Przedmiotem wynalazku jest kineskop maskowy, a zwlaszcza masko cieniowa w tych kineskopach. W kineskopie maskowym wiele zbieznych wiazek elektronów jest przepuszczanych poprzez wielootworowa maske cieniowa selekcjonujaca kolory, i pada na mozaikowy ekran.Tory wiazek sa takie, ze kazda wiazka uderza i pobudza tylko jeden rodzaj emitujacego kolor luminetoru na ekranie. Ogólnie maska cieniowa jest; zrmocowena do sztywnej ramy, która z kolei jest zawieszona wewnatrz obudowy kineskopu.Obecnie wszystkie znajdujace sie w sprzedazy kineskopy kolorowe maja plyte czolowa kopulasta lub cylindryczna. Chociaz, jest pozadane, aby wytwarzac kineskopy z zasadniczo plaska plyta czolowa, istnieja problemy, które musza byc rozwiazane, aby uzyskac kines¬ kop z plaska plyta czolowa handlowo oplacalny. Glównym problemem jest maskr cieniowa.Zgodnie ze znanym stanem techniki koncepcje projektowe sa takie, ze w kineskopach majacych zakrzywione plyty czolowe maski cieniowe sa podobnie zakrzywione, tak zeby byly równolegle do konturu plyty czolowej. W ten sposób, zgodnie z tymi koncepcjami ze stanu techniki, w kineskopach z plaska plyta czolowa odpowiadajace im maska cieniowa powinna miec takze prawie plaski kontur. Jednakze, taka maska me niewystarczajaca sztywnosc. Jednym ze sposobów dla dostarczenia tej sztywnosci jest zastosowanie napre¬ zenia w masce, jak to jest zrobione w dostepnych kineskopach majacych cylindryczna plyte czolowa. Sposoby stosujace naprezenia -wymagaja niepozadanie kosztownych konstruk¬ cji ramy. Innym sposobem uzyskania sztywnej maski jest nadanie jej pewnego stopniowania konturu takiego jak pofalowanie go, jak sugeruje w opisie petentowym St. Zjedn. nr 4 072 876 A.M.Morrell. Stwierdzono, ze regularnie falisty ksztelt sinusoidalny w prze¬ kroju moze byc troche gorszy od optymalnego konturu. Na przyklad, w kineskopie majacym pofalowana maske odleglosc pomiedzy otworami i szerokosc otworu zmienia sie w funkcji odleglosci pomiedzy maska a ekranom i wzglednego kata utworzonego pomiedzy wiazka elektronów a maska. Wymagane zmiany w szerokosci otworu stanowia zasadniczy problem w trawieniu otworów w masce. Poniewaz wymagane zmiany odleglosci beda wieksze na2 131 269 krawedziach maski, jest pozadane albo zmniejszenie zmian odleglosci maska - ekran albo zmniejszenie kata podania wiazka na maske no krawedziach.Celem wynalazku jest dostarczenie zmiennych konturów maski cieniowej, co jest pomocne do rozwiazania problemu a co najmniej zmniejszenie go i innych róznych problemów wy9tepujecych w kineskopach o zasadniczo plaskiej plycie czolowej.Cel ten zostal osiagniety przez opracowanie kineskopu maskowego obejmujacego prózniowa obudowe zawierajaca plyte czolowa, ekran luminoforowy, umieszczony na wewnetrznej powierzchni plyty czolowej, wielop.tworowa maske cieniowa o pofalowanym przekroju, zamontowana w poblizu ekranu oraz srodki do wytwarzania i projekcji elektronów wzdluz wielu zblizonych torów przez otwory w masce az do ekranu. Maska cieniowa ma w przekroju zmienny przebieg falistosci. Tw jednym z rozwiazan* amplituda pofalowania stopniowo zmniejsza sie w kierunkach srodek - krawedz, podczas gdy w innym rozwiazaniu dlugosc fali pomiedzy wierzcholkami wzrasta w kierunkach srodek - krawedz• Amplituda i dlugosc fali moze byc takze kombinowana w konstrukcji maski dla uzyskania korzysci kazdej z nich.Przedmiot wykonania jest blizej opisany w przykladzie wykonania przedstawio¬ nym na rysunku, na którym: fig.1 przedstawia znany kineskop w czesciowym przekro¬ ju, fig.2 przedstawia przekrój plyty czolowej znanego kineskopu majacego pofalowana sinusoidalnie maske zamontowana w nim, fig.3-5 przedstawiaja przekroje plyty czolo¬ wej kineskopu majacego zamontowane rózne maski skonstruowano zgodnie z obecnym wynalazkiem.Figura 1 przedstawia znany ze stanu techniki kineskop _20 maskowy telewizji kolorowej, taki jek opisany w opisie patentowym St.Zjedn. nr 4 072 876 zawierajacy prózniowa obudowe szklana _22. Obudowa 22 zawiera prostokatna, plaska plyte czolowa 24» stozek 26 i szyjke _28. Trójkolorowy ekran luminoforewy _22 jest osadzony na wewnetrznej powierzchni 2Z Ply"ty czolowej 2A* Zespól 21 wyrzutni elektronov;ych, umieszczony w szyjce 29 zawiera trzy wyrzutnie elektronów /nie pokazane/, po jednej" dla kazdego z trzech kolorów luminoforu na ekranie J30. Prostokatna wielo- otworówa maska 2k Jest umieszczona w obudowie ,22 w sasiedztwie ekranu 30» Zespól 2A wyrzutni elektronów jest przystosowany do wytwarzania trzech wiazek elektronów, przechodzacych przez maske 2$. zawierajaca otwory, i uderzajacych w ekran _20, przy czym maska 2§ sluzy jako elektroda selekcji kolorów. Cewki magne¬ tyczne J8 sa umieszczone na obudowie .22 w poblizu miejsca polaczenia stozka 26 z szyjka 23. Odpowiednie pobudzenie cewek J8 powoduje, ze wiazki elektronów beda padaly na ekran ^0 tworzac prostokatny raster.Maska .26 z fig.1 i 2 jest pofalowana lub sinusoidalnie zakrzywiona wzdluz osi poziomej /w kierunku wiekszego rozmiaru maski/ z pofalowaniami rozciagajacymi sie pionowo /pomiedzy dluzszymi bokami msski lub w kierunku krótszego rozmiaru maski/. Maski _2S i AZ maja wiele podluznych otworów umieszczonych osiowo'w równo¬ legle pionowe kolumny /w kierunku krótszego rozmiaru maski/. Odleglosc pomiedzy kolumnami zmienia sie w odniesieniu do odleglosci maska - ekran tak, ze elementy luminoforu na ekranie sa równo umieszczone wzgledem siebie.Obecny wynalazek stenowi ulepszenie wyzej wymienionej koncepcji maski przez zastosowanie zmian w amplitudzie pofalowanie i /lub dlugosci fali pofalowanie.Pewne rozwiazanie zawierajace zmiany w stosunku do jednolicie sinusoidalnie pofalowanej maski sa przedstawione na fig.3 do 5. W kazdym z tych rozwiaeari, kontur przekroju lub przebieg fali pofalowanej maski Jest zmieniany w celu dosto¬ sowania do specyficznych wymagan kineskopu. Dla uproszczenia plyta' czolowa i zemo- oowanie maski w kazdym z rozwiazan* zostalo oznaczone tymi samymi odnosnikami.131 269 3 V/ rozwiazaniu z fig. 3 amplituda pofalowanie maski _£2 zmniejsza sie od srodka •do krawedzi maski. Taka konfi^-uracja moze byc uzyteczna, gdy wymagania odnosnie sztywnosci. maski sa mniejsze nfc bokach niz w srodku maski. Na przyklad, boki maski noga byc" sztywno przytrzymywane przez mocna lub elastyczna dynamicznie sztywna rame majaca mniejsze wymagania co do amplituty pofalowaniu dla uzyskanie statycz¬ nej i dynamicznej sztywnosci.Uproszczenie lub wygladzenie przebiegu pofalowania maski w poblizu dwu bocznych krawedzi zmniejsza wymagania dotyczace odloglosci miedzy otworami w masce, i co do szerokosci tych otworów. Na przyklad, kat podaniu pomiedzy wiazka elektronów a czescia pofalowanej ma3ki rozciagajacej sie. od wiazki moze byc* bardzo waski, Z tegp wzgledu otwory musza byc bardziej rozlegle rozmieszczone niz w czesci maski, która jest bardziej prostopadla do wiazki. Ze wzgledu na te zmiany wymagane tolerancje sztuki fotograficznej stosowane przy formowaniu maski i tolerancje urzadzenia do trawienia staja sie bardzo ostre. Wygladzenie pofalowania maski zmniejsza te zmiany w kacie podania wiazki na maske zmniejszajac krytycznosc tolerancji w procesie fotograficznym i w procesie trawienia.Kolejno, podobne korzysci moga byc uzyskane przez zwiekszenie dlugosci fali pofalowania od srodka do boków maski, jak przedstawiono w rozwiazaniu maski 44 na fig.4, gdzie taka dlugosc fali pofalowanej mfeski zostala wydluzona w kierunku jej krawedzi. Te dwie koncepcje zmniejszenia amplitudy i zwiekszenia dlugosci fali w kierunku od srodka do krawedzi maski moga byc polaczone. Taki kombinowany przebieg pofalowania jest pokezany w postaci maski 46 na fig.5* Zastrzezenia* patentów, e 1. Kineskop maskowy obejmujacy prózniowa obudowe zawierajaca plyte czolowa, ekran luminofoi*owy umieszczony na wewnetrznej powierzchni plyty czolowej, wieloot- worowa maske cieniowa o pofalowanym przekroju zamontowana w poblizu ekranu i srodki do wytwarzania i projekcji elektronów wzdluz wielu zbieznych torów poprzez otwory w masce i do ekranu, znamienny tym, pofalowany prze¬ krój maski /j£2, 441 46/ ma zmienny przebieg. 2. Kineskop wedlug zastrz.1, znamienny t y m, ze amplitude przebiegu pofalowania zmienia sie od srodka do krawedzi maski /42« 4§/'• 3. Kineskop wedlug zastrz. 1 albo 2, znamie n n y. tym, ze dlugosc fali przebiegu pofalowania zmienia sie od srodka lub wymienionego srodka do kra¬ wedzi lub wymienionej krawedzi maski /44« 46/. 4. Kineskop wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze wymieniona aplituda zmniejsza sie od wymienionego srodka do wymienionej krawedzi maski. 5. Kineskop, wedlug zastrz.1, albo 4, z n a m i e n n y t y m, ze dlugosc fali przebiegu zwieksza sie od wymienionego srodka do wymienionej krawedzi maski.131 269 Fig.2 Fig. 4 Fig.5 PracowniaPoligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz.Cena 100 zl PL PL PL PL PL PL PL PL PL PL PL