KR970077288A - 세정용액 및 이를 이용한 세정방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 소자 또는 액정표시소자용 세정용액 및 이를 이용한 세정방법에 관한 것으로서, 본 발명의 세정용액은 0.01-20부피%의 플루오르화수소, 50-99.8부피%의 알콜 및 0.01-50부피%의 탈이온수를 포함한다. 본 발명에 따른 세정용액은 폴리실리콘층의 세정 및 폴리실리콘층과 절연층이 공존할 경우의 세정에 바람직하게 적용될 수 있는데, 유기 및 무기성 오염물질에 대한 세정 효과 및 세정후의 재부착 방지 효과가 우수하여 콘택홀 형성후, 확산 공정 이전 또는 사진식각 공정 이전의 세정 공정시에 바람직하게 사용될 수 있으며, 특히 세정후에도 균일한 콘택홀 프로파일을 제공함으로써 반도체 소자 또는 액정표시소자의 성능 및 수율 향상에 기여할 수 있다.

Description

세정용액 및 이를 이용한 세정방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 세정용액을 이용하여 세정된 콘택홀의 단면도이다.

Claims (10)

  1. 0.01-20부피%의 플루오르화수소 50-99.8부피%의 알콜 및 0.01-49.9부피%의 탈이온수를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자(LCD : Liquid Crystal Device)용 세정용액.
  2. 제1항에 있어서, 상기 알콜이 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알콜 또는 그의 혼합물인 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자용 세정용액
  3. 제2항에 있어서, 상기 알콜이 이소프로필 알콜인 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자용 세정용액.
  4. 제1항에 있어서, 반도체 소자 또는 액정표시소자의 기판을 건식식각하여 도전층을 노출시키는 콘택홀 형성 공정 이후에 실시되는 세정 공정에서 이용되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자용 세정용액.
  5. 제1항에 있어서, 반도체 소자 또는 액정표시소자의 기판 표면에 열산화막을 형성하기 이전에 실시되는 세정 공정에서 이용되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자용 세정용액.
  6. 제1항에 있어서, 감광막 패턴을 형성하는 사진식각 공정 이전에 실시되는 반도체 소자 또는 액정표시소자의 기판 세정공정에서 이용되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자용 세정용액.
  7. 제1항에 있어서, 폴리실리콘막을 노출시키는 공정 이후에 실시되는 반도체 소자 또는 액정표시소자의 기판 세정공정에서 이용되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자용 세정용액.
  8. 반도체 소자 또는 액정표시소자의 세정방법에 있어서, 0.01-20부피%의 플루오르화수소, 50-99.8부피%의 알콜 및 0.01-49부피%의 탈이온수를 포함하는 세정용액으로 상기 반도체 소자 또는 액정표시소자의 표면을 세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자의 세정방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 알콜이 메탄올, 에탄올 이소프로필알콜 또는 그의 혼합물인 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자의 세정방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 알콜이 이소프로필알콜인 것을 특징으로 하는 반도체 소자 또는 액정표시소자의 세정방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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