PL110465B1 - Method of electrolytic deposition of ferrous alloys with nickel and/or cobalt - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób elektrolity¬ cznego osadzania stopów zelaza z niklem i/lub ko¬ baltem, polegajacy na przepuszczaniu pradu z ano¬ dy do katody przez kwasny, wodny roztwór plate¬ rujacy o ulepszonym siadzie, zawierajacy co naj¬ mniej jeden zwiazek zelaza i niklu lub 'kobaltu lub % niklu i kobaltu, stanowiace zródlo jonów niklu, ko¬ baltu i zelaza dla elektrolitycznie osadzonego sto¬ pu nikiel-zelazo lub nikiel-kobalt-zelazo. Takie sto¬ py sa porównywalne z powlokami skladajacymi sie w 100% z niklu, w sensie polysku, niwelowania i odpornosci na korozje i stanowiaca odpowiednie podloze do osadzania chromu.Wiadomo, ze przy elektrolitycznym osadzaniu niklu-zelaza obecnosc nadmiernych ilosci trójwar¬ tosciowego zelaza, które latwo tworzy sie zwlasz¬ cza w kapielach mieszanych powietrzem, prowadzi do powlok o zlych wlasciwosciach, skutkiem wy¬ tracania zasadowych soli zelaza w filmie katodo¬ wym i w objetosci roztworu. W celu zmniejszenia aktywnosci trójwartosciowego zelaza w roztworze platerujacym i zapobiezenia tego rodzaju proble¬ mom, dotychczas stosowane roztwory, z których osadza sie nikiel-zelazo, zawieraja czynnik kom¬ pleksujacy zelazo — inizsize alifatyczne hydroksy- kwasy o 2h^8 atomach wegla, jak kwas cytrynowy (Brown, opis patentowy St. Zjedn. Ameryki nr 2 800 440 i Clausse i inni, opis patentowy St. Zjedn.Ameryki nr 3 806 429), kwas glulkonowy, glukohep- tonian, kwas glikolowy i podobne (Clauss i Trem- 15 20 25 mel, opis patentowy St. Zjedn. Ameryki nr 3 795 591).Inny sposób polega na redukcji zelaza trójwartos¬ ciowego do dwuwartosoiowego. Tremimel sto¬ suje w tym celu redukujacy isacharyd (opis patentowy St. Zjedn. Ameryki nr 3 974 044), a Koretzky (opis patentowy St. Zjedn. Ame¬ ryki nr 3 354 059) kwas askorbinowy lub izo- askorbinowy. Jednakze zwiazki te moga ograniczac efekt niwelowania i ulegac rozkladowi, z wytwo¬ rzeniem nierozpuszczalnych soli degradacyjnych z jonami niklu. Produkty te wytracaja sie z roztworu platerujacego i zbieraja na workach anodowych i filtrze, powodujac ich zatykanie, co z kolei wy¬ woluje problemy polaryzacji anodowej i przerw przeplywu przez filtry. Poniewaz powyzsze czyn¬ niki kompleksujace i redukujace przeciwdzialaja niwelowaniu, w przypadku slabo polerowanego lub nie polerowanego metalu podloza zwieksza sie wy¬ datek metalu osadzanego, a to z kolei przedluza czas platerowania i zwieksza koszty. Ilosc czynni¬ ka kompleksujacego moglaby ulec zmniejszeniu przy stosowaniu warunków mniej faworyzujacych powstawanie jonów zelazowych, np. przy prowa¬ dzeniu platerowania w kapieli o nizszej wartosci pH. Jednakze nizsza wartosc pH jeszcze bardziej ogranicza efekt niwelowania, co dalej zaostrza problem.Przedmiotem wynalazku jest sposób do elektroli¬ tycznego osadzania blyszczacych powlok stopu ni¬ kiel-zelazo lub kobalt-zelazo o wysokiej zawartosci 110 465110 465 3 zelaza, zwykle rzedu 15 do 70%, o wyzszym stopniu niwelacji, przy nizszej wartosci pH, nie dajace nie¬ rozpuszczalnych degradacyjnych soli z jonami niklu i osadów zasadowych soli zelaza.Takie powloki stanowia odpowiednie podloze do elektrolitycznego osadzania dekoracyjnego lub funk¬ cjonalnego chromu, zwiekszajacego odpornosc na korozje metalu podstawowego, jak stal. W tym przypadku chromowanie moze byc, lecz nie musi, poprzedzone elektrolitycznym nalozeniem warstwy pólblyszczacego niklu, miedzi itp.Wodne roztwory platerujace stosowane w sposo¬ bie wedlug wynalazku zawieraja rozpuszczalne zwiazki zelaza, stanowiace zródlo jonów zelaza, roz¬ puszczalne zwiazki niklu, "stanowiace zródlo'jonów niklu i/lub rozpuszczalne zwiazki kobaltu, Stano¬ wiace zródlo jonów kobaltu. Choc zelazo znajduje sie w kapieli glównie w korzystnej postaci dwu- wartosciowych jonów, roztwór zawiera równiez pewna ilosc jonów zelazowych, powstalych wsku¬ tek utleniania jonów zelazowych powietrzem iAub anodowo. Elektrolit zawiera równiez aromatyczny zwiazek nizej opisanego typu, dzialajacy jako prze- eiwutleniacz, czynnik redukujacy lub czynnik utle¬ niajacy. Kapiel moze zawierac oprócz tego odpo¬ wiednie dodatki do kapieli nikiel-chrom klasy I, jak zwiazki sulfotlenowe, w tym aromatyczne sul¬ foniany, alifatyczne, olefinowo lub acetylenowo nie¬ nasycone sulfoniany, sulfonamidy lub sulfonimidy.Lacznie ze zwiazkami sulfotlenowymi mozna sto¬ sowac dodatki klasy II — czynniki zwiekszajace polysk powloki, jak zwiazki acetylenowe, heterocy¬ kliczne zwiazki azotowe, nitryle, barwniki itp.Jako czynnik kompleksujacy stosuje sie w spo¬ sobie wedlug wynalazki* dwuhydroksybenzen, ewentualnie podstawiony grupami zwiekszajacymi rozpuszczalnosc w wodzie, jak karboksylowa <—COOH) lub sultonowa <—SO3H). Typowy zwia¬ zek tej 4slasy psrzedstawia wzór 1, w którym R oz¬ nacza atom wodoru Juto grupe sulfonowa lub kar¬ boksylowa, a n oznacza liczbe calkowita 0, 1 lub 2. Rdzen aromatyczny zwiazku moze byc ewentu¬ alnie wielopierscieniowy. Grupa karboksylowa lub sulfonowa moze byc w postaci wolnej lub w po¬ staci rozpuszczalnej w wodzie soli, jak sól metalu alkalicznego. Zwiazek moze miec równiez inne, obojetne w karpieli podstawniki, jak atomy chlo¬ rowca, grupy alkoksylowe itp.Typowymi zwiazkami o ogólnym wzorze 1 sa: o-dwuhydroksybenzen {wzór 2), m-dwuhydroksy¬ benzen {wzór 3), p-rdwuhydroksybenzen (wzór 4), kwas Or-dwuhydroksybenz«nodwusulfonowy (wzór 5L kwas o-dwiihydroksybenzenosulfonowy (wzór 6) i kwas 2,4^^wuhydroksybenzoesowy {wzór ?).Szczególnie uzyteczny jeat o^dwuhydToksybenzen i kwas o^dwuhydroksybeJiizcnodwusulfonowy oraz sole tych zwiazków.W celu osadzenia stopu zelaza z niklem lub ko¬ baltem sposobem wedlug wynalazku, sporzadza sie kapiel zawierajaca sole niklu, jak siarczan i/lub chlorek, W stezeniu odpowiednio 5O-^30G i 100—2?5 g/litr. Zelazo mozna wprowadzic do roztworu w drodze chemdeynego lub e^ktro^enalezneg© utle¬ niani 3elaz»y0l| an©4 lub w postaci siarczanu lub chlorku tafeugreegfe Sole zslfczawe stosuja sie zwy- 4 kle w stezeniu 5—100 g/litr. Zelazo znajduje sie w kapieli glównie w korzystnej postaci dwuwartos- ciowych jonów, jednak pewna jego czesc ma po¬ stac jonów trójwartosciowych, wskutek utlenienia 5 zelaza dwuwartosciowego, powietrzem lub anodo¬ wo. Zelazo trójwartosciowe moze byc obecne w ilo¬ sci od kilku czesci na milion do okolo 5 g/litr, ko¬ rzystnie ponizej 1 g/litr. Wynalazek moze obejmo¬ wac równiez kapiel niklu zawierajaca jako za- 10 nieczyszczenie zelazo zelazowe.Jako przeciwutleniacze i czynniki kompleksujace stosuje sie przede wszystkim o-dwuhydroksyben- zen i kwas o-dwuhydroksybenzenodwusulfonowy, w ilosci 1—50 g/litr. Stosowac mozna równiez roz- 15 puszczalne w wodzie sole tych zwiazków, jak sole amonowe i sole metali ziem alkalicznych.Zadaniem przeciwutleniacza i czynnika kom- ipleksujacego jest inhibitowanie utleniania jonów zelazowych do zelazowych i/lub koordynowanie 20 jonów zelaizowych w roztworze. Sfeomplekso- wiany jon zelazowy mozna zredukowac che¬ micznie, przez utlenienie ukladu dwuwodoro- tlenowego do chinonu lub eleketrochemicznie, na powierzchni kaitody. Komplepeks przeciw- 25 dziala powstawaniu zasadowych soli zelaza, u- mozliwiajac transport rozpuszczonego zelaza trój¬ wartosciowego do katody, gdzie moze ono zo¬ stac zredukowane. Przedstawiony w opisie przeciw- utleniacz i czynnik kompleksujacy moga byc sto- 30 sowane oddzielnie lub lacznie z innymi czynni¬ kami ikompleksujacymi, np. alifatycznymi hydro- ksykwasami karboksylowymi, jak glukonowy, cy¬ trynowy, glikolowy, askorbinowy, izoaskorbinowy itp. Stwierdzono, ze dla uzyskania wiekszej tole- 35 rancji na wyzsze stezenie przeciwutleniacza i czyn¬ nika kompleksujacego korzystne jest uzycie lacz¬ nie ze zwiazkami dwuhydroksyarylowymi wodoro- siarczynów i ich adduktów z formaldehydem, jak równiez organicznych sulfinianów. Siarczyny, wot 40 dorosiarczyny i sulfiniany stosuje.sie zwykle w ste¬ zeniu 0,1—5 g/litr. Nowymi i nieoczekiwanymi as¬ pektami wynalazku sa nastepujace: (1) przeciwutle- niacz i czynnik kompleksujacy nie wplywaja ujem¬ nie na efefet niwelowania, (2) przeciwutleniacz 45 i czynnik kompleksujacy umozliwiaja prowadzenie operacji platerowania przy wartosci pH ponizej 3,0 (nizsza wartosc pH inhibltuje powstawanie jo¬ nów zelazowych) bez pogorszenia efektu niwelowa¬ nia, jak to obserwowano w przypadku innych 50 ukladów oraz (3) kompleks nie ulega w elektroli¬ zie degradacji z wytworzeniem nierozpuszczalnych produktów, które wytracaja sie i zatykaja worki anodowe i filtry, Przeciwutleniacze i czynniki kompleksujace sto- 5* sowane w sposobie wedlug wynalazku promotuja elektrolityczne osadzanie stopu o wyzszej zawarto¬ sci zelaza i zwiekszonym polysku oraz o wyzszym stopniu zniwelowania. Powloki maja ana$e napre^ zenia, znakomita ciagliwosc i znakomita przyczep^ 68 nosc dla chromu.Stezenie przeciwutleniacza i czynnika kompletu¬ jacego w kapieli moze wynosic 1^-50 g/lifcr, s tym, ze stezeniem korzystnym jeifc okolo 2—15 g/litr.W celu dalszego zwiekszenia polysku, ciagUwoóci 69 i niwelowania powl^ mozna stosowac dodatki sto-110 465 siowane w tym celu! kapielach niklowych i ni¬ kiel-zelazo. " Efektywnymi dodatkami kapieli niklowych sa zwiazki sulfotlenowe, jak aromatyczne sulfoniany, sulfonamidy, sulfonimidy i suliiniany oraz alifa¬ tyczne lub aromatyczno-alifatyczne, olefinowo lub acetylenowo nienasycone sulfoniany, sulfonamidy i sulfinimidy. Takie zwiazki mozna w sposobie we¬ dlug wynalazku stosowac oddzielnie lub lacznie, w ilosci 0,5—10 g/litr. Przykladami takich dodatków sa: sól sodowa sulfonimidu o-benzoesowego, ben- zenomonosulfonian sodu, allilosulfonian sodu i B- -styrenosulfonian sodu.W celu uzyskania blyszczacych, dobrze zniwelo¬ wanych powlok stopowych, lacznie ze zwiazkami sulfotlenowymi mozna stosowac takie dodatki jak 1,4-dwu-B-hydroksyetylosy/butin^2, 2-butoksy-l,4- -dwuetanosulfonian sodu, alkohol propargilowy, etoksylowany alkohol propargilowy lub dodatki we¬ dlug opisu patentowego S't. Zjedn. Ameryki nr 3 902 209.W kapieli mozna stosowac równiez rózne bufo¬ ry, jak kwas borowy, octan sodu, kwas cytryno¬ wy, sorbit itp., w stezeniu od 20 g/litr do nasyce¬ nia, korzystnie okolo 45 g/litr.W celu obnizenia napiecia powierzchniowego roz¬ tworu ograniczenia wzerowania, do kapieli plate¬ rujacej mozna dodac czynnika zwilzajacego. Takie materialy organiczne powoduja równiez emulgowac nie, rozpraszanie i rozpuszczanie takich zanieczy¬ szczen kapieli jak oleje i smary, co prowadzi do powlok lepszej jakosci. Przykladami zwykle stoso¬ wanych organicznych srodków powierzchniowo czynnych sa laurylosulfonian sodu, sól sodowa siarczanu lauryloeteru i dwualkilosulfobursztynian sodu.Wartosc pH wszystkich powyzszych przyklado¬ wych wodnych kompozycji, zawierajacych zelazo- -nikiel, kobalt-zelazo lub nikiel-kobalt-zelazo moze byc w czasie elektrolizy utrzymywana w zakresie 2,5—3,0. W trakcie elektrolizy wartosc pH zwykle wzrasta i moze byc korygowana^za pomoca kwa¬ sów, jak solny, siarkowy itp.Mieszanie powyzszych kapieli w trakcie elektro¬ lizy mozna uzyskiwac przepompowywaniem roz¬ tworu, poruszaniem pretowej katody, przepuszcza¬ niem powietrza lub kombinacja tych sposobów.Stosowane w powyzszych kapielach anody moga skladac sie z czystych metali odkladanych na ka¬ todzie, jak zelazo i nikiel, przy osadzaniu stopu niklu-zelaza, kobalt i zelazo, przy osadzaniu ko- baltu-zelaza lub nikiel, kobalt i zelazo, przy osa¬ dzaniu stopu nikiel-kobalt-zelazo. Anody moga skladac isie z jednoskladnikowych metali, odpo¬ wiednio zawieszonych w kapieli w postaci (pretów, pasm lub malych klocków w tytanowych koszach.W przypadku osadzania stopów dwu- lub trójsklad¬ nikowych mozna stosowac jako anody stopy tych metali o takim skladzie procentowym, jaki jest po¬ zadany w stopach osadzanych na katodzie. W przy¬ padku obu tych ukladów anodowych uzyskuje sie wzglednie stale stezenie jonów odpowiednich me¬ tali. Jezeli w przypadku anod stopowych o ustalo¬ nym stosunku metali dochodzi do zaburzenia rów¬ nowagi jonowej, to mozna dokonac korekty do¬ dajac indywidualnych soli metali. Anody lub ko¬ sze anodowe sa zwykle odpowiednio przykryte workami z materialu tekstylnego lub tworzywa sztucznego o pozadanej porowatosci, w celu ograni- 5 czenia wprowadzania do kapieli czastek metalu, szlamu, anodowego itp. które moga wedrowac do katody, mechanicznie lub elektrolitycznie, powo¬ dujac nierównosc powloki.Podlozami, na których moga byc sposobem we- 10 dlug wynalazku osadzone stopy nikiel-zelazo, ko¬ balt-zelazo lub nikiel-kobalt-zelazo sa metale lub stopy metali zwykle poddawane tego rodzaju ope¬ racjom, jak nikiel, kobalt, nikiel-kobalt, miedz, cyna, mosiadz itp. Innymi typowymi podlozami me- aB talicznymi, z których wytwarzane sa poddawane platerowaniu artykuly, sa metale zelazne, jak wszelkiego rodzaju stale, stopy miedzi, jak mosiadz, braz itp., cynk, zwlaszcza w postaci odlewów cynk- -barwnik zasadowy, przy czym wszystkie powyzsze 20 podloza moga byc powlekane warstwa innego me¬ talu, jak miedz itp. Metaliczne podloza moga miec" róznorakie wykonczenie powierzchni, zaleznie od pozadanego wygladu koncowego, który z kolei za¬ lezy od takich czynników jak polysk, jasnosc, sto- 25 pien zniwelowania, grubosc itp. warstwy stopu nikiel-zelazo, kobalt-zelazo lub nikiel-kobalt-zelazo, nalozonej na takie podloze.Temperatura operacyjna kapieli moze wynosic okolo 30—70, korzystnie 50<—&a°C. 3J Wynalazek jest ilustrowany ponizszymi przykla¬ dami, nie ograniczajacymi jego zakresu.Przyklad I. Sporzadza sie kapiel nikiel-zelazo o nastepujacym skladzie: NiS04*6H*b 130 g/litr Ni€l2 •0Hj*O 90 FeS04 •71*20 52 H8BO, 49 „ glukónian sodu 20 ., sacharynian sodu 3,5 „ allilosulfonian •sodu 3,5 „ l,4-dwu/B-hydroksyetoksy/butin-2 0,05—0,1 g/litr temperatura 54°C mieszanie powietrzem Próby przeprowadza sie na plytach mosieznych 45 i stalowych, obserwujac efekt platerowania na pas- , mie wyznaczonym jednorazowym przetarciem szmerglem o ziarnie 4/0. Plyty plateruje sie w elek- trolizerze Hulla o pojemnosci 267 ml, w ciagu 10 minut, przy natezeniu pradu 2 ampery. Uzyskane gjj z roztworu powloki sa blyszczace Kecz maja zla ciagliwosc, a w obszarze malej gestosci pradu sa ciemne. Efekt niwelujacy, dosc znaczny przy war¬ tosci 3,5, prawie nie wystepuje w próbie powtórzo¬ nej przy wartosci pH 2,8, Oznaczona analitycznie M zawartosc zelaza w powloce wynosi 44g/t.Przyklad II. Powtarza sie próbe z przykladu I, stosujac zamiast glukonianiu sodu, o-dwtihydra- ksybenzen w ilosci 2 g/Iitr. Uzyskane powloki, sa blyszczace, maja doskonala ciagliwosc i wyjatkom , 60 wa zdolnosc równomiernego krycia. Oznaczona ana¬ litycznie zawartosc zelaza w powtoce t*y&«st JflP/t.Przyklad II!. -Sporzadza sie 4 litry ka^iefi o nastepujacym skladzie: NISD4 - 0H*O 300 «mtr §5 NiCl2 •6H,0 95 35 40110 465 Fe*SC4 •THgO 40 H8B08 49 glukonian sodu 25 sacharynian sodu 3,0 allilosulfonian sodu 3,0 l,4-dwu/B-hydroksy/butin-2 0,05—0,1 g/litr wartoscpH 3,5 temperatura 54°C mieszanie powietrzem Przedluzona elektroliza roztworu, z przepuszcze¬ niem ladunku rzedu kilkuset amperogodzin na litr, powoduje powstanie nierozupszczalnych produktów degradacji, wytracajacych sie w postaci soli niklu.Znaczna czesc tych produktów zbiera sie*na scia¬ nach elektrolizera i w workach anodowych. Powo¬ duje to polaryzacje anody, która przyspiesza degra¬ dacje i przyczynia sie do ujemnego wplywu wol¬ nych jonów zelazowych na jakosc powloki. Doda¬ nie glukonianu w celu skompleksowania jonów ze¬ lazowych zmniejsza efekt niwelujacy i przyczynia sie do powstawania dalszej ilosci produktów de¬ gradacji w roztworze i na workach anodowych. W trakcie platerowania produkty degradacji moga osadzac sie na obszarach pólkowych katody, powo¬ dujac jej 'chloropowatosc.Przyklad IV. Próbe z przykladu III powtarza sie przy wartosci pH 2,8, zastepujac glukonian sodu o-dwuhydrctaybenzmodwusulfoniianu sodu i ad- duktem formaldehydu z wodorosiarczynem sodu, w ilosci odpowiednio 5 i 1 g/litr. Przy przedluzonej elektrolizie, z przepuszczeniem ladunku rzedu kil¬ kuset amperogodzin na litr, nie stwierdza sie ujem¬ nego wplywu jonów zelazowych na powloke. Brak wytracania w kapieli zasadowych soli zelazowych i powstawania nierozpuszczalnych produktów de¬ gradacji. Nie obserwuje sie pogorszenia efektu ni¬ welowania, wywolanego czynnikiem kompleksuja- cym lub obnizenia wartosci pH kapieli. Wykazuje to skutecznosc o-dwuhydroksybenzenodwusulfonia- nu sodu w zapobieganiu niepozadanym efektom ubocznym.Przyklad V. Sporzadza sie kapiel nikiel-ze- labo o nastepujacym skladzie: NiS04 • 6H^O 128 g/litr NiClf-6H^O 92 Ni'2+2 51 H,BOs 49 Ee (sumarycznie) 7,8 sacharynian sodu 3,3 allilosulfonian sodu 3,8 l,4-dwui/fi-hydroksyetoksy/-butin-2 0,08 wartoscpH 2,7 temperatura 56°C mieszanie powietrzem Po elektrolizie w elektrolizerze Hulla, prowadzo¬ nej w ciagu 30 minut pradem o natezeniu 2 ampe- ry, roztwór staje sie bardzo metny wskutek po¬ wstawania zasadowych soli zelazowych, pomimo niskiej wartosci pH.PrzykladVI. PWfcairza sie próbe z przykladu V, dodajac do kapieli o-dwuhydroksybenzenosulfo- nianu dwuspadowego w ilosci 3 g/litr.Po elektrolizie w elektrolizerze Bulla, prowadzo- 8 nej w ciagu 60 minut pradem o -natezeniu 2 am- ,pery, roztwór pozostaje klarowny i calkowicie wol¬ ny od osadów zasadowych soli zelazowych. Próba wykazuje skutecznosc o-dwuhydroksybenzenosulfo- 5 nianu dwusodowego w zapobieganiu wytracaniu za¬ sadowych soli zelaza. 10 Zastrzezenia patentowe 1. Sposób elektrolitycznego osadzania stopów ze¬ laza z niklem i/lub kobaltem na drodze przepusz¬ czania pradu przez wodny roztwór platerujacy, za¬ wierajacy zwiazek zelaza i co najmniej jeden zwia- 15 zek niklu i/lub kobaltu, stanowiacych zródlo jo¬ nów zelaza, niklu i/lub kobaltu, osadzonych w po¬ staci stopu na katodzie, znamienny tym ze stosuje sie roztwór platerujacy, zawierajacy podstawiony lub niepodstawiony dwuhydroksybenzen, spelniaja- 20 cy role czynnika kompleksujacego. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jeko kompleksujacy dwuhydroksybenzen stosuje sie zwiazek o wzorze 1, w którym R oznacza atom wodoru lub grupe sulfonowa lub karboksylowa, 25 a n oznacza liczbe calkowita 0, 1 lub 2, którego rdzen aromatyczny moze byc wielopierscieniowy i ewentualnie podstawiony innymi obojetnymi w stosunku do skladników kapieli podstawnikami, jak atomy chlorowca, grupy alkoksylowe, a grupy kar¬ lo boksylowe i sulfonowe moga byc w postaci wolnej lub w postaci rozpuszczalnych w wodzie soli. 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czynnik kompleksujacy stosuje sie o-dwuhy- droksybenzen. 35 4. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czyorlik kompleksujacy stosuje sie m-dwu- hydroksybenzen. 5. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czynnik kompleksujacy stosuje sie p-dwu- 40 hydroksybenzen. 6. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czynnik kompleksujacy stosuje sie kwas o- -dwuhydroksybenzenodwusulfonowy. N 7. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze 45 jako czynnik kompleksujacy stosuje sie kwas o- -dwuhydroksybenzenosulifonowy. 8. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako .czynnik kompleksujacy stosuje sie kwas 2,4- -dwuhydroksybenzoesowy. 50 9. Sposób elektrolitycznego osadzania stopów ze¬ laza z niklem i71ub kobaltem na drodze przepusz¬ czania pradu przez wodny roztwór platerujacy, za¬ wierajacy zwiazek zelaza i co najmniej jeden zwiazek niklu iAub kobaltu, stanowiacych zródlo 55 jonów zelaza niklu i/lub kobaltu, osadzonych w po¬ staci stopu na katodzie, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór platerujacy, zawierajacy co najmniej jeden podstawiony lub niepodstawiony dwuhydro¬ ksybenzen, spelniajacy role czynnika kompleksu- 60 J3cego oraz co najmniej jeden zwiazek z grupy obejmujacej zwiazki sulfotlenowe, acetylenowe roz¬ jasniajace, siarczyny, wodorosiarczyny, sulfiniany i alifatyczne hydroksjrkwasy karboksylowe.110 465 OH WZÓR 1 0CH ^-^^-OH WZÓR 2 OH Q ~OH WZÓR 3 OH OH WZÓR U h03Vvoh Aoh HOgS^ WZÓR 5 €c OH H03S-^JUOH WZÓR 6 COOH OH OH WZCR 7 PL PL PL

Claims (3)

1.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób elektrolitycznego osadzania stopów ze¬ laza z niklem i/lub kobaltem na drodze przepusz¬ czania pradu przez wodny roztwór platerujacy, za¬ wierajacy zwiazek zelaza i co najmniej jeden zwia- 15 zek niklu i/lub kobaltu, stanowiacych zródlo jo¬ nów zelaza, niklu i/lub kobaltu, osadzonych w po¬ staci stopu na katodzie, znamienny tym ze stosuje sie roztwór platerujacy, zawierajacy podstawiony lub niepodstawiony dwuhydroksybenzen, spelniaja- 20 cy role czynnika kompleksujacego.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jeko kompleksujacy dwuhydroksybenzen stosuje sie zwiazek o wzorze 1, w którym R oznacza atom wodoru lub grupe sulfonowa lub karboksylowa, 25 a n oznacza liczbe calkowita 0, 1 lub 2, którego rdzen aromatyczny moze byc wielopierscieniowy i ewentualnie podstawiony innymi obojetnymi w stosunku do skladników kapieli podstawnikami, jak atomy chlorowca, grupy alkoksylowe, a grupy kar¬ lo boksylowe i sulfonowe moga byc w postaci wolnej lub w postaci rozpuszczalnych w wodzie soli.

3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czynnik kompleksujacy stosuje sie o-dwuhy- droksybenzen. 354. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czyorlik kompleksujacy stosuje sie m-dwu- hydroksybenzen.5. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czynnik kompleksujacy stosuje sie p-dwu- 40 hydroksybenzen.6. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako czynnik kompleksujacy stosuje sie kwas o- -dwuhydroksybenzenodwusulfonowy. N7. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze 45 jako czynnik kompleksujacy stosuje sie kwas o- -dwuhydroksybenzenosulifonowy.8. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako .czynnik kompleksujacy stosuje sie kwas 2,4- -dwuhydroksybenzoesowy. 509. Sposób elektrolitycznego osadzania stopów ze¬ laza z niklem i71ub kobaltem na drodze przepusz¬ czania pradu przez wodny roztwór platerujacy, za¬ wierajacy zwiazek zelaza i co najmniej jeden zwiazek niklu iAub kobaltu, stanowiacych zródlo 55 jonów zelaza niklu i/lub kobaltu, osadzonych w po¬ staci stopu na katodzie, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór platerujacy, zawierajacy co najmniej jeden podstawiony lub niepodstawiony dwuhydro¬ ksybenzen, spelniajacy role czynnika kompleksu- 60 J3cego oraz co najmniej jeden zwiazek z grupy obejmujacej zwiazki sulfotlenowe, acetylenowe roz¬ jasniajace, siarczyny, wodorosiarczyny, sulfiniany i alifatyczne hydroksjrkwasy karboksylowe.110 465 OH WZÓR 1 0CH ^-^^-OH WZÓR 2 OH Q ~OH WZÓR 3 OH OH WZÓR U h03Vvoh Aoh HOgS^ WZÓR 5 €c OH H03S-^JUOH WZÓR 6 COOH OH OH WZCR 7 PL PL PL