KR20220130102A

KR20220130102A - 분사 유닛

Info

Publication number: KR20220130102A
Application number: KR1020227021746A
Authority: KR
Inventors: 말콤 페어스; 요시타카 사토; 앤드류 찰스 채플
Original assignee: 바이엘 악티엔게젤샤프트
Priority date: 2020-02-05
Filing date: 2021-01-21
Publication date: 2022-09-26
Also published as: TW202146118A; CN114786819A; WO2021156061A1; JP2023512704A; AR122375A1; BR112022015323A2; AU2021217430A1; EP4100169A1; US12611690B2; CA3169852A1; US20230081762A1; PY2108302A; JP7746274B2

Abstract

본 발명은 액슬 (20), 분무 디스크 (30), 분사 방향 수정 어셈블리 (40), 및 액체 도포기 (50) 를 갖는 분사 유닛 (10) 에 관한 것이다. 분무 디스크는 디스크의 중심에 중심을 둔 액슬을 중심으로 회전하도록 구성된다. 액체 도포기는 분무 디스크의 표면에 액체를 도포하도록 구성된다. 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 인접해 있다. 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 하나의 공기 채널 (41) 을 포함한다. 적어도 하나의 공기 채널은 분무 디스크의 외부 에지를 떠나는 액적의 후속 궤적을 수정하기 위해 분무 디스크에 근접하여 공기를 제공하도록 구성된다.

Description

분사 유닛

본 발명은 분사 유닛 및 이러한 분사 유닛을 갖는 비히클에 관한 것이다.

작물에 대한 작물 보호 제품의 적용은 통상적으로 분무 장치가 일반적으로 유압 분사 노즐, 회전 디스크 또는 케이지, 또는 공기-시어 (air-shear) 장치인 분사 적용에 의해 달성된다. 분무 장치의 특성은, 특히 생성된 액적 크기와 관련하여, 작물 보호 제품을 작물 엽 (crop foliage) 에 효과적으로 적용하기 위해 매우 중요하다. 드롭 크기의 범위는 드롭 스펙트럼이라고 한다. 보다 미세한 분무는 더 많은 수의 작은 액적들을 초래하고, 이는 단위면적당 디포짓의 수 뿐만 아니라 디포짓 아래의 증가된 면적의 관점에서 더 큰 커버리지를 부여하며, 이 둘 모두는 생물학적 효능에 대해 선호되는 반면, 보다 거친 분무는 단위면적당 더 적은 디포짓으로 상대적으로 더 적은 수의 더 큰 액적들을 초래한다. 그러나, 더 작은 액적들은 더 부유되기 쉬워서 원하지 않는 표적외 손실 (off-target loss) 을 초래하고, 일반적으로 캐노피 내로 더 불량한 침투성을 가지며, 이들 두 효과 모두 더 크고, 더 높은 모멘텀 액적들을 사용함으로써, 그러나 처리되는 캐노피 내에 디포짓을 생성하기 위한 기회들의 수를 감소시키는 비용으로 감소될 수 있다. 그러나, 제품의 분사 적용 동안, 크롭 필드의 상이한 부분들은 부유 완화를 위한 상이한 요건들을 갖는다: 예를 들어, 다운윈드 측의 크롭 필드의 에지들은 필드의 중심 또는 업윈드 측의 필드의 에지들보다 적용 영역 바깥에서 목표외 드리프트의 더 큰 위험을 갖는다. 또 다른 사용의 경우에는, 종류나 크기가 다른 잡초들은 상이한 액적 크기들을 필요로 하거나, 상이한 농약 활성 성분들은 액적 크기에 따라 상이하게 표현되는 효능을 갖는다. 이에 따라, 표적외 드리프트 위엄과 생물학적 성능을 위해 요구되는 단위 면적당 액적 개수 간의 최적 균형에 따른 적용시에 액적 크기를 연속적으로 조절할 수 있는 장점이 있다. 또한, 특히 바람은 일정하지 않고 시공간적으로 모든 3차원에서 변하기 때문에 드리프트에 미치는 바람의 효과도 중요하며, 그 결과 단위면적당 액적의 수와 표적외 드리프트 간의 최적 균형이 지속적으로 변화되고 있다. 따라서, 이러한 액적 스펙트럼 변화의 생물학적 결과를 유념하여, 목표 필드에서의 분사 장치의 위치, 현재의 풍속 및 방향에 따라 액적 크기를 연속적으로 조절할 수 있는 분사 장치가 필요하다. 예를 들어, 돌풍 조건에서, 드리프트를 조절하기 위해 필드 에지에 꽤 큰 액적이 필요할 수 있지만, 이는 활성 성분의 효능을 감소시킬 수 있고, 따라서 그 지점에서 더 많은 양의 농약 활성 성분이 요구된다. 이러한 충돌하는 요건들의 균형을 맞추는 것은 유압 분사 노즐로는 달성하기가 어려운데, 왜냐하면 노즐이 상이한 압력으로 작동되거나 상이한 오리피스 크기로 변경되어야 상이한 분사 액적 스펙트럼들을 달성할 수 있기 때문이며, 이들 모두는 가능하게 하는데 시간이 걸린다. 그러나, 회전하는 디스크에 의해, 액적 스펙트럼은 서로 독립적으로 디스크에 대한 회전 속도와 유량을 변경함으로써 거의 순간적으로 조정될 수 있다. 그러나, 예를 들어 무인 항공기 (Unmanned Aerial Vehicle, UAV) 에서 스피닝 디스크의 회전 속도를 감소시키는 것은 두 가지 결과를 갖는다: 첫째, 요구되는 바와 같이, 분무후 액적 크기를 증가시키고; 둘째, 디스크를 떠나는 액적의 속도를 감소시키며, 그 결과, 특히 UAV 또는 공기-보조 붐 분사기 내의 회전자로부터의 다운워시시에, 분사 콘의 폭이 감소되고, 그 결과 분사 스와스 (spray swath) 의 폭이 감소되고, 다수의 분사 스와스에 의해 생성되는 임의의 중첩이 더 가변적이다. 이는 원치않는 것인데, 왜냐하면 동일한 영역을 처리하기 위한 작업율의 증가와 인접한 스와스들 사이의 처리되지 않은 영역의 위험뿐만 아니라 과다투여 및 과소투여의 위험을 초래하기 때문이다. 두 번째로, 예를 들어, UAV, 예를 들어, 분사 중에서의 UAV 의 가속/감속 동안 그리고 또한 분사액이 적용됨에 따라 UAV 의 질량의 감소 동안 로터의 회전 속도는 다운워시의 양 및 속도 및 분사 스와스의 후속 폭에 영향을 미친다. 따라서, 적용되는 분사 스와스의 폭 및 분사 콘의 폭에 영향을 주지 않으면서, 목표 필드에서의 분사 장치의 위치, 현재의 풍속 및 방향, 및 UAV 로터로부터의 다운워시 및/또는 UAV 의 비행 높이에 따라 그 액적 스펙트럼을 연속적으로 조절할 수 있는 분사 장치가 필요하다.

화학 및/또는 생물학적 농약 활성 성분을 포함하는 것과 같은 액체를 분사하기 위한 개선된 수단을 갖는 것이 유리할 것이다.

본 발명의 목적은 독립항들의 청구물로 해결되며, 여기서, 추가의 실시형태들은 종속항들에 통합된다. 하기의 설명된 양태들 및 본 발명의 예들은 또한 분사 유닛에 적용되고 비히클이 하나 이상의 분사 유닛을 갖는다는 것을 유의해야 한다.

제 1 양태에서, 분사 유닛이 제공된다. 분사 유닛은, 액슬, 분무 디스크, 분사 방향 수정 어셈블리, 및 액체 도포기를 포함한다. 분무 디스크는 분무 디스크의 중심에 중심을 둔 액슬을 중심으로 회전하도록 구성된다. 액체 도포기는 분무 디스크의 표면에 액체를 도포하도록 구성된다. 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 근접해 있다. 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 하나의 공기 채널을 포함한다. 적어도 하나의 공기 채널은 분무 디스크의 외부 에지를 떠나는 액적의 후속 궤적을 수정하기 위해 분무 디스크에 근접하여 공기를 제공하도록 구성된다.

즉, 공기 채널들을 갖는 분사 방향 수정 어셈블리를 포함하는 분무 디스크를 갖는 분무 유닛. 공기는 공기 채널을 통해 분무 디스크의 외부 에지를 떠난 액적의 방향을 향해 흐르고 이러한 액적의 분사 방향을 수정하며 따라서 분사 스와스 폭에 영향을 미친다. 이와 별도로, 분무 디스크 회전의 회전 속도의 변화는 액적 크기를 변화시킨다. 이에 따라, 넓은 범위의 분사 액적 크기에 걸쳐 일정하고 균일한 스와스 폭을 구현할 수 있도록, 분사 스와스 폭과 액적 크기를 독립적으로 변경할 수 있다. 일 예로서, 두 경우 모두에서 분무 디스크 회전 및 액체 유동, 및 따라서 분무 디스크 상에서의 분무 동안 달성되는 액적 크기가 동일하다면, 저부피 공기 스트림은 더 좁은 폭을 갖는 스와스를 생성하는 한편, 고부피 공기 스트림은 더 넓은 폭을 갖는 스와스를 생성할 것이다.

이와 같이, 토지의 단위 면적당 식물당 유효 성분의 정확한 적용이 제공될 수 있다.

예를 들어, 분사 방향 수정 어셈블리는 디스크형 형태를 갖는다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 반경 방향 범위가 축방향 범위보다 큰 실질적으로 평평한 기하학적 설계를 갖는 디스크형 형태를 갖는다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 대해 평행하게 실질적으로 대칭으로 위치한다.

이에 따라, 분사 방향 수정 어셈블리의 형상 및 크기가 분무 디스크와 유사할 수 있다. 그러나, 분사 방향 수정 어셈블리는 분명히 분무 디스크와는 상이한 기술적 기능을 재개한다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 부분적으로 이중 벽이고, 두 벽들 사이의 공간은 적어도 하나의 공기 채널을 형성하도록 구성된다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 실질적으로 방사상으로 배치된 복수의 공기 채널들을 포함한다.

이러한 방식으로, 분사 방향 수정 어셈블리가 균일하고 제어된 방식으로 액적의 궤적에 직접 영향을 미친다. 더 높은 속도의 공기 흐름은 더 넓은 분사 스와스를 초래하는 한편, 더 낮은 속도의 공기 흐름은 더 좁은 분사 스와스를 초래할 것이다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널은 분무 디스크의 표면에 대해 실질적으로 평행한 방향으로 공기를 제공하도록 구성된다.

예를 들어, 분사 방향 수정 어셈블리는 비회전형이다.

즉, 분사 방향 수정 어셈블리는 액슬 또는 제 2 액슬을 중심으로 회전하지 않고 분사 유닛의 또 다른 부분 내에 부착 또는 수납된다.

제 2 양태에 있어서, 제 1 양태에 따른 적어도 하나의 분사 유닛을 포함하는 분사 비히클이 제공된다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널은 고물-이물 (aft-fore) 방향 및 이물-고물 (fore-aft) 방향에서 보다도 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 더 많은 공기를 제공하도록 구성된다.

즉, 분사 방향 수정 어셈블리로부터의 공기 흐름은, 예를 들어 UAV 와 같은 분사 차량이 더 높거나 더 정확한 작업 속도를 달성할 수 있다는 이점을 갖고서, (비히클의 이동 방향에 대해 수직 방향으로) 더 넓고 더 균일한 분사 스와스가 달성되도록 제어된다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 하나의 공기 채널 및 복수의 공기 채널 개구들을 갖고, 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 공간적으로 정렬되는 모든 공기 채널 개구들의 단면적은 고물-이물 방향 및 이물-고물 방향에서 공간적으로 정렬되는 모든 공기 채널 개구들의 단면적보다 더 크다.

이와 같이, 더 많은 공기 부피가 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 수직인 방향을 향하며 (공기 속도가 모든 공기 채널들에 대해 동일하다면), 분사 비히클의 이동 동안 팬 형상을 갖는 분사 시트를 지지한다.

일 예에서, 분사 차량은 복수의 공기 채널을 갖는 분사 방향 수정 어셈블리를 포함한다. 분사 차량의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 공간적으로 정렬된 공기 채널들을 통한 공기 흐름은 고물-이물 방향과 이물-고물 방향으로 공간적으로 정렬된 공기 채널들을 통한 공기 흐름보다 더 높다.

일 예에서, 분사 차량은 액체 탱크, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터, 복수의 센서들, 처리 유닛을 더 포함한다.

액체 탱크는 액체를 보유하도록 구성된다. 적어도 하나의 분사 유닛은 액체를 분사하도록 구성된다. 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터는 적어도 하나의 분사 유닛의 분사 방향 수정 어셈블리를 동작 및/또는 이동시키도록 구성된다. 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서는 분무 디스크의 중심에 중심을 둔 액슬을 중심으로 하는 분무 디스크의 회전 속도를 측정하도록 구성된다. 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서는 분무 디스크의 표면으로의 액체 도포기의 액체 유량을 측정하도록 구성된다. 처리 유닛은 분무 디스크의 측정된 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 측정된 액체 유량, 및 액체의 물리화학적 성질의 이용을 포함하여 분무 디스크 상에서의 분무 후에 분무 디스크의 에지를 떠나는 액적의 액적 크기를 결정하도록 구성된다. 처리 유닛은 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령을 결정하는 것은 결정된 액적 크기를 이용하는 것을 포함한다.

즉, 분사 콘의 폭과 적용된 분사 스와스의 폭은 비록 액적 크기가, 예를 들어, 목표 필드에서의 분사 장치의 위치, 현재 풍속 및 풍향, 및/또는 예를 들어 UAV 로터로부터의 다운워시 및/또는 UAV 의 비행 높이로 인해 연속적으로 적응되더라도, 일정하게 유지될 수 있다.

일 예에서, 처리 유닛은 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 통한 공기 흐름을 수정하기 위해 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령을 결정하는 것은 결정된 액적 크기를 이용하는 것을 포함한다.

즉, 공기 채널을 통한 공기 흐름을 제어하는 것은, 공기 커튼을 수정하고 따라서 분무 디스크를 떠나는 액적의 후속 궤적에 영향을 미치는 한 가지 방식이다.

일 예에서, 처리 유닛은 분무 디스크에 대해 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 이동시키기 위해 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령을 결정하는 것은 결정된 액적 크기를 이용하는 것을 포함한다.

즉, 분무 디스크에 대해 분사 방향 수정 어셈블리의 공기 채널의 공간 거리를 변화시키는 것은, 공기 커튼을 수정하고 따라서 분무 디스크를 떠나는 액적의 후속 궤적에 영향을 미치는 또 다른 방식이다.

일 예에서, 분사 차량은 액체 탱크, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터, 복수의 센서들, 처리 유닛을 더 포함한다. 액체 탱크는 액체를 보유하도록 구성된다. 적어도 하나의 분사 유닛은 액체를 분사하도록 구성된다. 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터는 적어도 하나의 분사 유닛의 분사 방향 수정 어셈블리를 동작 및/또는 이동시키도록 구성된다. 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서는 지면에 대한 분사 비히클의 속도를 측정하도록 구성된다. 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서는, 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향을 측정하도록 구성된다. 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서는 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도를 측정하도록 구성된다. 처리 유닛은 지면으로의 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 공기 이동 방향을 결정하고 지면에 대한 공기 이동 속도를 결정하도록 구성되며, 결정은 분사 비히클의 속도, 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향 및 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도의 이용을 포함한다. 처리 유닛은 분무 디스크의 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 액체 유량 및/또는 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되며, 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 지면으로의 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 결정된 공기 이동 방향 및 지면에 대한 결정된 공기 이동 속도의 이용을 포함한다.

즉, 풍향 및 풍속이 연속적으로 측정되고, 분사 비히클의 분사 유닛(들)에 의해 분사되는 액적 크기 및/또는 분사 방향 수정 어셈블리(들)의 대응하는 공기 흐름을 제어하는데 사용된다. 그러므로, 최적의 분사 패턴 (바람 조건에 독립적임) 을 구현할 수 있다.

일 예에서, 분사 비히클은 지면 위의 분사 비히클의 높이를 결정할 수 있게 하는 데이터를 제공하도록 구성된 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서를 포함한다. 처리 유닛은 분무 디스크의 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 액체 유량 및/또는 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성된다. 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은, 지면에 대한 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 결정된 공기 이동 방향, 지면에 대한 결정된 공기 이동 속도 및 지면 위의 분사 비히클의 결정된 높이의 이용을 포함한다.

따라서, 지면 위의 분사 비히클의 높이를 고려하여 분사 비히클의 액적 크기 및 분사 패턴을 결정하게 된다.

유리하게는, 임의의 상기 양태들에 의해 제공되는 이점들은 모든 다른 양태들에 동일하게 적용되며 그 역도 성립한다.

상기 양태들 및 예들은, 이하에서 설명되는 실시형태들로부터 명백하게 되고 그 실시형태들을 참조하여 설명될 것이다.

예시적인 실시형태들이 다음의 도면들을 참조하여 다음에서 설명될 것이다:
도 1a 는 새롭게 개발된 분사 유닛의 일 예의 개략적인 설정을 나타낸다.
도 1b 는 콘 형상의 분무 디스크를 갖는 도 1a 에 따른 분사 유닛의 예를 나타낸다.
도 2a 는 측면도 관점으로부터 하나의 공기 채널을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리의 일 예의 개략적인 설정을 나타낸다.
도 2b 는 측면도 관점으로부터 다수의 공기 채널 개구들을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리의 일 예의 개략적인 설정을 나타낸다.
도 3a 는 평면도 관점으로부터 다수의 공기 채널들 및 대응하는 공기 채널 개구들을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리의 일 예의 개략적인 설정을 나타낸다.
도 3b 는 평면도 관점으로부터 다수의 공기 채널들 및 공기 채널 개구들을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리의 다른 예의 개략적인 설정을 나타낸다.
도 4 는 분사 방향 수정 어셈블리를 구비하거나 구비하지 않는 분사 유닛으로부터의 분사 스와스의 비교를 나타낸다.
도 5 는 분사 유닛을 구비한 분사 비히클의 개략적인 예를 나타낸다.
도 6 은 분사 유닛을 갖는 분사 비히클 및 분사 방향 수정 어셈블리를 통한 공기 흐름의 제어의 개략적인 예를 나타낸다.
도 7 은 상이한 분사 유닛들 및 그들의 대응하는 분사 스와스를 갖는 분사 차량의 개략적인 예를 나타낸다.
도 8 은 상이한 액적 크기들을 생성하는 기능으로서 분사 유닛을 갖는 분사 비히클 및 분사 방향 수정 어셈블리를 통한 공기 흐름의 제어의 개략적인 예를 나타낸다.
도 9 는 분무 디스크에 대해 상이한 위치들에 위치하는 분사 방향 수정 어셈블리 및 분사 유닛을 갖는 분사 비히클의 개략적인 예를 나타낸다.

도 1a 는 분사 유닛 (10) 의 일 예를 나타낸다. 분사 유닛은, 액슬 (20), 분무 디스크 (30), 분사 방향 수정 어셈블리 (40), 및 액체 도포기 (50) 를 포함한다. 분무 디스크는 분무 디스크의 중심에 중심을 둔 액슬을 중심으로 회전하도록 구성된다. 액체 도포기는 분무 디스크의 표면에 액체를 도포하도록 구성된다. 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 근접해 있다. 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 하나의 공기 채널 (41) 을 포함한다. 적어도 하나의 공기 채널은 분무 디스크의 외부 에지를 떠나는 액적의 후속 궤적을 수정하기 위해 분무 디스크에 근접하여 공기를 제공하도록 구성된다.

이러한 방식으로, 분사 유닛의 분사 방향 수정 어셈블리는 분사 스와스 폭에 영향을 미친다. 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 근접하여 위치하며, 분무 디스크로부터의 분무된 액적을 공기 스트림의 생성을 통해 원하는 방향으로 지향시킨다. 그 결과, 토지의 단위 면적당 유효 성분의 정확한 적용이 보다 용이하게 이루어질 수 있다.

"분무된 (atomized)" 또는 "분무 (atomizing)" 는 개별 원자들을 의미하는 것이 아니라, 분사 시스템에 관한 이 용어의 표준 용도에 관한 것으로, 크기 범위 내의 입자들의 미세한 미스트를 의미한다.

일 예에서, "분무 디스크" 라는 용어는 플랫 분무 디스크를 의미하지만 또한 콘 모양의 분무 디스크를 포함한다.

일 예에서, 분무 디스크는 분무 디스크의 주변에 설정된 치형부 (teeth) 또는 톱니 (serration) 를 포함한다.

일 예에서, 액체 도포기는 적어도 하나의 공급 파이프를 포함한다. 공급 파이프는 액체 탱크로부터 분무 디스크로 액체를 이송하고, 분무 디스크 상에 액체를 도포하도록 구성된다.

일 예에서, 액체 도포기는 적어도 하나의 액체 탱크 및 적어도 하나의 공급 파이프를 포함한다.

일 예에서, "분사 방향 수정 어셈블리가 분무 디스크에 근접한다" 는 것은 분사 방향 수정 어셈블리가 분무 디스크 아래 및/또는 위에 위치하는 것을 의미한다. 바람직하게는, 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크 아래에 위치한다. 이 경우에 이는 분무 디스크의 위치외 비교하여 지면에 더 가깝다.

일 예에서, "분무 디스크에 근접하여 공기를 제공하도록 구성된 적어도 하나의 공기 채널" 이란, 적어도 하나의 공기 채널로부터의 공기가 분무 디스크의 외측 에지를 떠나는 액적을 향해 지향되어 액적의 궤적이 수정 (분무 디스크에 근접) 될 수 있도록 하는 적어도 하나의 공기 채널의 위치에 관한 것이다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크의 외부 에지를 떠나는 모든 액체 액적의 궤적을 수정하도록 구성된다. 일 예에서, "액체(들)" 란 제초제, 살충제, 살균제, 농작물 영양제, 생물 자극제, 식물 성장 조절제 등과 같은 화학적 및/또는 생물학적 기반 농업 활성 성분을 포함하는 액체(들)를 말한다.

일 예에서, "적어도 하나의 공기 채널" 은 분무 디스크 주위의 모든 방향으로 공기를 제공하도록 구성된다. 일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리의 측면 주위로 (원주방향으로) 가는 "적어도 하나의 공기 채널 개구 (42)" 가 있다.

일 예에서, 액슬에 가까운 화살표는 액슬과 분무 디스크의 잠재적 회전 방향을 나타낸다. 회전은 또한 시계 방향일 수 있다.

일 예에서, 분무 디스크의 평면 표면 위의 화살표는 원심력과 액체의 분무의 방향을 나타낸다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리의 측면 화살표는 공기 흐름의 방향을 나타낸다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 그 기능을 방해하지 않는 한은 임의의 적당한 형상을 가질 수 있다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 디스크형 형태를 갖는다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 반경 방향 범위가 축방향 범위보다 큰 분사 방향 수정 어셈블리의 실질적으로 평평한 기하학적 설계를 갖는 디스크형 형태를 갖는다.

일 예에서 "디스크형" 이라는 용어는 원형, 계란형 및 타원형의 방사형 단면을 가진 디자인을 설명한다.

일 예에서, "실질적으로 평평한 기하학적 설계" 라는 용어는 축방향과 반경방향 모두에서 구조적 융기부나 함몰부를 가질 수 있는 분사 방향 수정 어셈블리를 의미한다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 원형 디스크 형태를 갖는다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리 디스크는 100 내지 1000 mm 의 직경, 더욱 바람직하게는 20 내지 100 mm 의 직경, 특히 바람직하게는 40 내지 80 mm 의 직경을 갖는다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 대해 평행하게 실질적으로 대칭으로 위치한다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 축방향으로 이격되어 있다. 일 예에서, 분무 디스크와 분사 방향 수정 어셈블리 사이의 축방향 공간은 0.1 mm 내지 40 mm, 바람직하게는 0.5 mm 내지 20 mm 이다.

일 예에서, 하나 이상의 분사 방향 수정 어셈블리는 분무 디스크에 축방향으로 이격되어 있고 분무 디스크 아래 또는 위에서 서로 겹쳐지거나, 하나 이상의 분사 방향 수정 어셈블리(들)는 분무 디스크 위에 위치하고 하나 이상의 분사 방향 수정 어셈블리(들)는 분무 디스크 아래에 위치한다.

일 예에서, 하나 이상의 분사 방향 수정 어셈블리는 상이한 공기 흐름 패턴들에 따라 분무 디스크에 근접하여 공기를 제공하도록 구성된다.

이와 같이, 공기 흐름은 상이한 분사 방향 수정 어셈블리들과 그들의 대응하는 공기 흐름 패턴 사이에서 전환함으로써 연속적으로 조절될 수 있다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 부분적으로 이중 벽이다. 두 개의 벽들 사이의 공간은 적어도 하나의 공기 채널 (41) 을 형성하도록 구성된다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리의 두 개의 벽들 중 적어도 하나는 다른 벽에 대해 평행하게 이동하여 적어도 두 개의 벽들 사이의 거리를 감소시키거나 증가시키도록 구성되어 있다. 따라서, 분사 방향 수정 어셈블리의 두 개의 벽들 사이의 거리를 변경함으로써, (공기 속도를 일정하게 유지하면서) 공기 채널을 통과하는 공기 흐름을 변경하고 제어할 수 있다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 두 개의 벽들 사이의 거리를 감소시키거나 증가시키기 위해 적어도 하나의 벽을 공기 채널의 다른 벽에 대해 평행하게 이동시키도록 구성된 적어도 하나의 벽-이동 액추에이터를 포함한다.

도 1b 는 콘 형상의 분무 디스크 (30) 를 갖는 도 1a 에 따른 분사 유닛의 예를 나타낸다. 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 는 슬롯형 디스크로서 도시되며, 여기서 콘 형상 분무 디스크의 일부는 슬롯형 디스크 내에 위치한다. 도 1b 에 표시된 화살표는 도 1a 와 관련하여 설명한 것과 유사한 의미를 갖는다.

도 2a 는 측면도 관점으로부터 하나의 공기 채널 (41) 을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 의 일 예의 개략적인 설정을 나타낸다. 이 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 분사 방향 수정 어셈블리 디스크의 측면 상에서 주위에서 (원주방향으로) 가는 하나의 공기 채널 개구 (42) 를 갖는다.

도 2b 는 측면도 관점으로부터 적어도 하나의 공기 채널 (41) (보이지 않음) 및 다수의 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 의 일 예의 개략적인 설정을 나타낸다.

도 3a 는 평면도 관점으로부터 다수의 공기 채널들 (41) 및 대응하는 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 의 일 예의 개략적인 설정을 나타낸다. 점선은 공기 채널이 분사 방향 수정 어셈블리의 외부에서 보이지 않을 수도 있음을 나타낸다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 실질적으로 방사상으로 배치된 복수의 공기 채널들 (41) 을 포함한다.

일 예에서, 실질적으로 방사상으로 배치된 공기 채널들 (41) 은 대응하는 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는다.

일 예에서, 하나 이상의 공기 채널 개구는 분무 디스크의 측면에 있다.

도 3b 는 평면도 관점으로부터 다수의 공기 채널들 (41) 및 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 의 다른 예의 개략적인 설정을 나타낸다. 점선은 공기 채널이 분사 방향 수정 어셈블리의 외부에서 보이지 않을 수도 있음을 나타낸다.

일 예에서, 실질적으로 방사상으로 배치된 복수의 공기 채널들 (41) 은 직선형, 만곡형, 대칭형 및/또는 비대칭형이다.

일 예에서, 원형 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리는 실질적으로 방사상으로 배치된 공기 채널들 (41) 및/또는 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는다. 수직 방향 (서쪽 및 동쪽) 으로 공간적으로 정렬된 모든 공기 채널 개구들 (42) 의 단면적은 북쪽 및 남쪽 방향으로 정렬된 모든 공기 채널 개구들의 단면적보다 더 크다. 이는 의도된 분사 스와스를 발생시키기 위해 분사 유닛 (10) 이 (도 3b 에 표시된 바와 같이) 이동 방향으로 이동될 때 유리하다.

도 4 는 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 를 구비하거나 구비하지 않는 분사 유닛 (10) 으로부터의 분사 스와스의 비교를 나타낸다. 예 a) 에서 액슬 (20), 분무 디스크 (30) 및 액체 도포기 (50) 를 갖지만 분사 방향 수정 어셈블리가 없는 분사 유닛 (10) 이 묘사된다. 예 b) 에서, 액슬 (20), 분무 디스크 (40) 및 액체 도포기 (50) 를 갖는 분사 유닛 (10) 이 도시된다. 이 예에 따른 분사 유닛은 또한 적어도 하나의 공기 채널 (41) 및 복수의 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 를 포함한다. 공기 채널 (41) 로부터의 공기는 분무 디스크의 에지를 떠나는 액적의 방향을 수정한다. 예 b) 에서, 두 예들에 대해 분무 디스크의 회전, 액체 유량 및 액체가 동일하다면, 분무 스와스는 예 a) 에 따른 분무 스와스와 비교하여 더 넓다.

일 예에서, 예 a) 및 b) 에서의 화살표는 도 1 과 관련하여 설명한 것과 같다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 의 적어도 하나의 공기 채널 (41) 은 분무 디스크의 표면에 대해 실질적으로 평행한 방향으로 공기를 제공하도록 구성된다.

도 4 의 예 b) 에 나타난 바와 같이, 이는 분무 디스크의 외부 에지를 떠나는 액적의 후속 궤적을 수정하는 방식이다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 비회전형이다.

일 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리는 액슬 또는 분무 디스크가 아닌 분사 유닛의 바디내에 부착/수용된다.

일 예에서, 분사 유닛은 붐 분사기, UAVs, 무인 지상 비히클 (Unmanned Ground Vehicle, UGV), 로보틱스 플랫폼, 백팩 분사기를 위해 이용될 수 있다.

도 5 는 분사 유닛 (10) 을 구비한 분사 비히클 (100) 의 개략적인 예를 나타낸다.

일 예에서, 비히클은 드론 또는 UAV 이다.

일 예에서, 비히클은 UGV, 로봇 플랫폼, 트랙터와 같은 육상 비히클이다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널 (41) 은 고물-이물 (aft-fore) 방향 및 이물-고물 (fore-aft) 방향에서 보다도 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 더 많은 공기를 제공하도록 구성된다.

일 예에서, "더 많은 공기를 제공" 이라는 용어는 일정 기간 동안의 공기 부피 흐름을 말한다.

일 예에서, 대응하는 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는 복수의 공기 채널들 (41) 이 존재한다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 하나의 공기 채널 (41) 및 복수의 공기 채널 개구들 (42) 을 갖고, 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 공간적으로 정렬되는 모든 공기 채널 개구들 (42) 의 단면적은 고물-이물 방향 및 이물-고물 방향에서 공간적으로 정렬되는 모든 공기 채널 개구들의 단면적보다 더 크다.

일 예에 따르면, 분사 방향 수정 어셈블리는 복수의 공기 채널들 (41) 을 갖고, 분사 차량의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 공간적으로 정렬된 공기 채널들을 통한 공기 흐름은 고물-이물 방향과 이물-고물 방향으로 공간적으로 정렬된 공기 채널들을 통한 공기 흐름보다 더 높다.

"공기 부피 흐름/시간 단위" 인 "공기 흐름" 은 일정 시간 단위 동안의 공기 채널의 단면적을 공기 속도에 곱하여 산출할 수 있음을 유의해야 한다.

도 6 은 분사 유닛 (10) 을 갖는 분사 비히클 (100) 및 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 를 통한 공기 흐름의 제어의 개략적인 예를 나타낸다. 분사 비히클은 액체 탱크 (110), 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터 (120), 복수의 센서들 (130) 및 처리 유닛 (140) 을 더 포함한다. 액체 탱크는 액체를 보유하도록 구성된다. 적어도 하나의 분사 유닛은 액체를 분사하도록 구성된다. 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터는 적어도 하나의 분사 유닛의 분사 방향 수정 어셈블리를 동작 및/또는 이동시키도록 구성된다. 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (131) 는 분무 디스크의 중심에 중심을 둔 액슬 (20) 에 대한 분무 디스크 (30) 의 회전 속도를 측정하도록 구성된다. 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (132) 는 분무 디스크 (30) 의 표면으로의 액체 도포기 (50) 의 액체 유량을 측정하도록 구성된다. 처리 유닛은 분무 디스크의 측정된 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 측정된 액체 유량, 및 액체의 물리화학적 성질의 이용을 포함하는 분무 디스크 상에서의 분무 후에 분무 디스크의 에지를 떠나는 액체 액적의 액적 크기를 결정하도록 구성된다. 처리 유닛은 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령을 결정하는 것은 결정된 액적 크기를 이용하는 것을 포함한다.

일 예에서, 액슬에 대한 분무 디스크의 회전 속도를 측정하도록 구성된 적어도 하나의 센서 (131) 는 회전속도계 (RPM gauge) 를 포함한다.

일 예에서, 분무 디스크의 표면으로의 액체 도포기의 액체 유량을 측정하도록 구성되어 있는 적어도 하나의 센서 (132) 는 회전계 (rotameter) 또는 등가물이다.

일 예에서, 처리 유닛은 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 결정된 액적 크기, 분무 디스크의 측정된 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 측정된 액체 유량, 및 액체의 물리화학적 성질의 이용을 포함한다.

일 예에서, 처리 유닛은 분무 디스크의 에지를 떠나는 액적의 액적 스펙트럼을 결정하도록 구성되고, 처리 유닛은 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령을 결정하는 것은 결정된 액적 스펙트럼을 이용하는 것을 포함한다.

"액적 스펙트럼" 이란 액적 크기 분포를 말한다.

일 예에서, 분사 비히클은 액체의 물리화학적 성질에 대한 데이터를 수신하도록 구성된 입력 유닛을 더 포함한다. 입력 유닛은 액체의 물리화학적 성질에 관한 정보를 처리 유닛에 제공하도록 구성된다. 일 예로서, 액체의 물리화학적 성질은, 예를 들어 분사 비히클의 입력 유닛에 의해 스캔될 수 있는 액체의 패키징 상의 QR 코드로 인코딩될 수 있다.

일 예에 따르면, 처리 유닛은 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 통한 공기 흐름을 수정하기 위해 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령을 결정하는 것은 결정된 액적 크기를 이용하는 것을 포함한다.

일 예에서, 처리 유닛은 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 통한 공기 흐름을 수정하기 위해 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 결정된 액적 크기, 분무 디스크의 측정된 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 측정된 액체 유량, 및 액체의 물리화학적 성질을 이용하는 것을 포함한다.

일 예에 따르면, 처리 유닛은 분무 디스크에 대해 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 이동시키기 위해 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령을 결정하는 것은 결정된 액적 크기를 이용하는 것을 포함한다.

일 예에 따르면, 처리 유닛은 분무 디스크에 대해 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 이동시키기 위해 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 결정된 액적 크기, 분무 디스크의 측정된 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 측정된 액체 유량, 및 액체의 물리화학적 성질의 이용을 포함한다.

일 예에 따르면, 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (133) 는 지면에 대한 분사 비히클의 속도를 측정하도록 구성되고, 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (134) 는 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대한 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향을 측정하도록 구성되고, 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (135) 는 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도를 측정하도록 구성되며, 처리 유닛은 지면에 대한 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 공기 이동 방향을 결정하고 지면에 대한 공기 이동 속도를 결정하도록 구성되며, 결정은 분사 비히클의 속도, 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대한 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향 및 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도의 이용을 포함하고, 처리 유닛은 분무 디스크의 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 액체 유량 및/또는 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되며, 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 지면으로의 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 결정된 공기 이동 방향 및 지면에 대한 결정된 공기 이동 속도의 이용을 포함한다.

일 예에 따르면, 분사 비히클은 지면 위의 분사 비히클의 높이를 결정할 수 있게 하는 데이터를 제공하도록 구성된 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (136) 를 더 포함한다. 처리 유닛은 분무 디스크의 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 액체 유량 및/또는 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되며, 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 지면으로의 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 결정된 공기 이동 방향, 지면에 대한 결정된 공기 이동 속도 및 지면 위의 분사 비히클의 결정된 높이의 이용을 포함한다.

일 예에서, 지면에 대한 분사 비히클의 속도를 측정하도록 구성된 적어도 하나의 센서 (133) 는 GPS 시스템을 포함한다.

일 예에서, 지면에 대한 분사 비히클의 속도를 측정하도록 구성된 적어도 하나의 센서 (133) 는 레이저 반사율 기반 시스템을 포함한다.

일 예에서, 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향을 측정하도록 구성된 적어도 하나의 센서 (134) 는 풍향계 (wind vane) 를 포함한다.

일 예에서, 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도를 측정하도록 구성된 적어도 하나의 센서 (135) 는 2D 또는 3D 음파 풍속계를 포함한다.

일 예에서, 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도를 측정하도록 구성된 적어도 하나의 센서 (135) 는 피토 관 (pitot tube) 을 포함한다.

일 예에서, 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향, 속도 (및 거리) 를 측정하도록 구성된 적어도 하나의 센서 (134 및 135) 는 LIDAR 센서, 바람직하게는 Doppler LIDAR 센서를 포함한다.

일 예에서, 높이를 결정하는데 사용되는 센서 (136) 는 레이더 센서이다.

일 예에서, 높이를 결정하기 위해 사용되는 센서 (136) 는 레이저 ToF (Time of Flight) 센서이다.

일 예에서, 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터는 에너지를 운동으로 변환하는 적어도 하나의 기계적 장치를 말한다. 에너지원은, 예를 들면, 전류, 유압 유체 압력, 공압, 기계적 에너지, 열 에너지, 또는 자기 에너지일 수 있다. 예를 들어, 전기 모터 어셈블리는 전류를 회전 운동으로 변환하는 일종의 액추에이터일 수 있고, 더 나아가 회전 운동을 선형 운동으로 변환하여 운동을 수행할 수 있다. 이러한 방식으로, 액추에이터는 모터, 기어, 링키지 (linkage), 휠, 스크류, 펌프, 피스톤, 스위치, 서보 (servo), 또는 일 형태의 에너지를 운동으로 변환하는 다른 요소를 포함할 수 있다.

도 7 은 하나의 상이한 분사 유닛을 각각 갖는 분사 비히클들 및 그들의 대응하는 분사 스와스의 개략적인 예를 나타낸다. 예 a) 의 분사 비히클은 분무 디스크 (30) 및 대칭인 반경방향으로 배치된 공기 채널들 (41) 및 대응하는 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 를 갖는 분사 유닛 (10) 을 포함한다. 시간당 동일한 양의 공기 부피 흐름이 분사 방향 수정 어셈블리의 모든 방향들에서 제공된다. 예 b) 에서, 분사 비히클은 분무 디스크 (30) 및 복수의 공기 채널들 (41) 및 대응하는 공기 채널 개구들 (42) 을 갖는 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 를 갖는 분사 유닛을 포함하고, 분사 방향 수정 어셈블리는 고물-이물 방향 및 이물-고물 방향에서보다 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 더 많은 공기를 제공하도록 구성된다. 분사 스와스는 분사 스와스의 전체 거리에 걸쳐 매우 균일하다.

도 8 은 상이한 액적 크기들을 생성하는 기능으로서 분사 유닛 (10) 을 갖는 분사 비히클 (100) 및 분사 방향 수정 어셈블리를 통한 공기 흐름의 제어의 개략적인 예를 나타낸다. 이 예에서, 분사 비히클은 UAV 이고, UAV 의 프로펠러 유닛 아래에 위치하는 적어도 하나의 분사 유닛을 포함한다. 분사 유닛은 디스크형 분사 방향 수정 어셈블리를 갖는 분사 방향 어셈블리 (40) 를 포함한다. 복수의 센서들 (130) 은, 무엇보다도, 분무 디스크의 회전 및 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체 흐름을 측정한다. 처리 유닛 (미도시) 은 분무 디스크 상에서의 분무 후에 분무 디스크의 에지를 떠나는 액적의 크기를 결정한다. 처리 유닛은 또한 감지되고 계산된 정보를 이용하여 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터 (미도시) 에 분사 방향 수정 어셈블리로부터 분사 방향을 향하는 공기 흐름을 제어하도록 지시한다.

다른 예에서, 적절한 액적 크기 또는 스펙트럼은 지면으로의 분사 비히클의 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 결정된 공기 이동 (바람) 방향, 지면에 대한 분사 비히클의 결정된 공기 이동 (바람) 속도 및 지면 위의 분사 비히클의 결정된 높이에 대한 정보를 가지고 처리 유닛에 의해 계산될 수 있었다. 적절한 액적 크기 또는 스펙트럼 및 적절한 분사 패턴을 달성하기 위해, 처리 유닛은 분무 디스크의 회전 속도, 액체 도포기로부터 분무 디스크의 표면으로의 액체의 액체 유량 및/또는 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어한다.

도 8a 의 예에서, 분무 디스크의 에지를 벗어나는 분무 액체의 액적 크기는 크고 (분무 디스크의 회전 속도는 낮음), 높은 공기 흐름이 분사 방향 수정 어셈블리로부터 분무 디스크 (30) 의 에지를 떠나는 액적을 향해 흐른다 (공기 흐름은 분사 방향 수정 어셈블리 옆에 화살표로 표시되고, 공기 흐름은 분무 디스크의 표면에 대해 실질적으로 평행하다). 도 8b 의 예에서, 분무 디스크의 에지를 벗어나는 분무 액체의 액적 크기는 작고 (분무 디스크의 회전 속도는 높음), 낮은 공기 흐름이 분사 방향 수정 어셈블리로부터 분무 디스크 (30) 의 에지를 떠나는 액적을 향해 흐르며, 이는 예 a) 에 따른 분사 스와스 폭과 유사한 분사 스와스 폭을 발생시킨다 (그러나, 액체 액적 스펙트럼은 상이하다).

도 9 는 분무 디스크 (30) 에 대해 상이한 위치들에 위치하는 분사 방향 수정 어셈블리 (40) 및 분사 유닛 (10) 을 갖는 분사 비히클 (100) 의 개략적인 예를 나타낸다. 이 예에서, 분사 비히클은 UAV 이고, UAV 의 프로펠러 유닛 아래에 위치하는 적어도 하나의 분사 유닛을 포함한다. 예 a) 에서 분무 디스크는 분사 방향 수정 어셈블리 아래에 있다. 이 예에서, 분사 방향 수정 어셈블리의 공기 흐름 (분사 방향 수정 어셈블리의 측면에서 굵은 화살표로 표시됨) 은 UAV 의 프로펠러 유닛으로부터의 다운워시 에어스트림 (굵은 화살표로 표시됨) 을 보상할 수 있다. 예 b) 에서 분무 디스크는 분사 방향 수정 어셈블리 위에 있다. 여기서, 다시, 분사 방향 수정 어셈블리로부터의 공기 흐름은 UAV 의 프로펠러 유닛으로부터의 다운워시 에어스트림을 완화시킨다.

본 발명의 실시형태들은 상이한 청구물들을 참조하여 설명됨이 주목되어야 한다. 특히, 일부 실시형태는 분사 유닛 타입 청구항들을 참조하여 설명되는 한편, 다른 실시형태는 분사 비히클 타입 청구항들을 참조하여 설명된다. 하지만, 당업자는, 달리 통지되지 않으면, 일 타입의 청구물에 속하는 특징들의 임의의 조합에 추가하여, 또한, 상이한 청구물들에 관한 특징들 사이의 임의의 조합이 본 출원과 함께 개시되는 것으로 고려되는 상기의 및 다음의 설명으로부터 수집할 것이다. 하지만, 모든 특징들이 결합되어, 특징들의 단순한 합산을 초과하는 시너지 효과들을 제공할 수 있다.

본 발명은 도면들 및 전술한 설명에서 예시되고 상세히 설명되었지만, 그러한 예시 및 설명은 제한적인 것이 아닌 예시적이거나 전형적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명은 개시된 실시형태들로 제한되지 않는다. 개시된 실시형태들에 대한 다른 변형들이, 도면들, 개시내용, 및 종속항들의 연구로부터, 청구된 발명을 실시함에 있어서 당업자에 의해 이해되고 실시될 수 있다.

청구항들에 있어서, 단어 "포함하는" 은 다른 엘리먼트들 또는 단계들을 배제하지 않으며, 단수형은 복수를 배제하지 않는다. 단일 프로세서 또는 다른 유닛은 청구항들에 기재된 수개의 아이템들의 기능들을 이행할 수도 있다. 특정 측정치들이 상호 상이한 종속항들에 기재된다는 단순한 사실은 이들 측정치들의 조합이 이점을 얻기위해 사용될 수 없음을 나타내지는 않는다. 청구항들에 있어서의 임의의 참조부호들은 그 범위를 한정하는 것으로 해석되지 않아야 한다.

Claims

분사 유닛 (10) 으로서,
- 액슬 (20);
- 분무 디스크 (30);
- 분사 방향 수정 어셈블리 (40);
- 액체 도포기 (50) 를 포함하고,
상기 분무 디스크는 상기 디스크의 중심에 중심을 둔 상기 액슬을 중심으로 회전하도록 구성되고;
상기 액체 도포기는 상기 분무 디스크의 표면에 액체를 도포하도록 구성되고,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 상기 분무 디스크에 근접해 있고,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 하나의 공기 채널 (41) 을 포함하고,
상기 적어도 하나의 공기 채널은 상기 분무 디스크의 외부 에지를 떠나는 액적의 후속 궤적을 수정하기 위해 상기 분무 디스크에 근접하여 공기를 제공하도록 구성되는, 분사 유닛.
제 1 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 디스크형 형태를 갖는, 분사 유닛.
제 2 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 반경방향 범위가 축방향 범위보다 더 큰 실질적으로 평평한 기하학적 디자인을 갖는 디스크형 형태를 갖는, 분사 유닛.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 상기 분무 디스크에 대해 실질적으로 대칭적으로 평행하게 위치되는, 분사 유닛.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 부분적으로 이중 벽이고, 2 개의 벽들 사이의 공간이 상기 적어도 하나의 공기 채널 (41) 을 형성하도록 구성되는, 분사 유닛.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 실질적으로 방사상으로 배치된 복수의 공기 채널들 (41) 을 포함하는, 분사 유닛.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리의 상기 적어도 하나의 공기 채널 (41) 은 상기 분무 디스크의 표면에 대해 실질적으로 평행한 방향으로 공기를 제공하도록 구성되는, 분사 유닛.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 비회전형인, 분사 유닛.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 분사 유닛 (10) 을 포함하는, 분사 비히클 (100).
제 9 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리의 상기 적어도 하나의 공기 채널 (41) 은 고물-이물 (aft-fore) 방향 및 이물-고물 (fore-aft) 방향에서 보다도 상기 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 더 많은 공기를 제공하도록 구성되는, 분사 비히클.
제 10 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 적어도 하나의 공기 채널 (41) 및 복수의 공기 채널 개구들 (42) 을 갖고, 상기 분사 비히클의 상기 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 공간적으로 정렬되는 모든 공기 채널 개구들 (42) 의 단면적은 고물-이물 방향 및 이물-고물 방향에서 공간적으로 정렬되는 모든 공기 채널 개구들 (42) 의 단면적보다 더 큰, 분사 비히클.
제 10 항에 있어서,
상기 분사 방향 수정 어셈블리는 복수의 공기 채널들 (41) 을 갖고, 상기 분사 비히클의 상기 이물-고물 축선에 대해 수직 방향으로 공간적으로 정렬되는 공기 채널들을 통한 공기 흐름은 고물-이물 방향 및 이물-고물 방향에서 공간적으로 정렬되는 공기 채널들을 통한 공기 흐름보다 더 큰, 분사 비히클.
제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
- 액체 탱크 (110);
- 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터 (120);
- 복수의 센서들 (130);
- 처리 유닛 (140) 을 더 포함하고,
상기 액체 탱크는 액체를 보유하도록 구성되고,
적어도 하나의 상기 분사 유닛은 액체를 분사하도록 구성되고,
상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터는 적어도 하나의 상기 분사 유닛의 상기 분사 방향 수정 어셈블리를 작동 및/또는 이동시키도록 구성되고,
상기 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (131) 는 상기 분무 디스크의 중심에 중심을 둔 상기 액슬 (20) 에 대한 상기 분무 디스크 (30) 의 회전 속도를 측정하도록 구성되고,
상기 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (132) 는 상기 분무 디스크 (30) 의 표면에 대한 상기 액체 도포기 (50) 의 액체 유량을 측정하도록 구성되고,
상기 처리 유닛은 상기 분무 디스크의 측정된 회전 속도, 상기 액체 도포기로부터 상기 분무 디스크의 표면까지의 액체의 측정된 액체 유량, 및 액체의 물리화학적 특성의 활용을 포함하여 상기 분무 디스크 상의 분무 후에 상기 분무 디스크의 에지를 떠나는 액적의 액적 크기를 결정하도록 구성되고, 상기 처리 유닛은 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 결정된 액적 크기의 활용을 포함하는, 분사 비히클.
제 13 항에 있어서,
상기 처리 유닛은 상기 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 통한 공기 흐름을 수정하기 위해 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 결정된 액적 크기의 활용을 포함하는, 분사 비히클.
제 13 항에 있어서,
상기 처리 유닛은 상기 분무 디스크에 대해 상기 분사 방향 수정 어셈블리의 적어도 하나의 공기 채널을 이동시키기 위해 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터의 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 결정된 액적 크기의 활용을 포함하는, 분사 비히클.
제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
- 액체 탱크 (110);
- 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터 (120);
- 복수의 센서들 (130);
- 처리 유닛 (140) 을 더 포함하고,
상기 액체 탱크는 액체를 보유하도록 구성되고,
적어도 하나의 상기 분사 유닛은 액체를 분사하도록 구성되고,
상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터는 적어도 하나의 상기 분사 유닛의 상기 분사 방향 수정 어셈블리를 작동 및/또는 이동시키도록 구성되고,
상기 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (133) 는 지면에 대한 상기 분사 비히클의 속도를 측정하도록 구성되고,
상기 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (134) 는 상기 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 상기 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향을 측정하도록 구성되고,
상기 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (135) 는 상기 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도를 측정하도록 구성되고,
상기 처리 유닛은 지면에 대한 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 공기 이동 방향을 결정하도록 그리고 지면에 대한 공기 이동 속도를 결정하도록 구성되고, 결정은 상기 분사 비히클의 속도, 상기 분사 비히클의 이물-고물 축선에 대해 상기 분사 비히클에 대한 공기 이동 방향 및 상기 분사 비히클에 대한 공기 이동 속도의 활용을 포함하고,
상기 처리 유닛은 상기 분무 디스크의 회전 속도, 상기 액체 도포기로부터 상기 분무 디스크의 표면으로의 액체의 액체 유량 및/또는 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고, 제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 지면에 대한 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 결정된 공기 이동 방향 및 지면에 대한 결정된 공기 이동 속도의 활용을 포함하는, 분사 비히클.
제 16 항에 있어서,
상기 복수의 센서들 중 적어도 하나의 센서 (136) 는 지면 위의 상기 분사 비히클의 높이를 결정할 수 있는 데이터를 제공하도록 구성되고,
상기 처리 유닛은 상기 분무 디스크의 회전 속도, 상기 액체 도포기로부터 상기 분무 디스크의 표면으로의 액체의 액체 유량 및/또는 상기 적어도 하나의 분사 방향 수정 어셈블리 조정 액추에이터를 제어하도록 구성되고,
제어를 위한 적어도 하나의 명령의 결정은 지면에 대한 이물-고물 축선의 프로젝션에 대한 결정된 공기 이동 방향, 지면에 대한 결정된 공기 이동 속도 및 지면 위의 상기 분사 비히클의 결정된 높이의 활용을 포함하는, 분사 비히클.