LT4806B - Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas - Google Patents
Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas Download PDFInfo
- Publication number
- LT4806B LT4806B LT1999124A LT99124A LT4806B LT 4806 B LT4806 B LT 4806B LT 1999124 A LT1999124 A LT 1999124A LT 99124 A LT99124 A LT 99124A LT 4806 B LT4806 B LT 4806B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- dielectric
- solution
- water
- treated
- articles
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N copper monosulfide Chemical compound [Cu]=S BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- RBORURQQJIQWBS-QVRNUERCSA-N (4ar,6r,7r,7as)-6-(6-amino-8-bromopurin-9-yl)-2-hydroxy-2-sulfanylidene-4a,6,7,7a-tetrahydro-4h-furo[3,2-d][1,3,2]dioxaphosphinin-7-ol Chemical compound C([C@H]1O2)OP(O)(=S)O[C@H]1[C@@H](O)[C@@H]2N1C(N=CN=C2N)=C2N=C1Br RBORURQQJIQWBS-QVRNUERCSA-N 0.000 description 1
- FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-7-fluoroquinazolin-4-amine Chemical compound FC1=CC=C2C(N)=NC(Cl)=NC2=C1 FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920006051 Capron® Polymers 0.000 description 1
- 229910002567 K2S2O8 Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M [(1s,2s)-2-amino-1,2-diphenylethyl]-(4-methylphenyl)sulfonylazanide;chlororuthenium(1+);1-methyl-4-propan-2-ylbenzene Chemical compound [Ru+]Cl.CC(C)C1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)[N-][C@@H](C=1C=CC=CC=1)[C@@H](N)C1=CC=CC=C1 AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 239000004304 potassium nitrite Substances 0.000 description 1
- 235000010289 potassium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019394 potassium persulphate Nutrition 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005486 sulfidation Methods 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K trisodium;hydroxy-[[phosphonatomethyl(phosphonomethyl)amino]methyl]phosphinate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].OP(O)(=O)CN(CP(O)([O-])=O)CP([O-])([O-])=O SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas yra skirtas dielektrikų paviršių savybėms modifikuoti, t.y., šio išradimo dėka dielektrikų paviršius tampa laidus elektros srovei.
Išradimas gali būti panaudotas įvairiose pramonės srityse paruošti dielektrikų paviršius galvaninei metalizacijai, ypač nikeliavimui.
Yra žinomas elektrai laidžių dangų ant dielektrikų - plastmasių gavimo būdas (I. Stavnicer ir kt. Kaprono gaminių galvaninė metalizacija “Gamybos technologija ir organizacija”, Kijevas, 1978, Nr. 1, 56-57 psl.), kai dielektriko paviršių apdoroja vario druskos tirpalu, plauna karštu vandeniu, po to apdoroja natrio sulfido tirpalu. Procesą atlieka kambario temperatūroje.
Šiuo metodu kokybiškas elektrai laidžias dangas galima gauti kartojant aukščiau nurodytas operacijas kelis kartus. Tačiau netgi pakartojus operacijas tris kartus, reikia pajungti daug elektrai laidžių kontaktų, kai metalizuojami dideli paviršiai. Kitas šio būdo trūkumas yra tai, kad plovimui naudojamas karštas vanduo.
Dar yra žinomas elektrai laidžių dangų gavimo būdas (TSRS a.l. Nr. 1343616, kl. B 05 D 5/12,1/38, 1985), kai dielektriko paviršių apdoroja tirpale, kuriame yra 0,4 M CUSO4, 0,8 M NH3 ir 0,1 M hidrochinono, po to apdoroja fosforo rūgšties druskos - 0,002 - 0,05 M mono, di arba tri natrio, kalio arba amonio fosfato vandeniniam tirpale, plauna vandeniu ir dar apdoroja 0,005 M natrio polisulfido vandeniniame tirpale.
Ant šiuo būdu gautos vario sulfido dangos galvaninę dangą galima nusodinti tik tuo atveju, kai minėto proceso operacijos kartojamos ne mažiau kaip tris kartus. Tai prailgina proceso trukmę, dėl ko šio proceso negalima naudoti automatinio režimo linijose; taip pat padidina neproduktyvų tirpalų išnešimą dengiamuoju paviršiumi ir darbinių tirpalų atskiedimą vandeniu.
Dar yra žinomas elektrai laidžių vario sulfido dangų gavimo būdas (SU a.l. No.1762425, kl. H 05 K 3/42,3/18,1991), kai gaminius iš dielektriko merkia į vienvalenčio vario druskos tirpalą, po to į - 0,0025-0,025 M kalio persulfato arba jodo, arba kalio nitrito tirpalą, nuplauna vandeniu, po to merkia į šarminio metalo polisulfidų tirpalą.
Procesą atlieka kambario temperatūroje ir visas operacijas kartoja du kartus.
Būdo trūkumas - per ilga kokybiškos sulfidinės dangos gavimo trukmė, dėl ko šį būdą negalima naudoti tipinėse automatinio režimo galvaninėse linijose.
Artimiausias techninis sprendimas pagal esmę yra elektrai laidžių dangų gavimo būdas (TSRS a.l. Nr.980858, kl. B 05 D 5/12,1982), kai dielektriką apdoroja vario amoniakatiniame arba aminatiniame tirpale, merkia į vandenį, po to į sulfidinimo tirpalą ir nuplauna vandeniu.
J
Šio techninio sprendimo trūkumai: daugkartinis operacijų kartojimas - ne mažiau tris kartus, dėl ko sumažėja proceso panaudojimo galimybės. Be to, naudojant šį būdą, negalima gauti elektrai laidžių dangų selektyviai, t.y., tik ant dengiamų detalių iš dielektriko paviršiaus.
Uždavinys: gauti kokybiškas elektrai laidžias metalo sulfido dangas ant dielektriko paviršiaus per palyginti trumpą laiką, nekartojant tų pačių operacijų kelis kartus, kas leistų su mažesnėmis darbo ir medžiagų sąnaudomis gauti dangas tipinėse automatinio režimo galvaninėse linijose.
Kitas uždavinys: elektrai laidžias dangas gauti selektyviai, t.y., tik ant dengiamų detalių iš dielektriko paviršiaus.
Išradimo esmė yra ta, kad gaminius iš dielektriko ėsdina, po to apdoroja aminatiniame tirpale, turinčiame kobalto jonų ir amonio hidroksido arba aminų iki pH 8-12, nuplauna vandenyje ir dar apdoroja sulfidinimo tirpale.
Gaminius iš dielektriko ėsdina rūgščiame kambario tremperatūros tirpale, turinčiame MnO4 arba S20g arba JO4 arba H2O2 ir po apdorojimo metalo aminatiniame tirpale nuplauna vandenyje, parūgštintame iki pH 1-5 arba pašarmintame iki pH 9-14.
Siūlomas būdas leidžia gauti kokybiškas elektrai laidžias metalo sulfido dangas ant dielektriko paviršiaus per palyginti trumpą laiką, nekartojant tų pačių operacijų kelis kartus, t.y., su mažesnėmis darbo ir medžiagų sąnaudomis.
Siūlomą būdą galima naudoti tipinėse automatinio režimo galvaninėse linijose.
Be to, naudojant šį būdą, elektrai laidžias dangas galima gauti selektyviai, t.y., tik ant dengiamų detalių paviršiaus ir tokiu būdu išvengti izoliuotų pakabos dalių padengimo, kas svarbu toliau elektrochemiškai metalizuojant, nes gaunami minimalūs elektros energijos ir metalų, naudojamų dengimui, nuostoliai.
Sulfidinimo tirpalu gali būti natrio, kalio mono, di, tri arba tetra sulfidai.
Gaminius iš dielektriko - ABS plastmasės - 5-10 min. ėsdina tirpale, kuriame yra 13-17 M H2SO4 arba H3PO4 ir 0,05-05 M KMnO4 arba K2S2O& esant kambario temperatūrai ir nuplauna vandeniu.
Gaminius iš dielektriko - smūgiams atsparaus polistireno (SAPS) — 5-1CF min. ėsdina tirpale, kuriame yra 17 M H2SO4 ir 0,5-1 M KJO4 arba H2O2 esant kambario temperatūrai ir nuplauna vandeniu.
Po ėsdinimo gaminius 10 min. apdoroja tirpale, kuriame yra 0,01-0,25 M COSO4, C0CI2 arba CoF3 ir monoetanolamino arba trietanolamino iki pH 8-10 esant 20-25 °C temperatūrai. Po to gaminius nuplauna vandeniu, parūgštintu I^SCLarba acto rūgštimi iki pH 1-5 arba vandeniu, pašarmintu Na2CO3 arba NaOH iki pH 9-14 ir dar 30 s apdoroja tirpale, kuriame yra 0,01-0,1 M natrio arba kalio mono, di, tri arba tetra sulfidų, esant 20-25 °C temperatūrai.
Procesui pasibaigus, gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu, išdžiovina ir 10-15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kuriame yra 11,2 M NiSO4 · 7H2O; 0,15-0,2 M NiCl2 6H2O ir 0,4-0,5 M H3BO3; pradinis srovės tankis 0,3 A/dm2, kuris, sklindant nikelio dangai nuo kontakto, didėja iki 3 A/dm2, esant 30-40 °C elektrolito temperatūrai.
Elektrai laidžios sulfidinės dangos lygumą vertina iš karto po dangos nusodinimo vizualiai plika akimi dienos šviesoje dviem parametrais: lygi, nelygi.
Dangos laidumą elektrai vertina pagal elektrochemiškai nusodinamos nikelio dangos sklidimo greitį nuo kontakto cm/min. Be to dangos laidumas vertinamas pagal tai, ar po elektrocheminio nikeliavimo dielektriko paviršius pasidengė nikeliu pilnai (+) ar nepilnai (-).
Galimybė dielektriką metalizuoti selektyviai nustatoma pagal tai, ssr metalizuojant dielektriką, izoliuota pakabos dalis metalizavosi, ar ne.
Siūlomo būdo efektyvumui įvertinti buvo paruošti 6 pavyzdžiai, iš kurių 1 ir 2 yra kontroliniai, o 3-6 paruošti pagal siūlomą būdą su skirtinga tirpalo komponentų koncentracija ir skirtingais technologiniais režimais.
1,3 ir 5 pavyzdžiuose apdorojimui naudojamos plokštelės iš ABS plastmasės, kurių paviršiaus plotas 50 cm2, o 2,4 ir 6 pavyzdžiuose profiliuoti gaminiai iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS), kurių paviršiaus plotas 70 cm2.
PAVYZDYS
Plokšteles iš ABS plastmasės, kurių paviršiaus plotas 50 cm2 3 min. ėsdina tirpale, kuriame yra 4 M H2SO4, 3,5 M CrCb, esant 70 °C temperatūrai, nuplauna vandeniu ir 30 s apdoroja tirpale, kuriame yra 0,5 M CuSO4 · 5H2O ir NH4OH iki pH 9,5, esant 20 °C temperatūrai.
Po to gaminius merkia 20 s į distiliuotą vandenį ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,01 M Na2S2, esant 20 °C temperatūrai.
Po apdorojimo gaminius nuplauna šaltu vandeniu ir 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kuriame yra (M): NiSO4 7H2O - 1,2; NiCl2 6H2O - 0,2 ir H3BO3 - 0,5; pradinis srovės tankis 0,3 A/dm2, temperatūra 40 °C.
PAVYZDYS
Profiliuotus gaminius iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS), kurių paviršiaus plotas 70 cm2, 30 s ėsdina tirpale, kuriame yra 15 M H2SO4 ir 0,1 M CrO3, esant 20 °C temperatūrai, nuplauna vandeniu ir dar 30 s išlaiko emulsijoje iš ksileno (0,2 g/l) ir sintanolo (0,2 g/l), esant 20 °C temperatūrai.
Po to gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu ir 30 s apdoroja metalo aminatiniame tirpale, kuriame yra 0,5 M CuSO4· 5H2O ir monoetanolamino iki pH 9,8, esant 20 °C temperatūrai.
Ί
Po to gaminius 20 s merkia į distiliuotą vandenį ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,1 M Na2S, esant 20 °C temperatūrai.
Po to gaminius aukščiau aprašyta seka dar kartą apdoroja metalo aminatiniame ir sulfidinimo tirpaluose.
Po apdorojimų gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu ir elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš ABS plastmasės paviršių 10 minučių ėsdina kambario temperatūros tirpale, turinčiame 15M H2SO4 ir 0,05 M KMnCų.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna vandeniu ir 10 min. apdoroja tirpale, kuriame yra 0,01 M CoSO4 ir monoetanolamino iki pH 10,0, esant 20° C temperatūrai. Po to gaminius nuplauna vandenyje, parūgštintame H2SO4 iki pH 1 ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,01 M Na2S2.
Po apdorojimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu, išdžiovina ir po to elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS) paviršių 10 min. ėsdina kambario temperatūros tirpale, turinčiame 17 M H2SO4 ir 1M H2O2.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna vandeniu ir 10 min. apdoroja tirpale, kuriame yra 0,01 M C0F3 ir monoetanolamino iki pH 8,0, esant 20° C temperatūrai. Po to gaminius nuplauna vandenyje pašarmintame NaOH iki pH 14 ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,05 M K2S4.
Po apdorojimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu, išdžiovina ir po to 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš AB S plastmasės paviršių 5 min. ėsdina kambario temperatūros tirpale, turinčiame 13 M H3PO4 ir 0,5 M K2S2O8.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna vandeniu ir 10 min. apdoroja tirpale, kuriame yra 0,25 M CoCl2 ir trietanolamino iki pH 9,0, esant 20° C temperatūrai. Po to gaminius nuplauna vandenyje pašarmintame Na2CC>3 iki pH 9,0 ir 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,02 M K2S3.
Po apdorojimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu, išdžiovina ir po to 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS) paviršių 5 min. ėsdina kambario temperatūros tirpale, turinčiame 17 M H2SO4 ir 0,5 M KJO4.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna vandeniu ir 10 min. apdoroja tirpale, kuriame yra 0,01 M C0F3 ir trietanolamino iki pH 9,0, esant 20° C temperatūrai. Po to gaminius nuplauna vandenyje parūgštintame acto rūgštimi iki pH 5 ir 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,1 M Na2S.
Po apdorojimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu, išdžiovina ir po to 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
Duomenys apie gautų dangų savybes pateikti lentelėje.
Claims (4)
1. Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas, kai gaminius iŠ dielektriko ėsdina, po to apdoroja metalo aminatiniame tirpale, nuplauna vandenyje ir dar apdoroja sulfidinimo tirpale, besiskiriantis tuo, kad po ėsdinimo gaminius iš dielektriko apdoroja metalo aminatiniame tirpale, turinčiame kobalto jonų ir aminų iki pH 8-10.
2. Būdas pagal 1 punktą, besiskiriantis tuo, kad gaminius iš dielektriko ėsdina rūgščiame kambario temperatūros tirpale, turinčiame MnCZi arba SiOg2-, arba JO4, arba H2O2.
3. Būdas pagal 1 punktą, besiskiriantis tuo, kad gaminius iš dielektriko apdoroja metalo aminatiniame tirpale, kuriame yra monoetanolamino arba trietanolamino.
4. Būdas pagal 1 punktą , besiskiriantis tuo, kad gaminius iš dielektriko po apdorojimo metalo aminatiniame tirpale nuplauna vandenyje, parūgštintame iki pH 1-5 arba pašarmintame iki pH 9-14.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT1999124A LT4806B (lt) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT1999124A LT4806B (lt) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| LT99124A LT99124A (lt) | 2001-04-25 |
| LT4806B true LT4806B (lt) | 2001-06-25 |
Family
ID=19722123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LT1999124A LT4806B (lt) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| LT (1) | LT4806B (lt) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU980858A1 (ru) | 1981-07-23 | 1982-12-15 | Вильнюсский государственный университет им.В.Капсукаса | Способ получени электропроводных покрытий |
| SU1762425A1 (ru) | 1991-01-22 | 1992-09-15 | Институт Химии И Химической Технологии Литовской Ан | Способ получени электропровод щего покрыти сульфида меди на диэлектрической подложке |
-
1999
- 1999-10-19 LT LT1999124A patent/LT4806B/lt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU980858A1 (ru) | 1981-07-23 | 1982-12-15 | Вильнюсский государственный университет им.В.Капсукаса | Способ получени электропроводных покрытий |
| SU1762425A1 (ru) | 1991-01-22 | 1992-09-15 | Институт Химии И Химической Технологии Литовской Ан | Способ получени электропровод щего покрыти сульфида меди на диэлектрической подложке |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| I. STAVNICER ET AL.: "Kaprono gaminių galvaninė metalizacija", GAMYBOS TECHNOLOGIJA IR ORGANIZACIJA, 1978, pages 56 - 57 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| LT99124A (lt) | 2001-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3664933A (en) | Process for acid copper plating of zinc | |
| US4889602A (en) | Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating | |
| US5336391A (en) | Method for producing a circuit board material employing an improved electroplating bath | |
| US4601957A (en) | Method for producing a thin tin and nickel plated steel sheet for welded can material | |
| DE3116743A1 (de) | "verfahren zum vorbehandeln eines nicht leitfaehigen substrats fuer nachfolgendes galvanisieren" | |
| US4904354A (en) | Akaline cyanide-free Cu-Zu strike baths and electrodepositing processes for the use thereof | |
| US3684666A (en) | Copper electroplating in a citric acid bath | |
| EP0079356B1 (en) | A method for chemically stripping platings including palladium and at least one of the metals copper and nickel and a bath intended to be used for the method | |
| GB1122795A (en) | Improvements in corrosion-resisting decorative chromium electrolytic deposits | |
| JP3052515B2 (ja) | 無電解銅めっき浴及びめっき方法 | |
| LT4806B (lt) | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas | |
| KR100816667B1 (ko) | 유전체 표면에 전도체 층을 형성시키는 방법 | |
| CN110344036B (zh) | 一种铍铝合金表面化学镀镍磷合金的方法 | |
| EP1483430B1 (en) | Non-cyanide copper plating process for zinc and zinc alloys | |
| LT4713B (lt) | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas | |
| KR100597466B1 (ko) | 전도성섬유의 치환도금방법 | |
| EP0010989B1 (en) | Method of plating aluminium | |
| US2966448A (en) | Methods of electroplating aluminum and alloys thereof | |
| EP3877571A1 (en) | Satin copper bath and method of depositing a satin copper layer | |
| KR100434968B1 (ko) | 마그네슘 합금에 양극산화피막을 형성한 후 그 위에동도금층 및 니켈도금층을 전해도금으로 형성하는 방법 | |
| KR100402730B1 (ko) | 마그네슘합금에 동-니켈 도금층을 전해 도금으로 형성하는방법 | |
| EP2218804A1 (en) | Copper-zinc alloy electroplating bath and plating method using the copper-zinc alloy electroplating bath | |
| DE2026571C3 (de) | Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Kupfer auf Eisen- oder Stahloberflächen | |
| KR100996230B1 (ko) | 통신 커넥터의 표면처리방법 | |
| JP2012504704A (ja) | 亜鉛及び亜鉛合金ダイカスト部品のための新規シアン化物非含有電気めっき方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM9A | Lapsed patents |
Effective date: 20051019 |