KR970077236A - 광로 조절 장치의 평탄화 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액츄에이터의 토폴러지를 개선하기 위한 광로 조절 장치의 평탄화 방법에 관한 것으로서, 복수개의 능동 소자가 매트릭스 구조로 형성된 구동 기판의 상부에 보호층을 형성시키는 제1단계와, 상기 보호층의 상부에 식각 스톱층을 형성시키는 제2단계와, 상기 식각 스톱층의 상부에 폴리머로 이루어진 평탄화층을 형성시키는 제3단계와, 상기 평탄화층의 상부를 화학적 기계 연마 공정에 의하여 평탄화 하는 제4단계로 이루어진 방법이나 광로 조절 장치의 액츄에이터가 형성될 부분을 평탄화 함으로써, 액츄에이터의 상부 전극을 평탄한 상태로 제공할 수 있을 뿐만 아니라 소정 형성의 액츄에이터를 형성시킬 때 액티브 매트릭스를 구성하는 식각스톱층이 화학적 손상을 받는 것을 방지시켜서 광로 조절 장치의 성능 및 신뢰성을 향상시킨다.

Description

광로 조절 장치의 평탄화 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도 (가) 내지 (라)는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 평탄화 방법을 순차적으로 도시한 공정도.

Claims (5)

  1. 액츄에이터의 토플러지를 개선하기 위한 광로 조절 장치의 평탄화 방법에 있어서, 복수개의 능동 소자가 매트릭스 구조로 형성된 구동 기판의 상부에 보호층을 형성시키는 제1단계; 상기 보호층의 상부에 식각 스톱층을 형성시키는 제2단계; 상기 식각 스톱층의 상부에 폴리머로 이루어진 평탄화층을 형성시키는 제3단계와; 상기 평탄화층의 상부를 화학적 기계 연마 공정에 의하여 평탄화 하는 제4단계로 이루어진 광로 조절 장치의 평탄화 방법을 제공한다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 평탄화층은, 점성이 60%이상인 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 광로 조절장치의 평탄화 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 평탄화층은, 아쿠폴로(ACCUFLO)로 이루어진 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 평탄화층은, 스핀 온 폴리머(SOP)공정에 의해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
  5. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 평탄화층은, 화학 기계 연마 공정에 의하여 평탄화되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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