KR920008564B1 - 유기 아미노 화합물과 혼화성이 있는 치약조성물용 실리카 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (57)
- 제1항에 있어서, 표면의 산성도 함수 Ho가 적어도 4가 되도록 하는 화학적 특성의 표면을 갖는 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 표면의 OH-의 수(OH-/nm2로 표시)가 12이하, 바람직하게는 6 내지 10이 되도록 하는 화학적 특성의 표면을 갖는 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 영전하점(zero charge point ZPC)이 적어도 4, 바람직하게는 4 내지 6인 실리카.
- 제1항에 있어서, 유기아미노 화합물과의 혼화성이 적어도 30%임을 특징으로 하는 실리카.
- 제5항에 있어서, 유기아미노 화합물과의 혼화성이 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 80%인 실리카.
- 제5항 또는 6항에 있어서, 불소-함유 아민, 아민산화물, 알킬아민 및 알킬베타인으로 구성된 군으로 부터 선택된 유기아미노 화합물과의 혼화성이 있는 실리카.
- 제7항에 있어서, 유기아미노 화합물이 세틸아민 히드로플루오라이드, 비스-(히드록시에틸)-아미노프로필-N-히드록시에틸-옥타데실아민 디히드로플루오로라이드 및 R이 각각 C10내지 C24의 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 일반식 R(CH3)2N→O의 아민산화물, 일반식 R-N+(CH3)2-CH2-COO-의 알킬베타인과 일반식 R-CO-NH2-(CH2)3-N+(CH3)2-CH2-COO-의 알킬아미도알킬베타인인 실리카.
- 제1항에 있어서, 주기율표 2a족, 3a족, 4a족, 및 8a족으로 부터 선택된 2가 이상의 금속양이온과의 혼화성이 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 70%인 실리카.
- 제9항에 있어서, 금속양이온의 칼슘, 스트론튬, 바륨, 알루미늄, 인듐, 게르마늄, 주석, 납, 망간, 철, 니켈, 아연, 티타늄, 지르코늄 또는 팔라듐인 실리카.
- 제9항에 또는 10항에 있어서, 금속양이온이 염화물, 불화물, 질산염, 인산염 또는 황산염과 같은 무기염의 형태이거나, 아세트산염 또는 시트르산염과 같은 유기염의 형태인 실리카.
- 제11항에 있어서, 금속양이온이 시트르산아연, 황산아연, 염화스트론튬 또는 불화주석의 형태인 실리카.
- 제1항에 있어서, 구아니딘형태의 생성물, 특히 클로르헥시딘과의 혼화성이 적어도 30%, 바람직하게는 적어도 60%인 실리카.
- 제14항에 있어서, 음이온함량이 100g의 실리카당 기껏해야 1×10-3몰, 바람직하게는 기껏해야 0.2×10-3몰인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, SO4로 표시되는 황산함량이 기껏해야 0.1%, 바람직하게는 기껏해야 0.05%, 더욱 바람직하게는 기껏해야 0.01%인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 2가 이상의 금속양이온의 함량이 기껏해야 1000ppm인 실리카.
- 제17항에 있어서, 알루미늄함량이 기껏해야 500ppm, 철함량이 기껏해야 200ppm, 칼슘함량이 기껏해야 500ppm, 특히 기껏해야 300ppm인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 탄소함량이 기껏해야 50ppm, 특히 기껏해야 10ppm인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, pH가 기껏해야 8, 특히 6.0 내지 7.5인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, BET표면이 40 내지 600㎡/g인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, CTAB표면이 40 내지 400㎡/g인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 연마제 형태로서 BET표면이 40 내지 300㎡/g인 실리카.
- 제23항에 있어서, CTAB표면이 40 내지 100㎡/g인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 시크닝 형태로서 BET표면이 120 내지 450㎡/g, 특히 120 내지 200㎡/g인 실리카.
- 제25항에 있어서, CTAB표면이 120 내지 400㎡/g인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 이 작용성 형태로서 BET표면이 80 내지 200㎡/g인 실리카.
- 제27항에 있어서, CTAB표면이 80 내지 200㎡/g인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 오일흡수가 80 내지 500㎤/100g인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 평균 입자크기가 1 내지 10㎛인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 겉보기밀도가 0.01 내지 0.3인 실리카.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 석출실리카인 실리카.
- 규산염을 산과 반응시켜 현탁액 또는 실리카겔로 만들고, 첫번째 에이징을 pH 6 이상 내지 8.5 이하에서 수행한 다음, 두번째 에이징을 pH 6.0 이하에서 수행한 후, 세번째 에이징을 pH 5.0 이하에서 수행하고, 실리카를 분리한 다음, 20% SiO2현탁액상에서 측정한 pH가 다음 방정식에 부합하는 수성 현탁액이 될때까지 물로 세척한 후, 이를 건조시킴을 특징으로 하는 제1항 내지 32항 중의 어느 한 항에 기술한 실리카의 제조방법.상기식에서, e는 0.6이상 내지 1.0이하의 상수이고, d는 7.0이상 내지 8.5이하의 상수이며, (D)는 수성 현탁액의 전도율(microsiemens·㎝-1로 표시)이다.
- 제33항에 있어서, 물이거나, 0 내지 150g/l의 실리카(SiO2)를 함유하는 콜로이드성 실리카 분산액이거나 규산염 또는 무기염이나 유기염(특히, 알칼리금속염)을 함유할 수 있는 침강물에 규산염과 산을 동시에 첨가함으로써 현탁액 또는 실리카 겔을 제조하는 과정으로 구성된 제조방법.
- 제34항에 있어서, pH가 4 내지 10, 바람직하게는 8.5 내지 9.5로 일정하게 유지되도록 하면서 규산염과 산의 첨가를 동시에 수행하는 제조방법.
- 제34항 또는 35항에 있어서, 온도가 60 내지 95℃인 제조방법.
- 제34항에 있어서, 20 내지 150g/l의 실리카를 함유하는 클로이드성 실리카 분산액이 규산염 수용액을 60 내지 95℃로 가열하고 8 내지 10의 pH, 바람직하게는 9.5의 pH가 얻어질 때까지 수용액에 산을 첨가함으로써 제조한 것이 제조방법.
- 제33항에 있어서, 원하는 에이징 pH가 60 내지 95℃에서 얻어질 때까지 규산염을 함유한 침강물에 산을 점차적으로 가함으로써 현탁액 또는 실리카겔을 제조하는 과정으로 구성된 제조방법.
- 제33항 내지 35항중 어느 한 항에 있어서, 현탁액 또는 실리카 겔의 첫번째 에이징을 pH 6 내지 8.5, 바람직하게는 pH 8에서와 60 내지 100℃, 바람직하게는 95℃의 온도에서 수행하는 제조방법.
- 제33항 내지 35항중 어느 한 항에 있어서, 현탁액 또는 실리카 겔의 두번째 에이징을 pH 5 내지 6, 바람직하게는 pH 5.5에서와 60 내지 100℃, 바람직하게는 95℃의 온도에서 수행하는 제조방법.
- 제33항 내지 35항중 어느 한 항에 있어서, 현탁액 또는 실리카겔의 세번째 에이징을 pH 3 내지 5, 바람직하게는 pH 4에서와 60 내지 100℃ 바람직하게는 95℃의 온도에서 수행하는 제조방법.
- 제33항에 있어서, 세척과정을 물이나 산용액의 도움으로 행하는 제조방법.
- 제33항에 있어서, 세척 여과액의 전도율이 기껏해야 200(microsiemens·㎝-1)될때까지 세척과정을 행하는 제조방법.
- 제43항에 있어서, 세척과정을 물이나 산용액의 도움으로 행하는 제조방법.
- 제42항 내지 44항 중의 어느 한 항에 있어서, 산용액이 유기산, 특히 착산의 용액인 제조방법.
- 제45항에 있어서, 유기산을 카르복실산, 디카르복실산, 아미노카르복실산 및 히드록시카르복실산의 군으로 부터 선택하는 제조방법.
- 제45항에 있어서, 유기산을 아세트산, 글루콘산, 타르타르산, 시트르산, 말레산 및 글리세르산의 군으로부터 선택하는 제조방법.
- 제1항 내지 32항중 어느 한 항의 실리카이거나 제33항 내지 47항중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 실리카를 함유함을 특징으로 하는 치약 조성물.
- 제48항에 있어서, 불소, 인산염 및 구아니딘으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 성분을 함유하는 치약 조성물.
- 제48항에 있어서, 유기아미노 화합물과 2가 이상의 양이온으로 이루어진 군으로 부터 선택된 적어도 하나의 성분을 함유하는 치약 조성물.
- 제48항에 있어서, 불소-함유아민, 아민산화물, 알킬아민 및 알킬베타인으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나의 유기아미노 화합물을 함유하는 치약 조성물.
- 제51항에 있어서, 유기아미노 화합물이 세틸아민 히드로플루오라이드, 비스-(히드록시에틸)-아미노프로필-N-히드록시에틸-옥타데실아민디히드로플루오라이드 및 R이 각각 C10내지 C24의 직쇄 또는 측쇄 알킬기인 일반식 R(CH3)2N→O의 아민산화물, 일반식 R-N+(CH3)2-CH2-COO-의 알킬베타인과 일반식 R-CO-NH2-(CH2)3-N+(CH3)2-CH2-COO-의 알킬아미도알킬베타인인 치약 조성물.
- 제48항에 있어서, 주기율표 2a족, 3a족, 4a족, 및 8족으로 부터 선택된 적어도 하나의 2가 이상의 금속양이온을 함유하는 치약 조성물.
- 제53항에 있어서, 금속양이온의 칼슘, 스트론튬, 바륨, 알루미늄, 인듐, 게르마늄, 주석, 납, 망간, 철, 니켈, 아연, 티타늄, 지르코늄 또는 팔라듐인 치약 조성물.
- 제53항 또는 54항에 있어서, 금속양이온이 염화물, 불화물, 질산염, 인산염 또는 황산염과 같은 무기염의 형태이거나, 아세트산염 또는 시트르산염과 같은 유기염의 형태인 치약 조성물.
- 제53항 또는 54항에 있어서, 금속양이온이 구연산아연, 황산아연, 염화스트론튬 또는 불화주석의 형태의 치약 조성물.
- 제48항에 있어서, 클로로헥시딘을 함유하는 치약 조성물.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR05868 | 1989-05-03 | ||
| FR8905868A FR2646664B1 (fr) | 1989-05-03 | 1989-05-03 | Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec les composes organiques amines |
| FR89/05868 | 1989-05-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR900017907A KR900017907A (ko) | 1990-12-20 |
| KR920008564B1 true KR920008564B1 (ko) | 1992-10-01 |
Family
ID=9381380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019900006266A Expired KR920008564B1 (ko) | 1989-05-03 | 1990-05-03 | 유기 아미노 화합물과 혼화성이 있는 치약조성물용 실리카 |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0396459B2 (ko) |
| KR (1) | KR920008564B1 (ko) |
| CN (2) | CN1024527C (ko) |
| AT (1) | ATE80863T1 (ko) |
| AU (1) | AU633083B2 (ko) |
| BR (1) | BR9002063A (ko) |
| CA (1) | CA2015922C (ko) |
| DE (1) | DE69000328T3 (ko) |
| DK (1) | DK0396459T3 (ko) |
| ES (1) | ES2045840T5 (ko) |
| FI (1) | FI91386C (ko) |
| FR (1) | FR2646664B1 (ko) |
| GR (1) | GR3006478T3 (ko) |
| HK (1) | HK8194A (ko) |
| IE (1) | IE63629B1 (ko) |
| IL (1) | IL94246A0 (ko) |
| MA (1) | MA21826A1 (ko) |
| NO (1) | NO901883L (ko) |
| PT (1) | PT93949B (ko) |
| SG (1) | SG126693G (ko) |
| TN (1) | TNSN90058A1 (ko) |
| TR (1) | TR24265A (ko) |
| TW (1) | TW197950B (ko) |
| ZA (1) | ZA903323B (ko) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2714369B1 (fr) † | 1993-12-29 | 1996-01-26 | Rhone Poulenc Chimie | Silices abrasives pour compositions dentifrices. |
| TW414713B (en) | 1994-05-12 | 2000-12-11 | Dentsply Gmbh | Fluoride releasing liquid dental primer product and method |
| CN1056588C (zh) * | 1996-12-24 | 2000-09-20 | 北京化工大学 | 超细二氧化硅的制备方法 |
| EP1526115A1 (de) * | 2003-10-23 | 2005-04-27 | Universität Hannover | Funktionalisierte Kieselsäure-Partikel |
| BRPI0911683B1 (pt) * | 2008-04-24 | 2017-04-11 | Gaba Int Holding Ag | composição para cuidado oral, e, uso da mesma |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2344805A1 (de) * | 1972-08-24 | 1974-03-21 | Sifrance | Verfahren zum herstellen von gefaellten kieselsaeuren |
| GB1445635A (en) * | 1972-09-06 | 1976-08-11 | Huber Corp J M | Method for producing amorphous precipitated silicic acid pigments |
| US4015996A (en) * | 1974-10-31 | 1977-04-05 | J. M. Huber Corporation | Amorphous precipitated siliceous pigments |
| FR2562534B1 (fr) * | 1984-04-06 | 1986-06-27 | Rhone Poulenc Chim Base | Nouvelle silice precipitee a caracteres morphologiques ameliores, procede pour son obtention et application, notamment comme charge |
| FR2622439B1 (fr) * | 1987-11-04 | 1991-07-12 | Rhone Poulenc Chimie | Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec la chlorhexidine |
-
1989
- 1989-05-03 FR FR8905868A patent/FR2646664B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-04-27 NO NO90901883A patent/NO901883L/no unknown
- 1990-04-27 EP EP90401162A patent/EP0396459B2/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-27 DE DE69000328T patent/DE69000328T3/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-27 DK DK90401162.4T patent/DK0396459T3/da active
- 1990-04-27 ES ES90401162T patent/ES2045840T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-27 AT AT90401162T patent/ATE80863T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-05-01 IL IL94246A patent/IL94246A0/xx unknown
- 1990-05-02 TN TNTNSN90058A patent/TNSN90058A1/fr unknown
- 1990-05-02 BR BR909002063A patent/BR9002063A/pt not_active IP Right Cessation
- 1990-05-02 CA CA002015922A patent/CA2015922C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-02 AU AU54770/90A patent/AU633083B2/en not_active Ceased
- 1990-05-02 MA MA22089A patent/MA21826A1/fr unknown
- 1990-05-02 FI FI902207A patent/FI91386C/fi not_active IP Right Cessation
- 1990-05-02 IE IE160490A patent/IE63629B1/en not_active IP Right Cessation
- 1990-05-02 ZA ZA903323A patent/ZA903323B/xx unknown
- 1990-05-03 CN CN90102588A patent/CN1024527C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-03 KR KR1019900006266A patent/KR920008564B1/ko not_active Expired
- 1990-05-03 PT PT93949A patent/PT93949B/pt not_active IP Right Cessation
- 1990-05-17 TR TR90/0406A patent/TR24265A/xx unknown
- 1990-05-17 TW TW079104016A patent/TW197950B/zh active
-
1992
- 1992-12-09 GR GR920402834T patent/GR3006478T3/el unknown
-
1993
- 1993-03-29 CN CN93103613A patent/CN1081100A/zh active Pending
- 1993-11-27 SG SG126693A patent/SG126693G/en unknown
-
1994
- 1994-01-21 HK HK81/94A patent/HK8194A/xx not_active IP Right Cessation
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| G160 | Decision to publish patent application | ||
| PG1605 | Publication of application before grant of patent |
St.27 status event code: A-2-2-Q10-Q13-nap-PG1605 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 19980924 Year of fee payment: 7 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 7 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 19991002 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 19991002 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
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| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |














