KR970077405A - 반도체 장비의 패턴 정렬 검사장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 소자의 제조공정에서 웨이퍼의 패턴 정렬을 검사하는 반도체 소자의 패턴정렬 검사장치를 개시한다. 이 장치는 웨이퍼에 형성될 패턴을 소정 크기로 세분화한 영상을 저장하는 영상 저장부와, 상기 웨이퍼에 형성된 각 패턴을 소정 크기로 세분화한 영상의 명암을 감지하는 영상 감지부와, 상기 영상 감지부에서 감지된 세분화된 영상을 상기 영상 저장부에 저장된 세분화된 영상과 비교하는 영상 비교부와, 상기 비교부의 비교결과에 따라 정렬 상태를 판정하는 정렬 판정부를 포함한다.

Description

반도체 장비의 패턴 정렬 검사장치.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에 따른 패턴 정렬 검사장치의 블록 구성도.
제2도는 제1도의 실시예에 따른 장치에서 영상감지센서의 설치를 위한 화소 분할 평면도.
제3도는 제1도의 실시예에 따른 장치에서 결함감지센서의 설치를 위한 화소 분할 평면도.

Claims (5)

  1. 웨이퍼에 형성될 패턴을 소정 크기로 세분화한 영상을 저장하는 영상 저장부와, 상기 웨이퍼에 형성된 각 패턴을 소정 크기로 세분화한 영상의 명암을 감지하는 영상 감지부와, 상기 영상 감지부에서 감지된 세분화된 영상을 상기 영상 저장부에 저장된 세분화된 영상과 비교하는 영상 비교부와, 상기 비교부의 비교결과에 따라 정렬 상태를 판정하는 정렬 판정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자의 패턴 정렬 검사장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 영상 감지부는 감지영역을 소정 면적으로 세분화하고, 그 세분화된 각각에 대하여 패턴의 명암을 감지하는 명암감지센서를 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패턴 정렬 검사장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 영상 감지부의 감지영역은 1,000×1,000개로 세분화하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패턴 정렬 검사장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 영상 감지부의 감지영역은 500×500개로 세분화하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패턴 정렬 검사장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 영상 감지부의 감지 명암은 밝기에 따라서 1부터 1,000까지로 분류하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패턴 정렬 검사장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100607410B1 (ko) * 2004-07-15 2006-08-02 삼성전자주식회사 기판 정렬 방법 및 장치, 이를 이용한 기판의 결함 검사방법 및 장치
US7155366B2 (en) 2003-12-01 2006-12-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for inspecting patterns on wafers
KR100782498B1 (ko) * 2006-11-24 2007-12-05 삼성전자주식회사 마스크 패턴 매칭방법 및 이를 사용하는 마스크 패턴매칭장치
KR20250071397A (ko) * 2023-11-15 2025-05-22 주식회사 지에스에프솔루션 웨이퍼 와블링 감지 방법 및 웨이퍼 와블링 감지 시스템

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