 제 1 항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머인, 저장 디바이스. - 제 1 항에 있어서,
상기 기재는 약 100 m2/g 로부터 1000 m2/g 까지의 범위인 표면적을 갖는 다공성 구조체인, 저장 디바이스. - 제 7 항에 있어서,
상기 기재는 30 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 저장 디바이스. - 제 7 항에 있어서,
상기 기재는 100 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 저장 디바이스. - 제 7 항에 있어서,
상기 기재는 1000 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 저장 디바이스. - 제 7 항에 있어서,
상기 기재는 1900 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 저장 디바이스. - 제 4 항에 있어서,
상기 과산화수소 용액의 농도는 30 % w/w 미만인, 저장 디바이스. - 제 4 항에 있어서,
상기 과산화수소 용액의 농도는 알려진 시간의 주기의 과정 동안에 안정적인, 저장 디바이스. - 제 7 항에 있어서,
상기 기재는 패브릭 (fabric), 분말 (powder), 하나 이상의 브릭 (brick) 들, 하나 이상의 블록들, 하나 이상의 비드 (bead) 들, 하나 이상의 입자들, 하나 이상의 압출물 (extrudate) 들, 또는 하나 이상의 펠릿 (pellet) 들로서 형성되는, 저장 디바이스. - 제 7 항에 있어서,
상기 기재는 메쉬 (mesh) 로서 형성되는, 저장 디바이스. - 제 18 항에 있어서,
상기 메쉬 기재는 상기 하우징 내에서 나선형-권선되는, 저장 디바이스. - 제 19 항에 있어서,
상기 메쉬에 인접하게 배치된 분리기를 더 포함하고, 상기 분리기는 나선형-권선된 메쉬의 층들을 지지하고 분리하도록 구성되는, 저장 디바이스. - 제 20 항에 있어서,
상기 분리기는 PTFE 로 형성되는, 저장 디바이스. - 제 1 항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌 글리콜 (PEG), 폴리비닐 알콜 (PVA), 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 폴리피리딘, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 하이드로겔 (hydrogel) 인, 저장 디바이스. - 제 22 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 20 % PEG 하이드로겔인, 저장 디바이스. - 제 22 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 40 % PEG 하이드로겔인, 저장 디바이스. - 제 22 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 PTFE 메쉬에서 포장되는, 저장 디바이스. - 제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 디바이스에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물 (process solution/substrate complex) 의 약 30 내지 1900 중량 퍼센트 (weight percent) 인, 저장 디바이스. - 제 26 항에 있어서,
상기 디바이스에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 800 중량 퍼센트인, 저장 디바이스. - 제 26 항에 있어서,
상기 디바이스에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 100 중량 퍼센트인, 저장 디바이스. - 가스 전달 방법으로서,
(a) 용액이 기재 상으로 흡착됨으로써 상기 기재 내에서 프로세스 용액을 희석시키도록, 상기 프로세스 용액을 밀폐된 하우징 내의 기재와 접촉시키는 단계;
(b) 상기 기재를 캐리어 가스 또는 진공에 노출시켜서, 상기 프로세스 용액의 가스 상을 포함하는 가스 스트림을 형성하는 단계; 및
(c) 상기 가스 스트림을 중요 프로세스, 애플리케이션, 또는 저장 용기로 전달하는 단계를 포함하고,
상기 하우징은 상기 캐리어 가스가 상기 하우징 내에 포함된 헤드 공간을 통해 유동되는 것을 허용하도록 구성되거나, 진공이 상기 헤드 공간을 통해 인출되는 것을 허용하도록 구성되고, 상기 헤드 공간은 상기 기재에 의해 상기 프로세스 용액으로부터 분리되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 액체 용액 또는 가스 용액인, 가스 전달 방법. - 제 30 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 과산화수소, 하이드라진, 모노-메틸 하이드라진, 삼차 부틸 하이드라진, 디메틸하이드라진, 및 그 임의의 유도체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는, 가스 전달 방법. - 제 31 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 무수성 과산화수소 용액 또는 무수성 하이드라진 용액인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 무수성 과산화수소 용액 또는 무수성 하이드라진 용액은 2 %, 0.5 %, 0.1 %, 0.01 %, 0.001 %, 0.0001 %, 또는 0.00001 % 미만의 물을 함유하는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 알루미나, 알루미늄 옥사이드, 티타늄 디옥사이드, 실리카, 실리콘 디옥사이드, 석영, 활성 탄소, 탄소 분자체, 탄소 피롤리제이트, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), 폴리에스터 (PE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머(PE/PET), 폴리프로필렌 (PP), 레이온, 지르코늄 옥사이드, 지올라이트, 고 실리카 지올라이트, 폴리메틸펜텐 (PMP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌/폴리프로필렌 코-폴리머들, 친수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 소수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 친수성 UHMW 폴리에틸렌, 소수성 UHMW 폴리에틸렌, 퍼플루오로알콕시 알칸 (PFA), 폴리비닐리덴 플루오라이드 (PVF), 실크, 텐셀, 스폰지 재료들, 폴리에틸렌 글리콜 (PEG), 폴리비닐 알콜 (PVA), 및/또는 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 폴리피리딘, 폴리아크릴레이트들, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산/아크릴레이트 코-폴리머들, 폴리카보네이트들, 폴리아크릴아미드들, 폴리아크릴레이트/아크릴아미드 코-폴리머들, 셀룰로우스 재료들, 및 그 임의의 조합들로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료로 형성되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 실리콘 디옥사이드, 석영, 활성 탄소, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), 폴리에스터 (PE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머 (PE/PET), 폴리프로필렌 (PP), 폴리메틸펜텐 (PMP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌/폴리프로필렌 코-폴리머들, 친수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 소수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 친수성 UHMW 폴리에틸렌, 소수성 UHMW 폴리에틸렌, 퍼플루오로알콕시 알칸 (PFA), 폴리비닐리덴 플루오라이드 (PVF), 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료로 형성되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 PTFE 인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 약 100 m2/g 로부터 1000 m2/g 까지의 범위인 표면적을 갖는 다공성 구조체인, 가스 전달 방법. - 제 31 항에 있어서,
상기 기재는 30 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 가스 전달 방법. - 제 31 항에 있어서,
상기 기재는 100 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 가스 전달 방법. - 제 31 항에 있어서,
상기 기재는 1000 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 가스 전달 방법. - 제 31 항에 있어서,
상기 기재는 1900 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 가스 전달 방법. - 제 31 항에 있어서,
상기 과산화수소 용액의 농도는 30 % w/w 미만인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 프로세스 용액의 상기 가스 상 농도는 적어도 100 시간 동안 안정적인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 하우징은 0 ℃ 내지 약 100 ℃ 의 온도에서 제공되는, 가스 전달 방법. - 제 45 항에 있어서,
상기 하우징은 약 25 ℃ 내지 85 ℃ 에서 제공되는, 가스 전달 방법. - 제 46 항에 있어서,
상기 하우징은 약 35 ℃ 내지 50 ℃ 에서 제공되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 패브릭, 분말, 하나 이상의 브릭들, 하나 이상의 블록들, 하나 이상의 비드들, 하나 이상의 입자들, 하나 이상의 압출물들, 또는 하나 이상의 펠릿들로서 형성되는, 가스 전달 방법. - 제 48 항에 있어서,
상기 기재는 스펀 본딩 (spun bonding), 니들 본딩 (needle bonding), 천공 본딩 (perforation bonding), 카딩 (carding), 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 기계적 마감 프로세스로 처리되었던 부직 패브릭 (non-woven fabric) 인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 PTFE 인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머인, 가스 전달 방법. - 제 48 항에 있어서,
상기 기재는 메쉬로서 형성되는, 가스 전달 방법. - 제 52 항에 있어서,
상기 메쉬는 상기 하우징 내에서 나선형-권선되는, 가스 전달 방법. - 제 53 항에 있어서,
상기 하우징은 상기 메쉬에 인접하게 배치된 분리기를 포함하고, 상기 분리기는 나선형-권선된 메쉬의 층들을 지지하고 분리하도록 구성되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 분리기는 PTFE 로 형성되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌 글리콜 (PEG), 폴리비닐 알콜 (PVA), 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 폴리피리딘, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 하이드로겔인, 가스 전달 방법. - 제 56 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 20 % PEG 하이드로겔인, 가스 전달 방법. - 제 56 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 40 % PEG 하이드로겔인, 가스 전달 방법. - 제 56 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 PTFE 메쉬에서 포장되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 캐리어 가스는 실질적으로 건조 캐리어 가스인, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 캐리어 가스는 질소, 아르곤, 산소, 수소, 청정 건조 공기, 헬륨, 암모니아, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 하우징은 상기 중요 프로세스, 애플리케이션, 및/또는 저장 용기로 전달된 상기 가스 스트림의 연속 유동을 허용하도록 구성되는, 가스 전달 방법. - 제 62 항에 있어서,
상기 가스 스트림은 상기 프로세스 용액의 상기 가스 상의 약 0.10 mg/min 내지 10 gm/min 을 전달하는, 가스 전달 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 하우징에서의 상기 프로세스 용액의 총 질량은 약 1 gm 내지 5000 kg 인, 가스 전달 방법. - 제 64 항에 있어서,
상기 밀폐된 챔버에서의 상기 프로세스 용액의 총 질량은 약 300 gm 내지 1.2 kg 인, 가스 전달 방법. - 제 29 항 내지 제 65 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하우징에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 1900 중량 퍼센트인, 가스 전달 방법. - 제 66 항에 있어서,
상기 디바이스에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 800 중량 퍼센트인, 가스 전달 방법. - 제 66 항에 있어서,
상기 디바이스에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 100 중량 퍼센트인, 가스 전달 방법. - 화학적 전달 시스템으로서,
(a) 하우징 내에 제공된 프로세스 용액으로서, 상기 프로세스 용액은 용액이 기재 상으로 흡착됨으로써 상기 기재 내에서 상기 프로세스 용액을 희석시키도록, 상기 하우징 내에서 배치된 기재와 접촉하는, 상기 프로세스 용액;
(b) 상기 프로세스 용액의 가스 상과 유체 접촉함으로써, 상기 하우징 내에서 가스 스트림을 형성하는 캐리어 가스 또는 진공; 및
(c) 상기 하우징과 유체 연통하고, 상기 가스 스트림을 중요 프로세스, 애플리케이션, 또는 저장 용기로 전달하도록 구성된 장치를 포함하고,
상기 하우징은 상기 캐리어 가스가 상기 하우징 내에 포함된 헤드 공간을 통해 유동되는 것을 허용하도록 구성되거나, 진공이 상기 헤드 공간을 통해 인출되는 것을 허용하도록 구성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 액체 용액 또는 가스 용액인, 화학적 전달 시스템. - 제 70 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 과산화수소, 하이드라진, 모노-메틸 하이드라진, 삼차 부틸 하이드라진, 디메틸하이드라진, 및 그 임의의 유도체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는, 화학적 전달 시스템. - 제 71 항에 있어서,
상기 프로세스 용액은 무수성 과산화수소 용액 또는 무수성 하이드라진 용액인, 화학적 전달 시스템. - 제 72 항에 있어서,
상기 무수성 과산화수소 용액 또는 무수성 하이드라진 용액은 2 %, 0.5 %, 0.1 %, 0.01 %, 0.001 %, 0.0001 %, 또는 0.00001 % 미만의 물을 함유하는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 알루미나, 알루미늄 옥사이드, 티타늄 디옥사이드, 실리카, 실리콘 디옥사이드, 석영, 활성 탄소, 탄소 분자체, 탄소 피롤리제이트, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), 폴리에스터 (PE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머(PE/PET), 폴리프로필렌 (PP), 레이온, 지르코늄 옥사이드, 지올라이트, 고 실리카 지올라이트, 폴리메틸펜텐 (PMP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌/폴리프로필렌 코-폴리머들, 친수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 소수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 친수성 UHMW 폴리에틸렌, 소수성 UHMW 폴리에틸렌, 퍼플루오로알콕시 알칸 (PFA), 폴리비닐리덴 플루오라이드 (PVF), 실크, 텐셀, 스폰지 재료들, 폴리에틸렌 글리콜 (PEG), 폴리비닐 알콜 (PVA), 및/또는 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 폴리피리딘, 폴리아크릴레이트들, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산/아크릴레이트 코-폴리머들, 폴리카보네이트들, 폴리아크릴아미드들, 폴리아크릴레이트/아크릴아미드 코-폴리머들, 셀룰로우스 재료들, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료로 형성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 실리콘 디옥사이드, 석영, 활성 탄소, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE), 폴리에스터 (PE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머 (PE/PET), 폴리프로필렌 (PP), 폴리메틸펜텐 (PMP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌/폴리프로필렌 코-폴리머들, 친수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 소수성 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 친수성 UHMW 폴리에틸렌, 소수성 UHMW 폴리에틸렌, 퍼플루오로알콕시 알칸 (PFA), 폴리비닐리덴 플루오라이드 (PVF), 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로 이루어진 재료로 형성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 PTFE 인, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌/폴리에틸렌 테레프탈레이트 코-폴리머인, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 100 m2/g 로부터 1000 m2/g 까지의 범위인 표면적을 갖는 다공성 구조체인, 화학적 전달 시스템. - 제 78 항에 있어서,
상기 기재는 30 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 78 항에 있어서,
상기 기재는 100 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 78 항에 있어서,
상기 기재는 1000 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 78 항에 있어서,
상기 기재는 1900 % w/w 초과의 과산화수소를 흡착하도록 구성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 71 항에 있어서,
상기 과산화수소 용액의 농도는 30 % w/w 미만인, 화학적 전달 시스템. - 제 71 항에 있어서,
가스 상 과산화수소 용액의 농도는 적어도 100 시간 동안 안정적인, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 하우징은 0 ℃ 내지 약 100 ℃ 의 온도에서 제공되는, 화학적 전달 시스템. - 제 85 항에 있어서,
상기 하우징은 약 25 ℃ 내지 85 ℃ 에서 제공되는, 화학적 전달 시스템. - 제 86 항에 있어서,
상기 하우징은 약 35 ℃ 내지 50 ℃ 에서 제공되는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 패브릭, 분말, 하나 이상의 브릭들, 하나 이상의 블록들, 하나 이상의 비드들, 하나 이상의 입자들, 하나 이상의 압출물들, 또는 하나 이상의 펠릿들로서 형성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 88 항에 있어서,
상기 기재는 스펀 본딩, 니들 본딩, 천공 본딩, 카딩, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 기계적 마감 프로세스로 처리되었던 부직 패브릭인, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 메쉬로서 형성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 90 항에 있어서,
상기 메쉬는 상기 하우징 내에서 나선형-권선되는, 화학적 전달 시스템. - 제 91 항에 있어서,
상기 메쉬에 인접하게 배치된 분리기를 더 포함하고, 상기 분리기는 상기 하우징 내의 상기 메시의 층들을 지지하고 분리하도록 구성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 92 항에 있어서,
상기 분리기는 PTFE 로 형성되는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌 글리콜 (PEG), 폴리비닐 알콜 (PVA), 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 폴리피리딘, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 하이드로겔인, 화학적 전달 시스템. - 제 94 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 20 % PEG 하이드로겔인, 화학적 전달 시스템. - 제 94 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 40 % PEG 하이드로겔인, 화학적 전달 시스템. - 제 94 항에 있어서,
상기 하이드로겔은 PTFE 메쉬에서 포장되는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항에 있어서,
상기 캐리어 가스는 실질적으로 건조 캐리어 가스인, 화학적 전달 시스템. - 제 98 항에 있어서,
상기 캐리어 가스는 질소, 아르곤, 수소, 청정 건조 공기, 헬륨, 암모니아, 및 그 임의의 조합으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는, 화학적 전달 시스템. - 제 69 항 내지 제 99 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하우징에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 1900 중량 퍼센트인, 화학적 전달 시스템. - 제 100 항에 있어서,
상기 디바이스에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 800 중량 퍼센트인, 화학적 전달 시스템. - 제 100 항에 있어서,
상기 디바이스에서의 상기 프로세스 용액의 양은 프로세스 용액/기재 합성물의 약 30 내지 100 중량 퍼센트인, 화학적 전달 시스템.
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