NL7412033A - Inrichting voor het justeren van halfgeleider- schijven ten opzichte van een bestralingsmasker, voor het vormen van een struktuur in fotolak door bestraling met roentgenstralen. - Google Patents

Inrichting voor het justeren van halfgeleider- schijven ten opzichte van een bestralingsmasker, voor het vormen van een struktuur in fotolak door bestraling met roentgenstralen.

Info

Publication number
NL7412033A
NL7412033A NL7412033A NL7412033A NL7412033A NL 7412033 A NL7412033 A NL 7412033A NL 7412033 A NL7412033 A NL 7412033A NL 7412033 A NL7412033 A NL 7412033A NL 7412033 A NL7412033 A NL 7412033A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
irradiation
rays
regard
forming
mask
Prior art date
Application number
NL7412033A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19732346720 external-priority patent/DE2346720C3/de
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7412033A publication Critical patent/NL7412033A/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073—Alignment marks and their environment
    • G03F9/7076—Mark details, e.g. phase grating mark, temporary mark

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL7412033A 1973-09-17 1974-09-10 Inrichting voor het justeren van halfgeleider- schijven ten opzichte van een bestralingsmasker, voor het vormen van een struktuur in fotolak door bestraling met roentgenstralen. NL7412033A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19732346720 DE2346720C3 (de) 1973-09-17 Vorrichtung zum Justieren von Halbleiterscheiben bezüglich einer Bestrahlungsmaske

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7412033A true NL7412033A (nl) 1975-03-19

Family

ID=5892800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7412033A NL7412033A (nl) 1973-09-17 1974-09-10 Inrichting voor het justeren van halfgeleider- schijven ten opzichte van een bestralingsmasker, voor het vormen van een struktuur in fotolak door bestraling met roentgenstralen.

Country Status (9)

Country Link
JP (1) JPS5057656A (2)
BE (1) BE820006A (2)
CH (1) CH572664A5 (2)
DK (1) DK481574A (2)
FR (1) FR2244261A1 (2)
IT (1) IT1021303B (2)
LU (1) LU70922A1 (2)
NL (1) NL7412033A (2)
SE (1) SE7411634L (2)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5267570A (en) * 1975-12-03 1977-06-04 Hitachi Ltd Pattern printing device
JPS5313879A (en) * 1976-07-23 1978-02-07 Nec Corp Silicon mask for x-ray exposure and its production
DE2942990A1 (de) * 1979-10-24 1981-05-07 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur automatischen justierung von strukturen in zwei parallelen ebenen, insbesondere bei der herstellung von integrierten halbleiterschaltungen
DD151231A1 (de) * 1980-06-02 1981-10-08 Dietmar Klingenfeld Optische anordnung fuer projektionslithografische einrichtungen
GB2089524B (en) * 1980-12-17 1984-12-05 Westinghouse Electric Corp High resolution lithographic process
JPS61111535A (ja) * 1985-09-30 1986-05-29 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Ｘ線露光方法
JPS61111534A (ja) * 1985-09-30 1986-05-29 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Ｘ線露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
LU70922A1 (2) 1975-02-24
JPS5057656A (2) 1975-05-20
DK481574A (2) 1975-06-02
DE2346720A1 (de) 1975-04-03
CH572664A5 (2) 1976-02-13
DE2346720B2 (de) 1975-07-17
SE7411634L (2) 1975-03-18
IT1021303B (it) 1978-01-30
FR2244261A1 (en) 1975-04-11
BE820006A (fr) 1975-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7410284A (nl) Energie absorberende inrichting voor een toestel voor het uitvoeren van lichaamsoefeningen.
NL160115C (nl) Inrichting voor de controle van een bundel ioniserende straling, in het bijzonder betreffende de homogeniteit.
NL7503333A (nl) Inrichting voor het benutten van zon-energie voor het verwarmen van een gebouw.
NL161302C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL157613B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een onder anaerobe omstandigheden polymeriseerbare hechtmiddelsamenstelling.
NL181463B (nl) Lichtgevoelig element voor het vormen van een positief doorzichtsbeeld door zilverdiffusieoverdracht.
NL7609312A (nl) Inrichting voor het absorberen van zonne-energie.
NL7414007A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL173858C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een bifunctioneel fluorhoudend polymeer.
NL167359C (nl) Inrichting voor het continu behandelen van een poly- meer.
NL7511940A (nl) Ritssluiting met een orgaan voor het openen in geval van nood.
NL7409724A (nl) Inrichting voor het behandelen van een hete glazen plaat.
NL156327B (nl) Inrichting voor het continu in kleurnuances verven van een warenbaan.
NL7413791A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL161920C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting, waarbij de roostervervorming t.g.v. doteerstoffen wordt gecompenseerd.
NL164613C (nl) Inrichting voor het besturen van de elektrolyse in een keten van n elektrolyse-cellen.
NL145589B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een onder invloed van ioniserende straling hardbare lak.
NL144288B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een onder invloed van ioniserende straling hardbare lak, alsmede voor het bekleden van een substraat.
NL162710C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ladder en een met behulp van de werkwijze vervaardigde ladder.
NL167976C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een polymeer.
NL147363B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van een gelamineerde structuur.
NL145570B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een onder invloed van ioniserende straling hardbare lak, alsmede voor het bekleden van een substraat.
NL7902844A (nl) Inrichting voor het opnemen van ten minste een doos.
NL176569C (nl) Werkwijze voor het bereiden van geneesmiddelen met een diuretische activiteit, alsmede werkwijze ter bereiding van daarvoor geschikte actieve verbindingen.
NL153024B (nl) Werkwijze voor het diffunderen van een doteringsstof in halfgeleiderplaatjes en halfgeleiderplaatjes, verkregen door toepassing van de werkwijze.