KR970062017A - 세정제 조성물 및 그것을 이용한 세정방법 - Google Patents

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Abstract

유기 또는 무기 박막의 적용전 또는 후에 기판 표면을 세정하기 위한 세정제 조성물은 식 R1-O-(A1O)n-R2(식에서 R1은 탄소원자수 1 내지 7의 알킬 또는 알켄일기 또는 페닐기를 나타내고, A1은 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬 또는 수소원자를 나타내고, n은 1 내지 6범위의 수치이다)로 표시되는 화합물로부터 선택된 화합물; (B) 식 R3-O-(A2O)m-H 및 R4-O-(A3O)m-H(식에서 R2는 탄소원자수 12 내지 25의 알킬페닐 또는 알켄일페닐기를 나타내고, A2는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, R4는 탄소원자수 8 내지 25의 알킬 또는 알켄일기를 나타내고, A3는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 수치이다)로 표시되는 것중 적어도 하나로부터 선택된 화합물로 이루어진다. 이 세정제 조성물은 액정 디스플레이(LCD) 제조공정중에 기판 표면에 유기 또는 무기 박막을 형성하기 전 또는 형성한 후에 기판 표면을 세정하는데 유효하다.

Description

세정제 조성물 및 그것을 이용한 세정방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (21)

  1. 기판에 유기 또는 무기 박막을 적용하기 전 또는 적용한 후에 기판 표면을 세정하기 위한 세정제 조성물로서, 다음 성분(A) 및 (B)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정제 조성물.
    (A) 다음 일반식(1)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R1은 탄소원자수 1 내지 7의 알킬 또는 알켄일기 또는 페닐기를 나타내고, A1은 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬 또는 알켄일기 또는 수소원자를 나타내고, n은 1 내지 6범위의 정수이다.)
    (B) 다음 일반식 (2) 및 (3)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R3는 탄소원자수 12 내지 25의 알킬페닐 또는 알켄일페닐기를 나타내고, A2는 탄소 원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
    (상기 식에서 R4는 탄소워자수 8 내지 25의 알킬 또는 알켄일기를 나타내고, A3는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
  2. 제1항에 있어서, 기판에 적용된 유기수지막을 형성하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 세정제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 세정제 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 성분(A) 3 내지 30중량%, 성분(B) 1 내지 50중량% 및 나머지의 물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정제 조성물.
  4. 유기 또는 무기 박막을 적용하기 위한 기판 표면의 세정방법으로서, 기판을 다음 성분(A) 및 (B)로 이루어지는 세정제 용액과 접촉시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
    (A) 다음 일반식(1)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R1은 탄소원자수 1 내지 7의 알킬 또는 알켄일기 또는 페닐기를 나타내고, A1은 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬 또는 알켄일기 또는 수소원자를 나타내고, n은 1 내지 6범위의 정수이다.)
    (B) 다음 일반식 (2) 및 (3)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R3는 탄소원자수 12 내지 25의 알킬페닐 또는 알켄일페닐기를 나타내고, A2는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
    (상기 식에서 R4는 탄소원자수 8 내지 25의 알킬 또는 알켄일기를 나타내고, A3는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
  5. 제4항에 있어서, 세정제 용액중 (A) 및 (B)의 총량의 농도가 0.1 내지 10중량%의 범위인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제4항에 있어서, 성분(A)이 탄소원자수 4 내지 6의 알코올의 알킬렌 옥사이드 부가물인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제4항에 있어서, 상기 일반식(2)으로 표시되는 화합물이 옥틸페놀 또는 노닐페놀의 알킬렌옥사이드 부가물인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제4항에 있어서, 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물이 탄소원자수 10 내지 16의 2차 알코올의 알킬렌옥사이드 부가물인 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제4항에 있어서, 기판을 초음파를 적용하면서 세정제 용액에 침지시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제4항에 있어서, 기판을 세정제 용액과 접촉시킨 후 탈이온수로 헹구는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 유기 또는 무기 박막의 적용을 위한 기판 표면의 세정방법으로, 다음 성분(A) 및 (B)로 이루어지는 세정제 용액의 존재하에 기판 표면에 대해 상대적으로 브러시를 이동시키는 부러시 처리를 표면에 실시하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
    (A) 다음 일반식(1)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R1은 탄소원자수 1 내지 7의 알킬 또는 알켄일기 또는 페닐기를 나타내고, A1은 탄소원자수 2 내지 4의 알켄일기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬 또는 알켄일기 또는 수소원자를 나타내고, n은 1 내지 6범위의 정수이다.)
    (B) 다음 일반식(2) 및 (3)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R3는 탄소원자수 12 내지 25의 알킬페닐 또는 알켄일페닐기를 나타내고, A2는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
    (상기 식에서 R4는 탄소원자수 8 내지 25의 알킬 또는 알켄일기를 나타내고, A3는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
  12. 제11항에 있어서, 세정제 용액중 (A) 및 (B)의 총량의 농도가 0.1 내지 10중량%의 범위인 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 유기수지막을 가지는 기판표면의 세정방법으로서, 기판을 다음 성분(A) 및 (B)로 이루어지는 세정제 용액과 접촉시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
    (A) 다음 일반식 (1)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R1은 탄소원자수 1 내지 7의 알킬 또는 알켄일기 또는 페닐기를 나타내고, A1은 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬 또는 수소원자를 나타내고, n은 1 내지 6범위의 정수이다.)
    (B) 다음 일반식(2) 및 (3)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R3는 탄소원자수 8 내지 25의 알킬 또는 알켄일기를 나타내고, A3는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
    (상기 식에서 R4는 탄소원자수 12 내지 25의 알킬페닐 또는 일켄일페닐기 나타내고, A2는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
  14. 제13항에 있어서, 세정제 용액중 (A) 및 (B)의 총량의 농도가 0.1 내지 10중량%의 범위인 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제13항에 있어서, 성분(A)이 탄소원자수 4 내지 6의 알코올의 알킬렌 옥사이드 부가물인 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제13항에 있어서, 상기 일반식(2)으로 표시되는 화합물이 옥틸페닐 또는 노닐페놀의 알킬렌옥사이드 부가물인 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제13항에 있어서, 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물이 탄소원자수 10 내지 16의 2차 알코올의 알킬렌기옥사이드 부가물인 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제13항에 있어서, 기판을 초음파를 적용하면서 세정제 용액에 침지시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제11항에 있어서, 기판을 세정제 용액과 접촉시킨 후 탈이온수로 헹구는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 유기수지막을 가지는 기판 표면의 세정방법으로서, 다음 성분(A) 및 (B)로 이루어지는 세정제 용액의 존재하에 기판 표면에 대해 상대적으로 브러시를 이동시키는 부러시 처리를 표면에 실시하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
    (A) 다음 일반식(1)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물
    (상기 식에서 R1은 탄소원자수 1 내지 7의 알킬 또는 일켄일기 또는 페닐기를 나타내고, A1은 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 6의 알킬 또는 알켄일기 또는 수소원자를 나타내고, n은 1 내지 6범위의 정수이다.)
    (B) 다음 일반식(2) 및 (3)으로 표시되는 화합물로 구성되는 군에서 선택된 화합물.
    (상기 식에서 R3는 탄소원자수 12 내지 25의 알킬페닐 또는 알켄일페닐기를 나타내고, A2는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
    (상기 식에서 R4는 탄소원자수 8 내지 25의 알킬 또는 알켄일기를 나타내고, A3는 탄소원자수 2 내지 4의 알킬렌기를 나타내고, m은 5 내지 25범위의 정수이다.)
  21. 제20항에 있어서, 세정제 용액중 (A) 및 (B)의 총량의 농도가 0.1 내지 10중량%의 범위인 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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