KR20200096239A - 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 크롬 도금 방법 - Google Patents
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 118
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 71
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 68
- 239000011651 chromium Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 25
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 20
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 claims abstract description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 14
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 14
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 claims abstract description 14
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 13
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 claims abstract description 12
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 claims abstract description 12
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 21
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 18
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 claims description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NGPGDYLVALNKEG-OLXYHTOASA-N diammonium L-tartrate Chemical group [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O NGPGDYLVALNKEG-OLXYHTOASA-N 0.000 claims description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 208000014451 palmoplantar keratoderma and congenital alopecia 2 Diseases 0.000 description 5
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- IDAGXRIGDWCIET-SDFKWCIISA-L disodium;(2s,3s,4s,5r)-2,3,4,5-tetrahydroxyhexanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O IDAGXRIGDWCIET-SDFKWCIISA-L 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 2
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- DSHWASKZZBZKOE-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);hydroxide;sulfate Chemical compound [OH-].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O DSHWASKZZBZKOE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 229910000356 chromium(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000015217 chromium(III) sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000011696 chromium(III) sulphate Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 2
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 2
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 2
- -1 thiourea Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 229920007019 PC/ABS Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOGBENJVEVQHKG-UHFFFAOYSA-K [Cr+3].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O Chemical compound [Cr+3].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O NOGBENJVEVQHKG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005619 boric acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960002163 hydrogen peroxide Drugs 0.000 description 1
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical class [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- RAJUSMULYYBNSJ-UHFFFAOYSA-N prop-1-ene-1-sulfonic acid Chemical compound CC=CS(O)(=O)=O RAJUSMULYYBNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M sodium ascorbate Substances [Na+].OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M 0.000 description 1
- 235000010378 sodium ascorbate Nutrition 0.000 description 1
- 229960005055 sodium ascorbate Drugs 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M sodium-L-ascorbate Chemical compound [Na+].OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N tripotassium borate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]B([O-])[O-] WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
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Abstract
3 가 크롬 화합물, 착화제, 전도성 염으로서 황산칼륨 및 황산암모늄, pH 완충제, 황함유 유기 화합물을 함유하는 3 가 크롬 도금액으로서, 착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염을 사용하고, 황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물을 조합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 3 가 크롬 도금액에 의해, 3 가 크롬 도금액으로서, 도금의 석출 속도가 빠르고, 실용적인 것을 제공한다.
Description
본 발명은, 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 크롬 도금 방법에 관한 것이다.
크롬 도금은, 은백색의 외관을 갖기 때문에 장식용 코팅막으로서 사용되고 있다. 이 크롬 도금에는 6 가의 크롬이 사용되었지만, 최근에는 이 6 가의 크롬이 환경에 영향을 미치기 때문에, 그 사용이 제한되어 왔고, 3 가의 크롬을 사용하는 기술로 시프트되었다.
이러한 3 가의 크롬을 사용하는 기술로는, 다수 보고되어 있고, 예를 들어 수용성 3 가 크롬염, 말산 등의 3 가 크롬 이온용 착화제, pH 완충 화합물, 티오우레아 등의 황함유 유기 화합물 및 사카린 등의 수용성 화합물을 함유하고, pH 가 2.8 ∼ 4.2 인 크롬 전해 도금 용액이 알려져 있다 (특허문헌 1).
그러나, 이 3 가의 크롬 도금액은, 도금의 석출 속도가 느리고, 실용적인 것은 아니었다.
본 발명의 과제는, 3 가의 크롬 도금액으로서, 도금의 석출 속도가 빠르고, 실용적인 것을 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구한 결과, 3 가 크롬 이온용 착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염을 사용하고, 이에 더하여 황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 화합물을 조합하여 사용함으로써, 3 가의 크롬 도금액은, 도금의 석출 속도가 빠르고, 실용적인 것이 되는 것을 알아내어 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은, 3 가 크롬 화합물, 착화제, 전도성 염으로서 황산칼륨 및 황산암모늄, pH 완충제, 황함유 유기 화합물을 함유하는 3 가 크롬 도금액으로서,
착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염을 사용하고,
황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물을 조합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 3 가 크롬 도금액이다.
또, 본 발명은, 피도금물을, 상기 3 가 크롬 도금액으로 전기 도금하는 것을 특징으로 하는 피도금물에 대한 크롬 도금 방법이다.
또한, 본 발명은, 피도금물을, 상기 3 가 크롬 도금액으로 전기 도금하여 얻어지는 크롬 도금 제품이다.
본 발명의 3 가 크롬 도금액은, 3 가 크롬을 사용한 도금이기는 하지만, 6 가의 크롬을 사용한 도금과 동일 정도의 외관이 얻어지고, 또한, 도금의 석출 속도가 빠르고, 실용적인 것이다.
도 1 은, 실시예 1 의 헐 셀 시험에 있어서 균일 전착 거리 (throwing distance) 를 측정한 위치를 나타내는 도면이다.
도 2 는, 실시예 1 의 헐 셀 시험에 있어서, 3 가 크롬 도금액 중에 포함되는 황산칼륨과 황산암모늄의 비와 균일 전착성의 관계를 나타내는 도면이다.
도 3 은, 내식성 시험 (CASS 시험) 을 실시한 결과를 나타내는 도면이다.
도 2 는, 실시예 1 의 헐 셀 시험에 있어서, 3 가 크롬 도금액 중에 포함되는 황산칼륨과 황산암모늄의 비와 균일 전착성의 관계를 나타내는 도면이다.
도 3 은, 내식성 시험 (CASS 시험) 을 실시한 결과를 나타내는 도면이다.
본 발명의 3 가 크롬 도금액 (이하, 「본 발명 도금액」이라고 한다) 은, 3 가 크롬 화합물, 착화제, 전도성 염으로서 황산칼륨 및 황산암모늄, pH 완충제, 황함유 유기 화합물을 함유하는 3 가 크롬 도금액으로서,
착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염을 사용하고,
황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물을 조합하여 사용하는 것이다.
본 발명 도금액에 사용되는 3 가 크롬 화합물은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 염기성 황산크롬, 황산크롬, 염화크롬, 술팜산크롬, 아세트산크롬이고, 바람직하게는 염기성 황산크롬, 황산크롬이다. 이들 3 가 크롬 화합물은 1 종 또는 2 종 이상을 조합해도 된다. 본 발명 도금액에 있어서의 3 가 크롬 화합물의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 금속 크롬으로서 1 ∼ 25 g/ℓ 이며, 바람직하게는 5 ∼ 15 g/ℓ 이다.
본 발명 도금액에 사용되는 착화제는, 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염이다. 이 착화제로서는, 예를 들어 타르타르산 등의 카르복실산, 타르타르산디암모늄, 로셸염, 타르타르산나트륨 등의 상기 카르복실산의 염이다. 이들 착화제는 1 종 또는 2 종 이상을 조합해도 된다. 본 발명 도금액에 있어서의 카르복실산 또는 그 염의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 5 ∼ 90 g/ℓ 이며, 바람직하게는 10 ∼ 60 g/ℓ 이다. 또, 본 발명에 있어서는, 카르복시기 중의 하이드록시기는, 하이드록시기로 꼽지 않는다.
본 발명 도금액에 사용되는 전도성 염은, 황산칼륨 및 황산암모늄이다. 본 발명 도금액에 있어서의 황산칼륨 및 황산암모늄의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 총량으로 100 ∼ 300 g/ℓ 이며, 바람직하게는 120 ∼ 240 g/ℓ 이다. 또한, 황산칼륨 및 황산암모늄의 질량비 (황산칼륨/황산암모늄) 는 0.5 ∼ 60 이며, 바람직하게는 1.0 ∼ 30 이다. 황산칼륨/황산암모늄의 질량비가 상기 범위 내이면 양호한 피복력을 나타내고, 복잡한 형상의 피도금물에 대해서도 저전류 밀도부까지 크롬 도금 피막을 형성할 수 있게 된다.
본 발명 도금액에 사용되는 pH 완충제는, 특별히 한정되지 않지만, 붕산, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 인산, 인산수소이칼륨 등이고, 바람직하게는 붕산, 붕산나트륨이다. 이들 pH 완충제는 1 종 또는 2 종 이상을 조합해도 된다. 본 발명 도금액에 있어서의 pH 완충제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 30 ∼ 150 g/ℓ 이며, 바람직하게는 50 ∼ 110 g/ℓ 이다.
본 발명 도금액에 사용되는 황함유 유기 화합물은, 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물을 조합하여 사용하는 것이다. 사카린 또는 그 염으로는, 예를 들어 사카린, 사카린산나트륨 등을 들 수 있다. 또한, 알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물로는, 예를 들어 알릴술폰산나트륨, 알릴티오우레아, 2-메틸알릴술폰산암모늄, 알릴이소티아시아네이트 등을 들 수 있다. 이들 알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물은 1 종 또는 2 종 이상을 조합해도 되고, 알릴술폰산나트륨 및/또는 알릴티오우레아가 바람직하다. 이들 황함유 유기 화합물의 바람직한 조합은 사카린산나트륨과 알릴술폰산나트륨이다. 본 발명 도금액에 있어서의 황함유 유기 화합물의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 0.5 ∼ 10 g/ℓ 이며, 바람직하게는 2 ∼ 8 g/ℓ 이다.
본 발명 도금액에는, 추가로 아스코르브산, 아스코르브산나트륨, 과산화수소, 폴리에틸렌글리콜 등을 함유시켜도 된다.
본 발명 도금액의 pH 는 산성이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 2 ∼ 4.5 가 바람직하고, 2.5 ∼ 4.0 이 보다 바람직하다.
본 발명 도금액의 조제법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 40 ∼ 50 ℃ 의 물에 3 가 크롬 화합물, 착화제, 전도성 염, pH 완충제를 첨가, 혼합하고, 용해시킨 후에 황함유 유기 화합물을 첨가, 혼합하고, 마지막에 황산, 암모니아수 등으로 pH 를 조정함으로써 조제할 수 있다.
본 발명 도금액은, 종래의 크롬 도금액과 마찬가지로, 피도금물을 본 발명 도금액으로 전기 도금함으로써 피도금물에 크롬 도금을 할 수 있다.
전기 도금의 조건은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 욕온이 30 ∼ 60 ℃, 애노드가 카본 혹은 산화이리듐, 음극 전류 밀도가 2 ∼ 20 A/d㎡ 이고, 1 ∼ 15 분간 전기 도금을 실시하면 된다.
전기 도금할 수 있는 피도금물로는, 예를 들어 철, 스테인리스, 진유 등의 금속, ABS, PC/ABS 등의 수지를 들 수 있다. 또, 이 피도금 부재는 본 발명의 도금액으로 처리하기 전에 미리 구리 도금, 니켈 도금 등의 처리를 해 두어도 된다.
이렇게 해서 얻어지는 크롬 도금 제품은, 6 가의 크롬을 사용한 것과 동일한 정도의 외관, 균일 전착성, 석출 속도를 갖는 크롬 도금 제품이 된다.
다음으로, 본 발명 도금액의 다른 형태로서 도금의 석출 속도가 빠르고, 색조와 내식성이 양호하며, 실용적인 것이 되는 3 가 크롬 도금액을 설명한다.
상기한 본 발명 도금액의 착화제로서 상기한 것에 더하여, 추가로 카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염을 조합하여 사용한다. 카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염으로는, 예를 들어 아디프산, 프탈산, 피멜산, 세바크산 등의 카르복실산, 상기 카르복실산의 염 등을 들 수 있다. 착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염과 카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염을 조합하여 사용하는 경우에는, 이들 2 종류의 착화제는 각각의 1 종 또는 2 종 이상을 조합해도 된다. 또한, 착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염과 카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염을 조합하여 사용하는 경우에는, 본 발명 도금액에 있어서의 착화제의 함유량 합계는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 모든 착화제의 합계로 5 ∼ 90 g/ℓ 이며, 바람직하게는 10 ∼ 60 g/ℓ 이다.
또한, 상기한 본 발명 도금액의 황함유 유기 화합물로서 상기한 것에 더하여, 추가로 비닐기를 갖는 술폰산 또는 그 염을 조합하여 사용한다. 비닐기를 갖는 술폰산 또는 그 염으로는, 예를 들어 비닐술폰산나트륨, 메틸비닐술폰산, 폴리비닐술폰산 등을 들 수 있다. 황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 술폰산 또는 그 염과, 비닐기를 갖는 술폰산 또는 그 염을 조합하여 사용하는 경우에는, 이들 3 종의 황함유 유기 화합물은 각각의 1 종 또는 2 종 이상을 조합해도 된다. 본 발명 도금액에 있어서의 황함유 유기 화합물의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 모든 황함유 유기 화합물의 합계로 0.5 ∼ 10 g/ℓ 이며, 바람직하게는 2 ∼ 8 g/ℓ 이다.
상기와 같은 착화제와 황함유 유기 화합물을 사용한 본 발명 도금액은, 상기한 조제법으로 조제할 수 있다. 또한, 상기한 방법으로 피도금물에 크롬 도금을 할 수 있다.
이렇게 해서 얻어지는 크롬 도금 제품은, 6 가의 크롬을 사용한 것과 동일한 정도의 색조가 얻어지고, 또한, 내식성도 높고, 실용성이 높은 크롬 도금이 된다. 그래서, 이 크롬 도금 제품은 내식성이 필요한, 차, 오토바이, 수전 금구 등의 부품으로 하기에 바람직하다.
또, 통상적인 3 가 크롬 도금액에는, 저전류 밀도에 대한 균일 전착성을 향상시키기 위해서, 철이나 코발트를 함유시키지만, 상기한 본 발명 도금액은, 철 및/또는 코발트를 함유시키지 않아도 균일 전착성이 향상된다. 또한, 철이나 코발트를 함유하는 도금액의 경우, 도금 피막 중에 철이나 코발트의 공석 (共析) 에 의해 내식성이 저하된다는 경향이 있다. 그래서, 본 발명 도금액에는 철 및/또는 코발트를 실질적으로 함유시키지 않는 것이 바람직하다. 본 발명 도금액이 철 및/또는 코발트를 실질적으로 함유하지 않는다는 것은, 철 및/또는 코발트가 2 ppm 이하, 바람직하게는 1 ppm 이하, 보다 바람직하게는 0.5 ppm 이하인 것을 말한다. 이 철 및/또는 코발트의 양은 ICP-MS 법이나 원자 흡광도법 등으로 분석할 수 있다.
또한, 본 발명 도금액이 철 및/또는 코발트를 실질적으로 함유하지 않는 경우에는, 얻어지는 크롬 도금 제품도 철 및/또는 코발트를 실질적으로 함유하지 않는다. 본 발명의 크롬 도금 제품이 철 및/또는 코발트를 실질적으로 함유하지 않는다는 것은, 크롬 도금 중에 철 및/또는 코발트가 0.5 at% 미만, 바람직하게는 0.4 at% 이하인 것을 말한다. 이 철 및/또는 코발트의 양은 EDS 나 XPS 등으로 분석할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
크롬 도금 :
표 1 에 기재된 성분을 물에 용해시켜, 3 가 크롬 도금액을 조제하였다. 이 3 가 크롬 도금액에 대해서, 니켈 도금을 실시한 진유판을 사용하여 헐 셀 시험을 실시하였다. 헐 셀 시험의 조건은 전류 4 A, 도금 시간 3 분이다. 도금 후, 진유판의 좌측 단 (端) 에서부터 도금 피막이 석출되어 있는 거리를 도 1 과 같이 측정하고, 이것을 균일 전착성으로 하였다. 또한, 진유판의 전류 밀도 8 ASD 에 해당되는 지점의 막두께를 형광 X 선으로 측정하였다. 또한, 도금 후의 외관은 색채 색차계 (코니카 미놀타사 제조) 를 사용하여 L 값, a 값, b 값에 의해 평가하였다. 그 결과도 표 1 에 나타냈다.
이 결과로부터 3 가 크롬 도금액에 있어서, 착화제로서 타르타르산디암모늄 (하이드록시기를 2 개, 카르복시기를 2 개) 을 사용하고, 황함유 유기 화합물로서 사카린산나트륨과 알릴술폰산나트륨이나 알릴티오우레아 (알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물) 를 조합하여 사용함으로써 (조성 1, 4, 5), 외관은 6 가 크롬 도금과 동일 정도이고, 막두께 (석출 속도) 는 그것을 사용하지 않는 경우와 비교하여 2 배 정도가 되는 것을 알 수 있었다.
또, 상기한 3 가 크롬 도금액 중의 철 및 코발트를 ICP-MS 법으로 측정한 결과, 각각 0.5 ppm 미만이었다. 또한, 얻어진 크롬 도금 중의 철 및 코발트를 EDS 에 의한 원소 분석으로 측정한 결과, 각각 0.4 at% 미만이었다.
실시예 2
크롬 도금 :
표 2 에 기재된 성분을 물에 용해시켜, 3 가 크롬 도금액을 조제하였다. 이 3 가 크롬 도금액에 대해서, 니켈 도금을 실시한 진유판을 사용하여 헐 셀 시험을 실시하였다. 헐 셀 시험의 조건은 전류 4 A, 도금 시간 3 분이다. 도금 후, 진유판의 좌측 단에서부터 도금 피막이 석출되어 있는 거리를 측정하였다. 그 결과도 표 2 에 나타냈다. 또한, 균일 전착성과 황산칼륨/황산암모늄의 관계를 도 2 에 나타냈다.
상기 3 가 크롬 도금액으로 도금을 한 경우, 외관이나 막두께는 모든 조성에서 거의 동일했지만, 균일 전착성에 대해서는 황산칼륨/황산암모늄이 커질수록 균일 전착성이 양호해지고, 1.0 ∼ 30 에서는 균일 전착성이 특히 양호함을 알 수 있었다.
또, 상기한 3 가 크롬 도금액 중의 철 및 코발트를 ICP-MS 법으로 측정한 결과, 각각 0.5 ppm 미만이었다. 또한, 얻어진 크롬 도금 중의 철 및 코발트를 EDS 에 의한 원소 분석으로 측정한 결과, 각각 0.4 at% 미만이었다.
실시예 3
크롬 도금 :
표 3 에 기재된 성분을 물에 용해시켜, 3 가 크롬 도금액을 조제하였다. 이 3 가 크롬 도금액에 대해서, 니켈 도금을 실시한 진유판을 사용하여 헐 셀 시험을 실시하였다. 헐 셀 시험의 조건은 전류 4 A, 도금 시간 3 분이다. 도금 후, 진유판의 좌측 단에서부터 도금 피막이 석출되어 있는 거리를 도 1 과 같이 측정하고, 이것을 균일 전착성으로 하였다. 또한, 진유판의 전류 밀도 8 ASD 에 해당되는 지점의 막두께를 형광 X 선으로 측정하였다. 또한, 도금 후의 외관은 색채 색차계 (코니카 미놀타사 제조) 를 사용하여 L 값, a 값, b 값에 의해 평가하였다. 그 결과도 표 3 에 나타냈다.
이 결과로부터 3 가 크롬 도금액에 있어서, 착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염과, 카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염을 조합하여 사용하고, 황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 술폰산 또는 그 염과, 비닐기를 갖는 술폰산 또는 그 염을 조합하여 사용함으로써, 외관은 6 가 크롬 도금과 동일 정도가 되는 것을 알 수 있었다.
또, 상기한 3 가 크롬 도금액 중의 철 및 코발트를 ICP-MS 법으로 측정한 결과, 각각 0.5 ppm 미만이었다. 또한, 얻어진 크롬 도금 중의 철 및 코발트를 EDS 에 의한 원소 분석으로 측정한 결과, 각각 0.4 at% 미만이었다.
실시예 4
CASS 시험 :
표 3 에 기재된 조성 16, 18, 20, 21 의 조성인 3 가 크롬 도금액을 조제하였다. 이 3 가 크롬 도금액으로 니켈 도금 (2 ㎛) 을 실시한 구리판에, 욕온 45 ℃, 전류 밀도 8 A/d㎡, 3 분이라는 조건에서 크롬 도금을 실시하여, 시험편을 얻었다. 이 시험편에 대해서 CASS 시험 (JIS H 8502) 을 실시하였다. CASS 시험 24 시간 후의 시험편의 현미경 사진을 도 3 에 나타냈다.
CASS 시험의 결과, 3 가 크롬 도금액에 있어서, 착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염과, 카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염을 조합하여 사용하고, 황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 술폰산 또는 그 염과, 비닐기를 갖는 술폰산 또는 그 염을 조합하여 사용함으로써 부식 구멍이 작게 분산됨으로써 내식성이 향상되는 것을 알 수 있었다.
산업상 이용가능성
본 발명의 3 가 크롬 도금액은, 6 가의 크롬을 사용한 도금과 마찬가지로 각종 용도에 사용할 수 있다.
Claims (11)
- 3 가 크롬 화합물, 착화제, 전도성 염으로서 황산칼륨 및 황산암모늄, pH 완충제, 황함유 유기 화합물을 함유하는 3 가 크롬 도금액으로서,
착화제로서 하이드록시기를 2 개 이상, 카르복시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염을 사용하고,
황함유 유기 화합물로서 사카린 또는 그 염과, 알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물을 조합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 3 가 크롬 도금액. - 제 1 항에 있어서,
하이드록시기를 2 개 이상 갖는 카르복실산 또는 그 염이 타르타르산디암모늄인 3 가 크롬 도금액. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
황산칼륨 및 황산암모늄의 질량비 (황산칼륨/황산암모늄) 가 1.0 ∼ 30 인 3 가 크롬 도금액. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
알릴기를 갖는 황함유 유기 화합물이 알릴술폰산나트륨 및/또는 알릴티오우레아인 3 가 크롬 도금액. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
착화제로서 추가로 카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염을 사용하고, 황함유 유기 화합물로서 추가로 비닐기를 갖는 술폰산 또는 그 염을 사용하는 것인 3 가 크롬 도금액. - 제 5 항에 있어서,
카르복시기를 2 개 이상 가지며, 탄소수가 4 이상인 카르복실산 또는 그 염이, 프탈산 또는 아디프산인 3 가 크롬 도금액. - 제 5 항에 있어서,
비닐기를 갖는 술폰산 또는 그 염이 비닐술폰산나트륨인 3 가 크롬 도금액. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
철 및/또는 코발트를 실질적으로 함유하지 않는 것인 3 가 크롬 도금액. - 피도금물을, 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 3 가 크롬 도금액으로 전기 도금하는 것을 특징으로 하는 피도금물에 대한 크롬 도금 방법.
- 피도금물을, 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 3 가 크롬 도금액으로 전기 도금하여 얻어지는 크롬 도금 제품.
- 제 10 항에 있어서,
크롬 도금이 철 및/또는 코발트를 실질적으로 함유하지 않는 것인 크롬 도금 제품.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2017-238232 | 2017-12-13 | ||
| JP2017238232 | 2017-12-13 | ||
| JP2018083550 | 2018-04-25 | ||
| JPJP-P-2018-083550 | 2018-04-25 | ||
| PCT/JP2018/045593 WO2019117178A1 (ja) | 2017-12-13 | 2018-12-12 | 3価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200096239A true KR20200096239A (ko) | 2020-08-11 |
Family
ID=66819347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020207017354A Withdrawn KR20200096239A (ko) | 2017-12-13 | 2018-12-12 | 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 크롬 도금 방법 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210172081A1 (ko) |
| EP (1) | EP3725920A4 (ko) |
| JP (1) | JP6951465B2 (ko) |
| KR (1) | KR20200096239A (ko) |
| CN (1) | CN111465719A (ko) |
| WO (1) | WO2019117178A1 (ko) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP3859053A1 (en) | 2020-01-31 | 2021-08-04 | COVENTYA S.p.A. | Sulfate based, ammonium free trivalent chromium decorative plating process |
| KR102871307B1 (ko) * | 2019-10-31 | 2025-10-14 | 코벤티아 에스.알. 엘. | 설페이트계 암모늄 무함유 3가 크롬 장식 도금 공정 |
| JP7811093B2 (ja) * | 2021-07-28 | 2026-02-04 | 株式会社Jcu | 白色3価クロムめっき浴およびこれを利用した被めっき物への白色3価クロムめっき方法 |
| CN114875459A (zh) * | 2022-05-10 | 2022-08-09 | 成立航空股份有限公司 | 一种三价铬镀液及黑铬镀层 |
| CN116695194B (zh) * | 2023-05-25 | 2024-06-25 | 舒城燎原表面处理有限公司 | 一种用于镀铬的生产工艺 |
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-
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- 2018-12-12 KR KR1020207017354A patent/KR20200096239A/ko not_active Withdrawn
- 2018-12-12 US US16/770,357 patent/US20210172081A1/en not_active Abandoned
- 2018-12-12 EP EP18889584.1A patent/EP3725920A4/en not_active Withdrawn
- 2018-12-12 CN CN201880080570.2A patent/CN111465719A/zh active Pending
- 2018-12-12 WO PCT/JP2018/045593 patent/WO2019117178A1/ja not_active Ceased
- 2018-12-12 JP JP2019559679A patent/JP6951465B2/ja active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5696134B2 (ja) | 2009-03-24 | 2015-04-08 | マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド | 塩化カルシウム環境における耐食性が強化されたクロム合金コーティング |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20210172081A1 (en) | 2021-06-10 |
| EP3725920A4 (en) | 2021-04-21 |
| JPWO2019117178A1 (ja) | 2020-12-17 |
| CN111465719A (zh) | 2020-07-28 |
| EP3725920A1 (en) | 2020-10-21 |
| JP6951465B2 (ja) | 2021-10-20 |
| WO2019117178A1 (ja) | 2019-06-20 |
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Patent event date: 20200616 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
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