NL188435C - Werkwijze voor het bedrijven van een veldeffecttransistor met begraven kanaal. - Google Patents

Werkwijze voor het bedrijven van een veldeffecttransistor met begraven kanaal.

Info

Publication number
NL188435C
NL188435C NLAANVRAGE8402474,A NL8402474A NL188435C NL 188435 C NL188435 C NL 188435C NL 8402474 A NL8402474 A NL 8402474A NL 188435 C NL188435 C NL 188435C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
operating
field effect
effect transistor
buried channel
buried
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE8402474,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL188435B (nl
NL8402474A (nl
Original Assignee
American Telephone & Telegraph
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by American Telephone & Telegraph filed Critical American Telephone & Telegraph
Publication of NL8402474A publication Critical patent/NL8402474A/nl
Publication of NL188435B publication Critical patent/NL188435B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL188435C publication Critical patent/NL188435C/xx

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D48/00Individual devices not covered by groups H10D1/00 - H10D44/00
    • H10D48/387Devices controllable only by the variation of applied heat
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • H10D30/637Lateral IGFETs having no inversion channels, e.g. buried channel lateral IGFETs, normally-on lateral IGFETs or depletion-mode lateral IGFETs
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D62/00Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
    • H10D62/80Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers characterised by the materials
    • H10D62/83Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers characterised by the materials being Group IV materials, e.g. B-doped Si or undoped Ge
    • H10D62/834Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers characterised by the materials being Group IV materials, e.g. B-doped Si or undoped Ge further characterised by the dopants
NLAANVRAGE8402474,A 1983-08-12 1984-08-10 Werkwijze voor het bedrijven van een veldeffecttransistor met begraven kanaal. NL188435C (nl)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US52248783A 1983-08-12 1983-08-12
US52248783 1983-08-12
US55050683 1983-11-10
US06/550,506 US4472727A (en) 1983-08-12 1983-11-10 Carrier freezeout field-effect device

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL8402474A NL8402474A (nl) 1985-03-01
NL188435B NL188435B (nl) 1992-01-16
NL188435C true NL188435C (nl) 1992-06-16

Family

ID=27060828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE8402474,A NL188435C (nl) 1983-08-12 1984-08-10 Werkwijze voor het bedrijven van een veldeffecttransistor met begraven kanaal.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4472727A (it)
JP (1) JPH069206B2 (it)
CA (1) CA1201536A (it)
DE (1) DE3429577A1 (it)
FR (1) FR2550662B1 (it)
GB (1) GB2144913B (it)
IT (1) IT1176606B (it)
NL (1) NL188435C (it)
SE (1) SE458245B (it)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5126830A (en) * 1989-10-31 1992-06-30 General Electric Company Cryogenic semiconductor power devices
US5347168A (en) * 1992-08-21 1994-09-13 American Superconductor Corporation Cryogenic electronics power supply and power sink
US5612615A (en) * 1992-08-21 1997-03-18 American Superconductor Corporation Cryogenic electronics power supply
WO1994015364A1 (en) * 1992-12-29 1994-07-07 Honeywell Inc. Depletable semiconductor on insulator low threshold complementary transistors
DE10061529A1 (de) * 2000-12-11 2002-06-27 Infineon Technologies Ag Feldeffekt gesteuertes Halbleiterbauelement und Verfahren
CN103940885B (zh) * 2014-03-18 2017-11-28 复旦大学 离子敏感场效应晶体管及其制备工艺
CA3159105A1 (en) * 2019-10-28 2021-05-06 Psiquantum, Corp. Electronic components employing field ionization

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL6407158A (it) * 1963-06-24 1964-12-28
US3512012A (en) * 1965-11-16 1970-05-12 United Aircraft Corp Field effect transistor circuit
US3500137A (en) * 1967-12-22 1970-03-10 Texas Instruments Inc Cryogenic semiconductor devices
US3502908A (en) * 1968-09-23 1970-03-24 Shell Oil Co Transistor inverter circuit
US3644803A (en) * 1969-03-18 1972-02-22 Us Air Force Electrical connections to low temperatures
DE2619663C3 (de) * 1976-05-04 1982-07-22 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Feldeffekttransistor, Verfahren zu seinem Betrieb und Verwendung als schneller Schalter sowie in einer integrierten Schaltung
US4129880A (en) * 1977-07-01 1978-12-12 International Business Machines Incorporated Channel depletion boundary modulation magnetic field sensor
US4274105A (en) * 1978-12-29 1981-06-16 International Business Machines Corporation MOSFET Substrate sensitivity control
JPS5720485A (en) * 1980-07-11 1982-02-02 Mitsubishi Electric Corp Cryogenic refrigerating plant
JPS5863168A (ja) * 1981-10-12 1983-04-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電界効果型半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE3429577A1 (de) 1985-02-28
US4472727A (en) 1984-09-18
GB2144913B (en) 1987-03-25
NL188435B (nl) 1992-01-16
IT8422297A0 (it) 1984-08-10
SE8403943L (sv) 1985-02-13
JPS6055667A (ja) 1985-03-30
IT1176606B (it) 1987-08-18
JPH069206B2 (ja) 1994-02-02
GB2144913A (en) 1985-03-13
SE458245B (sv) 1989-03-06
FR2550662A1 (fr) 1985-02-15
SE8403943D0 (sv) 1984-08-01
CA1201536A (en) 1986-03-04
FR2550662B1 (fr) 1988-12-23
GB8420184D0 (en) 1984-09-12
NL8402474A (nl) 1985-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL186831C (nl) Werkwijze voor het isoleren van een pijp.
NL194832B (nl) Werkwijze voor het vormen van een dunne-halfgeleiderfilm.
NL186984C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een transistorinrichting.
NL193037B (nl) Werkwijze en inrichting voor het bewerken van spraak.
NL191424B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde schakeling.
NL191796C (nl) Werkwijze voor het verstevigen van een slappe bodem.
NL191587C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geïntegreerde-keten-inrichting.
DE69102351D1 (de) Heteroübergangseffekttransistor mit vergrabenem Kanal.
NL187373C (nl) Werkwijze voor vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL188236B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van polypropeenspinvliezen met lage valcoeficient.
NL181338C (nl) Controle-inrichting voor het onderzoeken van brieven.
NL189102C (nl) Transistor en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7902621A (nl) Werkwijze voor het vormen van een aftakdichting.
NL188774C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een samengestelde halfgeleiderinrichting.
NL189867B (nl) Werkwijze voor het herbestraten van met straatstenen verharde wegen en inrichting voor toepassing van de werkwijze.
NL189444C (nl) Werkwijze voor het behandelen van tabak.
NL188435C (nl) Werkwijze voor het bedrijven van een veldeffecttransistor met begraven kanaal.
NL194524B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een dunne-filmtransistor.
NL189425C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een spiraalvormig gewikkelde pakking.
NL7902584A (nl) Werkwijze en inrichting voor het koelen van een draad.
NL185375C (nl) Inrichting voor het epitaxiaal aanbrengen van een laag halfgeleidermateriaal.
NL189317C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van staafvormig materiaal.
NL184057C (nl) Werkwijze voor het saneren van een verontreinigd milieu.
NL183434C (nl) Werkwijze voor het expanderen van tabak.
NL190203B (nl) Rolleger voor buisleidingen.

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee