Przedmiotem wynalazku jest dozator posredni do wylewania metalu na powierzchnie krysta- lizatora do oiaglego odlewania tasm, zwlaszcza do szybkiego odlewania tasmy.Oczywiste sa liczne zalety oraz ekonomiczne korzysci wynikajace z wytwarzania cienkiej tasny metalowej poprzez odlewanie, wystepujace w porównaniu z konwencjonalnymi operacjami walcowania albo przeciagania, przy czym jeszcze wieksze znaczenie ma mozliwosc przeprowadza¬ nia odlewania materialów bezpostaciowych przy duzyoh szybkosciach ochladzania. Jednakze wi¬ dac równoczesnie, ze istnieje bardzo duzo parametrów odlewania tasmy, która musza byc regu¬ lowane dla zapewnienia odpowiedniej jakosol jednolitego skladu i jednorodnej struktury tas¬ my. Z tego tez powodu fachowcy oceniaja, ze trudne jest skonstruowanie urzadzenia do odlewa¬ nia tasmy o takiej jakosci, które dawaloby korzystne wyniki handlowe.Znana jest z opisu patentowego Stanów Zjednoozonych Ameryki nr 4 142 571 kadz posrednia urzadzenia do ciaglego odlewania na powierzchni krystalizatora kolowego albo bebnowego tasm metalowych, która to kadz ma integralny wylew o zakrzywionych sciankach bocznych, zbiezny ku wylotowi otworu, przy czym dlogosc otworu wylewu odpowiada szerokosci odlewanej tasny, zas szerokosc jest jednakowa na oalej dlugosci. Solanki boczne otworu sa plaskie i zakonczone plaska powierzchnia, równolegla do powierzchni krystalizatora, usytuowana w jednakowej od¬ leglosci od tej powierzchni albo tez zestopniowana, przy czym w przedniej ozescl wzgledem kierunku przesuwu powierzchni krystalizatora usytuowana jest równolegle ale z wiekszym od¬ stepem niz w tylnej czesci* Powierzchnia wewnetrzna otworu wylewu przechodzi pod katem pro¬ stym w powierzchnie zewnetrzna, równolegla do powierzchni krystalizatora.Wada znanej kadzi majacej otwór wylewu o ksztalcie opisanym powyzej jest to, ze odlewa¬ na tasma ma zarówno niejednakowa grubosc jak i szerokosc, jak równiez struktura materialu w tasmie jest nie jednorodnac Powabna wada jest równiez zatykanie sie otworu wylewu. Kadz ta jest skomplikowana, ze wzgledu na fakt, ze kadz wraz z wylewem stanowi jedna calosc*2 137 085 Znane ii vi róv le? ?.- rr;.-*sju*^..i*go opifc* paU^towego nr 545 514 urzadzenie do ciaglego odlowania tasm metalowych, zawierajace kad£ posrednia zamocowana na wózku, przemieszczana wzdluz krystalizatora plytowego za pomoca srub pociagowych i zespolu napedowego. Powierz¬ chnia odlewnicza krystalizatora Jest chlodzona za pomoca zespolu rur usytuowanego bezpo¬ srednio pod ta powierzchnia. Kadz posrednia ma scianki dna zbiezne, przy czym w dnie wyko¬ nane Jest kilka wylewów zamykanyoh za pomoca zatyczek, napedzanych recznie za pomoca prze¬ kladni slimakowychf których slimaki zamocowane sa na wspólnej osi. Wada urzadzenia Jest ^uzyskiwanie tasmy o niejednakowej grubosci i niejednorodnej w wyniku zmniejszania sie cis¬ nienia metalostatyoznego w otworze wylewu wraz ze zmniejszaniem sie ilosci cieklego metalu, zmniejszaniem sie otworu wylewu w wyniku krzepniecia metalu na sciankach otworu co spowodo¬ wane Jest ciaglym chlodzeniem powierzchni odlewniczej krystalizatora oraz mozliwosc krzep¬ niecia metalu w otworze w zwiazku z Jego ochladzaniem sie w czasie odlewania.Pomimo stosunkowo dlugiej historii techniki odlewania tasmy 1 ostatnich rozwiazan w tym zakresie odlewanie tasmy nie Jest obecnie szeroko stosowane i nie ma wiekszego znaczenia handlowego. Okazuje sie, ze sa konieczne rózne ulepszenia, zmiany i innowacje w tej techni¬ ce aby spowodowac wieksze zainteresowanie handlowe teohnika odlewania tasmy. W szczególno¬ sci wydaje sie, ze wymagaja bardziej szczególowego sprecyzowania wzajemne powiazania pomie¬ dzy takimi zmiennymi jak konstrukcja kadzi posredniej, wielkosc i wymiary otroru wylewu i jego odleglosc od powierzohni krystalizatora, szybkosc ochladzania, szybkosc poruszania sie tej powierzchni, temperatura metalu 1 szybkosc jego wylewania i inne podobne dla uzyskania jednorodnosci i jednolitosci wymaganych dla handlowo korzystnego wytwarzania odlewanej tas¬ my. W szozególnosci przekonano sie, ze konstrukcje niektórych wylewów i ich otworów wylewo¬ wych oraz zaleznosoi miedzy wylewem, otworem wylewu i powierzchnia krystalizatora sa decy¬ dujace dla uzyskania jednolitych wyników odlewania tasmy.Poniewaz stwierdzono, ze wazne sa zaleznosoi wymiarowe pomiedzy wylewem 1 powierzchnia krystalizatora to do chwili obecnej produkowano kadzie majace wylew stanowiacy jedna calosc z kadzia posrednia albo tez kadzie zaopatrzone w ksztaltke wylewu zamocowana na stale w dol¬ nej ozesoi kadzi. Z tego powodu w przypadku koniecznosci przesuniecia, nastawienia albo wy¬ miany ksztaltki wylewu, ozynnosoi te mialy równiez wplyw na cala kadz ze wzgledu na koniecz¬ nosc demontazu kadzi. Tak wiec zachowanie sztywnych zaleznosci wymiarowych pomiedzy wylewem, otworem wylewu i powierzchnia krystalizatora nie bylo mozliwe.Celem Wynalazku jest skonstruowanie do zatora posredniego do wylewania metalu na powierz¬ chnie krystalizatora, który nie bedzie mial wad znanych kadzi posrednich, dajacego mozliwosc latwiejszego przystosowania dozatora do róznyoh wymagan.Cel wynalazku osiagnieto przez skonstruowanie dozatora posredniego do wylewania metalu na powierzohnie obwodowa krystalizatora do ciaglego odlewania tasm, którego dlugosc jest rów¬ na w przyblizeniu szerokosci odlewanej metalowej tasmy, zawierajacego wylew z otworem maja¬ cym równomierny przekrój poprzeczny na calej dlugosoi, w którym zgodnie z wynalazkiem co najmniej jedna ze scianek otworu wylewu wyznacza przegroda regulacyjna, majaca przednia po¬ wierzchnie umieszczona naprzeciw powierzchni obwodowej krystalizatora.Przegroda regulacyjna zamocowana jest przesuwnie w kierunku bocznym, poziomym, pionowym, katowo i po luku, w kierunku do i od powierzohni obwodowej krystalizatora na powierzchni ze¬ wnetrznej wystepu sciany przedniej dozatora posredniego* Przegroda regulaoyjna zamooowana jest wyohylnie wzgledem powierzchni zewnetrznej wystepu solany przedniej dozatora posredniego# Stosujac dozator posredni wedlug wynalazku mozna otrzymac tasme o wzglednie wysokiej ja¬ kosoi o strukturze bezpostaolowej wzglednie bedacej co najmniej w 25* bezpostaciowa. Oczywi¬ ste jest, ze szybkosc ochladzania musi 'byc wieksza dla materialów bezpostaciowych niz dla materialów krystaliczny oh. Szybkosoi ochladzania moga byc powiekszone przez zwiekszenie szyb- kosol przesuwania sie powierzohni obwodowej krystalizatora. Waznym jest odróznienie, ze ochladzanie przebiega efektywnie w dwojaki sposób. Jezeli otwór wylewu znajduje sie bardzo blisko powierzohni krystalizatora mozna odlewac tasmy zarówno o strukturze bezpostaolowej137 085 3 jak i krystalicznej o grubosci od 0,025 mm do 0,075 mm* Jezeli powierzchnia skosna przegro- gy regulacyjnej jest odsunieta od powierzchni obwodowej krystalizatoraf a szybkosci przesu¬ wu powierzchni obwodowej krystalizatora zmniejszono, to mozna odlewac tasmy o grubosci od 0,125 mm do 1,25 mm. Przy tym drugim sposobie szybkosc ochladzania jest znacznie mniejsza przede wszystkim z powodu zwiekszonej grubosci tasmy.Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony na przykladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schematycznie typowe urzadzenia do ciaglego odlewania tasm metalowych na powierzohnie krystalizatora bebnowego w widoku z boku w czesciowym przekroju, fig. 2-doza- tor posredni wedlug wynalazku w przekroju podluznym, fig. 3 - dozator posredni w widoku w kierunku/III-III zaznaczonym na fig. 2, fig. 4 - dozator posredni wedlug wynalazku w innym przykladzie wykonania w przekroju podluznym, fig. 5 - dozator posredni wedlug wynalazku w kolejnym przykladzie wykonania w przekroju podluznym, fig. 6 - dozator posredni wedlug wy¬ nalazku w nastepnym przykladzie wykonania w przekroju podluznym, fig. 7 - dozator posredni wedlug wynalazku w innym przykladzie wykonania w przekroju podluznym, fig. 8 - dozator po¬ sredni wedlug wynalazku w innym przykladzie wykonania w przekroju podluznym, fig. 9 - wy¬ lew dozatora posredniego wedlug wynalazku przed dosunieciem do powierzohni krystalizatora w przekroju podluznym, fig. 10 - wylew dozatora posredniego wedlug wynalazku po dosunieciu do powierzchni krystalizatora w przekroju podluznym, fig. 11 - wylew dozatora posredniego wedlug wynalazku podczas odlewania tasmy w przekroju podluznym, fig. 12 - dozator posred¬ ni wedlug wynalazku w przekroju podluznym, fig. 13 - przegroda regulacyjna dozatora posred¬ niego wedlug wynalazku w widoku z góry, fig. 14 - wylew dozatora posredniego wedlug wyna¬ lazku w przekroju podluznym w powiekszeniu.Urzadzenie do ciaglego odlewania metalowej tasmy 10 zawiera krystalizator 12. W korzyst¬ nym rozwiazaniu tasma 10 jest odlewana na zewnetrznej powierzohni 14 krystalizatora 12 beb¬ nowego albo kolowego (fig. 1). Rozumie sie, ze moga byc uzyte kry 3talizatory o innych ksztaltach, przykladowo z zewnetrzna powierzchnia o ksztalcie scietego stozka (nieuwidocz- niono na rysunkach). Równiez jako krystalizator mozna stosowac tasme napieta na dwa bebny, wykonujaca ruch po torze owalnym. Bez wzgledu na zastosowany ksztalt chlodzona powierzch¬ nia 14 krystalizatora 12 powinna miec szerokosc co najmniej równa szerokosci odlewanej tasmy* W korzystnym przykladzie wykonania odlewania dokonuje sie na powierzchni obwodowej, chlodzonej woda krystalizatora kolowego 12. Krystalizator wykonany jest z miedzi ze wzgle¬ du na wysoka przewodnosc termiczna, chooiaz mozliwe jest równiez zastosowanie stopów miedzi, stali, mosiadzu, aluminium albo innych metali osobno albo w polaczeniu. Chlodzenie mozna zrealizowac pr&y u^oiu chlodziwa innego niz woda. Woda jest na ogól wybierana ze wzgledu na swój niski koszt oraz latwa dostepnosc.Urzadzenie do ciaglego odlewania tasmy uwidocznione na fig. 1 dziala w ten sposób, ze powierzchnia obwodowa 14 obrotowego krystalizatora kolowego 12 pochlania cieplo powstajace w wyniku zetkniecia z cieklym metalem w poczatkowym punkcie 16 zetkniecia metalu z powierz¬ chnia krystalizatora, przy czym oieplo to przechodzi do scianek krystalizatora z miedzi pod¬ czas kazdego jego obrotu. Poczatkowy punkt 16 jest to miejsce na powierzchni obwodowej 14 krystalizatora, w którym ciekly metal 20 z dozatora posredniego 22 po raz pierwszy zetknie sie z jego powierzchnia obwodowa 14* Chlodzenie mozna uzyskac przez doprowadzenie duzej ilosci wody przez wewnetrzne kanaly usytuowane w poblizu obrzeza krystalizatora kolowego 12.W rozwiazaniu alternatywnym woda jest doprowadzana bezposrednio na wewnetrzna powierzchnie scianki obwodowej krystalizatora 12* Niezaleznie od tego czy stosuje sie do odlewania krystalizator kolowy, czy tasmowo-beb- nowy, powierzchnia 14 krystalizatora powinna byc gladka aby zapewnic jednorodnosc odlewanej tasmy. W niektórych operacjaoh odlewania odleglosc pomiedzy zewnetrzna powierzchnia obwodo¬ wa 14 krystalizatora 12 i powierzchnia czolowa wylewu 24, przez który oiekly metal jest po¬ dawany z dozatora na te powierzchnie 14 krystalizatora, nie powinna odbiegac od okreslonej wielkosci* Odleglosc ta bedzie dalej nazywana szczelina, której wielkosc powinna byc utrzy¬ mana podczas operacji odlewania, aby zapewnic powstawanie tasmy o jednorodnej grubosci.I 4 137 085 Ciekly metal 20 do ciaglego odlewania w urzadzeniu opisanym powyzej znajduje sie w do- zatorze posrednim 22, która ma wylew 24. Wylew 24 jest na ogól usytuowany w dolnej czesci dozatora 22, leoz moze byc równiez usytuowany w innym miejscu, na przyklad na sciance bocz¬ nej dozatora 22 (fig. 1).Do konstrukoji dozatora posredniego 22 nalezy uzyc odpowiednich materialów odpornych na dzialanie cieklego metalu, a w przypadkach, w których dozator 22 nie ma konstrukoji monoli¬ tycznej polaczenia i spoiny laczace poszczególne ozesci musza byó tak wykonane, zeby zapo¬ biegaly przeciskaniu roztopionego metalu w czasie dlugotrwalej pracy.Dozator posredni 22 ma zgodnie z kierunkiem obrotu krystalizatora sciane przednia 26 oraz sciane dolno-tylna 28, przy czym kierunek odlewania jest wskazany strzalka umieszczona przy powierzchni obwodowej 14 krystalizatora na fig. 2* sciana przednia 26 ma w odniesieniu do cieklego metalu znajdujacego sie w dozatorze posrednim 22 powierzchnie wewnetrzna 30 i górna powierzohnie zewnetrzna 32. Podobnie sciana dolno-tylna 28 w odniesieniu do cieklego metalu znajdujacego sie w dozatorze posrednim 22 ma powierzchnie wewnetrzna 34 i tylna po¬ wierzchnie zewnetrzna 36* Powierzchnia wewnetrzna 30 i 34 rozciagaja sie w kierunku obszaru wylewu 24 dozatora posredniego 22. Zbiornik dozatora posredniego 22, w którym gromadzi sie ciekly metal, wyznaozony przez powierzchnie wewnetrzne 30 i 34 moze miec rózne postacie i ksztalty, przy czym korzystne jest jezeli górna czesc zbiornika dozatora posredniego 22 ma znacznie wiekszy przekrój poprzeczny a wiec wieksza pojemnosc niz czesc zbiornika w obsza¬ rze wylewu 24 dozatora posredniego 22, a to dlatego, zeby na polozenie wysokosci zwierciad¬ la roztopionego metalu znajdujacego sie wewnatrz dozatora posredniego 22 ponad wylewem 24 nie wplywal w sposób zasadniozy wydatek mniejszych ilosci oieklego metalu. Taka konstrukcja przyczynia sie do utrzymywania zasadniczo stalego olsnienia metalostatyoznego cieklego me¬ talu w otworze wylewu 24 przy mniejszych zmianach ilosci metalu znajdujacego sie w dozato¬ rze posrednim 22.Korzystne jest, zeby powierzchnie wewnetrzne 30 i 34 byly zbiezne w kierunku wylewu 24 oraz byly zaokraglone w miejscach zmiany krzywizny dla zmniejszenia zaklócen przeplywu me¬ talu w dozatorze posrednim 22 w czasie operacji odlewania. Zbiornik cieklego metalu, utwo¬ rzony pomiedzy powierzchniami wewnetrznymi 30 i 34, zamkniety jest scianami bocznymi 38 i 40 (fig* 3). Nalezy zaznaczyc, ze na fig. 3 nie przedstawiono calej szerokosci dozato¬ ra 22 wedlug wynalazku.Stwierdzono, ze dozator posredni 22 wedlug wynalazku moze byc wykonany przede wszystkim przez przyoinanie albo wyzlobienie plyt ogniotrwalych.Korzystnym jest wykonanie dozatora posredniego 22 z materialu majacego bardzo dobre wla¬ snosci izolaoyjne. Jezeli wlasnosci izolacyjne nie sa wystarczajace do utrzymania wzglednie wysokiej temperatury oieklego metalu, to nalezy zastosowac pomocnicze ogrzewcze takie jak cewki indukcyjne uroieszozone wewnatrz i/albo dokola dozatora albo elementy oporowe takie jak druty oporowe. Odpowiednim materialem na dozator 22 jest plyta izolacyjna wykonana z wlókna kaolinowego albo wystepujacy w stanie naturalnym czysty, ognioodporny il glinowo- -krzemowy. Jednak dla dlugotrwalych operacji odlewania stopów o wyzszych temperaturach top¬ nienia mozna utyc do wykonania dozatora albo przegrody rózny oh innyoh materialów zawieraja¬ cych grafit, kwaro, gline grafitowa, azotek boru, azotek krzemu, weglik boru, weglik krzemu, tlenki glinu, tlenki cyrkonu i rózne kombinacje tych materialów.Dowolna ilosc plyt 42 ogniotrwalych moze byc ulozona w stos jedna na drugiej albo usta¬ wiona jedna obok drugiej dla otrzymania odpowiedniej zadanej wysokosci i szerokosci dozatora posredniego 22 i wylewu 24 (fig* 2). Hie przewiduje sie ograniczenia maksymalnej szerokosci dozatora posredniego 22 1 wylewu 24 wedlug wynalazku, które moga miec szerokosc wieksza na¬ wet od 920 mm. Po ulozeniu wymaganej ilosci plyt w stos - jedna na drugiej albo zestawieniu ich jedna obok drugiej, powierzchnie wewnetrzne 30 i 34 wyznaczajace zbiornik cieklego me¬ talu powinny byc opiaskowane albo w inny sposób wykonczone, zeby uzyskac odpowiednia ich gladkosc. Po zestawieniu wycietych plyt 42, nalezy wstawic je pomiedzy plyty 44 bez wyciec, stanowiace sciany boczne 38 1 40 zbiornika dozatora posredniego 22.157 085 5 Stwierdzono, ze dla utrzymania plyt 42, 44 i zabezpieczenia ich przed przestawianiem sie wzgledem siebie korzystne jest zastosowanie plyt metalowych 46 umieszczonych na po¬ wierzchniach zewnetrznych kazdej sciany bocznej 38, 40 i sciagniecia tych plyt 46 srubami rozmieszczonymi na obwodzie plyt 46 w odpowiedniej ilosci miejsc, zapewniajac w ten sposób szczelnosc dozatora posredniego 22. Nalezy zaznaczyc, ze nieznaczne ilosci cieklego metalu beda dazyly do wplyniecia w szczeliny pomiedzy plytami 42, 44, jednak zwartosc zespolu plyt 42, 44 oraz wysokie wartosci izolacyjne plyt 42, 44 spowoduja krzepniecie metalu w szozelinach i w ten sposób zatrzymanie przeplywu metalu pomiedzy plytami 42r 44, zanim usz¬ kodzilby on dozator posredni 22 albo zaszkodzil operacji odlewania tasmy 1CX. Rozumie sie, ze dozator posredni 22 wedlug wynalazku moze byc zmontowany przy uzyciu cementów ogniotrwa¬ lych albo im podobnych materialów albo moze miec budowe monolityozna, nie wymagajaoa montazu* Wylew 24 jest umieszczony w dozatorze posrednim 22, korzystnie w jego dolnej czesci.Wylew 24^zawiera otwór 80 wyznaozony przez dolna powierzchnie wewnetrzna 34 dolnotylnej sciany 28 dozatora posredniego 22 i powierzchnia dolna 48 przegrody 50 regulacyjnej. Prze¬ groda 50 korzystnie wykonana jest z azotku boru, azotku krzemu, weglika krzemu, weglika bo¬ ru, tlenków cyrkonu albo z kwarou. Czesc powierzohni dolnej 48 przegrody 50 jest umieszczo¬ na na czesci zewnetrznej powierzohni 32 wystepu 52 sciany przedniej 26 dozatora posrednie¬ go 22 (fig. 2). Przegroda 50 calkowicie przeslania z jednej strony otwór 80 w ten sposób, ze czesc powierzchni dolnej 48 przegrody 50 usytuowana jest naprzeciw grzbietów bocznych scian 38 i 40 dozatora posredniego 22 (fig. 3)* Taki sposób umieszczenia przegrody 50 moze byc konieozny dla utrzymania jej stateoznosci. W korzystnym przykladzie wykonania czesc po¬ wierzohni dolnej 48 przegrody 50 przechodzi poza sciane przednia 26 dozatora posredniego 22 w kierunku powierzchni 14 krystalizatora. Korzystnym jest, aby krawedz powierzchni skos¬ nej 70 i powierzohni dolnej 48 przegrody 50_byla w odleglosci co najmniej 0,25 mm od wewne¬ trznej powierzchni 34 do Ino-tylnej sciany 28 (fig. 2).Korzystnie jest jezeli przegroda 50 umieszqzona na wystepie 52 dozatora posredniego 22 moze byc przesuwana w kierunku ku powierzohni 14 krystalizatora 12 i odsuwana od tej po¬ wierzchni 14. Taki przesuw przegrody 50 mozna uzyskac przez reczne nastawienie, lecz korzy¬ stniejsze jest, gdy przegroda 50 jest automatycznie nastawiana i gdy jej polozenie moze byc kontrolowane w sposób olagly dla zapewnienia w czasie odlewania pozadanego nastawienia szcze¬ linowego otworu wylewu dozujaoego* W korzystnym przykladzie wykonania przegrode 50 mozna wzdluznie przesuwac w plaszczyznie poziomej (fig. 2), przy ozym przegroda 50 moze byc wzdluz¬ nie przesuwana wzdluz plaszczyzny nachylonej pod katem (fig. 4, 8), po luku (fig. 5) albo w plaszczyznie pionowej (fig. 7). W innym przykladzie wykonania przegroda 50 moze byc umiesz¬ czona na plycie 55, nastawialnej w dowolnej ilosci polozen, przez przechylanie plyty 55 w miejscu podparcia 58 dla otrzymania zadanego polozenia przegrody 50 (fig* 12).Jakkolwiek przegroda 50 moze wykonywac ruchy wzdluzne w kierunku ku 1 od powierzchni 14 krystalizatora 12 to jednak nie mozna pozwolic na jej podniesienie sie wzgledem ustalonego polozenia na wystepie 52 dozatora posredniego 22. To ustalone polozenie konieczne jest dla przeciwdzialania naciskom wywieranym przez oiekly metal na powierzchnie dolna 48 przegro¬ dy 50* W jednym z wykonan na powierzchni górnej 56 przegrody 50 moze byc umieszczony obolaz- nik. W inny oh ro zwiazaniaoh moga byc zastosowane do dooisniecia przegrody 50 do górnej, zew¬ netrznej powierzchni 32 wystepu 52 dozatora posredniego 22 urzadzenia sprezynowe ze wstepnym napieoiem albo urzadzenia hydrauliczne albo obejmy albo podobne zespoly* Dzieki mozliwosoi wzdluznego przesuwu przegrody 50 w kierunku ku i od powierzohni 14 krystalizatora 12, przegroda 50 moze byc skosnie przekreoona, na skutek czego jedno naro¬ ze 60 przegrody .50 moze poruszac sie w kierunku odpowiedniej booznej ozesci powierzohni 14 krystalizatora 12, podczas gdy drugie naroze 62 bedzie odsuwac sie od odpowiedniej bocznej ozesoi powierzohni .14 kiystalizatora 12 (fig. 13). Dla ulatwienia takiego skosnego przekre¬ cania przegrody 50, przegroda 50 ma zaokraglona powierzchnie tylna 64, której ozesc opiera sie o powierzchnie 66 dozatora posredniego 22 w miejscu oparcia 68 (fig. 13). Przez obtaoza- nle tylnej powierzohni 64 przegrody 50 mozna uzyskac mniejsze nastawienia ukosne przegro¬ dy 50. Bez wzgledu na srodki uzyte do ukosnego przekrecania przegrody 50 wzgledem powierz-6 137 085 ohoi 14 krystalizatora 12, takie zmiany ukosnego ustawienia moga byc pomocne w uzyskaniu jednolitej grubosci odlewanej tasmy, szczególnie w przypadku dluzej trwajacych operaoji od¬ lewania. Takie zmiany ukosnego nastawienia moga równiez ulatwic usuniecie uwiezionego meta¬ lu z wylewu w ozasie odlewania. Ponadto takie ukosne nastawienia moga byc celowo uzyte dla wytworzenia tasmy o róznej w kierunku poprzecznym grubosci.Przegroda 50 moze byc latwo wymieniona, jakkolwiek korzystne jest ponowne uzycie prze¬ grody 50 i dozatora posredniego 22 albo razem albo oddzielnie. Nalezy równiez zaznaczyc, ze uszkodzenie przegrody 50 nie spowoduje niezdolnosoi do pracy calego dozatora posredniego 22.W przypadku takiego uszkodzenia przegrody nalezy tylko wymienic przegrode i kontynuowac pro¬ ces odlewania.W korzystnym przykladzie wykonania przegroda 50 ma powierzchnie skosna 70 (fig* 14). W takim rozwiazaniu, po przesunieciu przegrody 50 do polozenia pracy, powierzchnia skosna 70 usytuowana jest naprzeciw powierzchni 14 kry atalizatora 12 w odleglosoi mniejszej od 3 mm od tej powierzchni. Korzystnie jest, jezeli powierzchnia skosna 70 usytuowana jest w odleg¬ losoi do 2 mm, a jeszoze korzystniej w odleglosoi 0,5 mm od powierzohni 14* Korzystnym jest równiez, jezeli powierzchnia skosna 70 jest rzeczywiscie calkowioie równolegla do przesuwa¬ jacej sie pod nia powierzchni 14 krystalizatora. Przy uzyciu krystalizatora bebnowego albo kolowego oraz ogniotrwalej przegrody regulacyjnej 50 mozna uzyskac taka calkowita równoleg¬ losc przez umieszczenie arkusza papieru sciernego albo innego materialu sciernego na powierz¬ ohni 14 krystalizatora 12 z powierzohnia scierajaca papieru soiernego umieszczona naprzeciw przegrody 50* Przy przesunieoiu przegrody 50 do zetkniecia sie z powierzohnia 14 krystaliza- / tora 12, z wlozonym pomiedzy nie papierem sciernym i przy równoozesnym przesuwaniu powierz¬ ohni 14 krystalizatora 12 1 papieru soiernego wzdluz przegrody 50, powierzchnia 70 zostaje oszlifowana powierzchnia scierajaoa papieru sciernego do uzyskania oalkowitej równoleglosoi z powierzchnia 14* Taka oalkowita równoleglosc mozna uzyskac nawet przy uzyciu okraglych al¬ bo inny oh krzywoliniowych powierzchni obwodowych krystalizatora. Stwierdzono, ze do uzyska¬ nia takiej równoleglosoi tym sposobem nadaje sie papier scierny 400 albo 600. Tym samym za¬ biegiem mozna doprowadzic do rzeczywiscie oalkowitej równoleglosoi przedniej powierzchnie zewnetrzna 36 dolno-tylnej sciany 28 tak, aby prawie przylegla do powierzchni obwodowej 14 krystalizatora.Przy utrzymaniu oalkowitej równoleglosci powierzchni 70 do powierzchni obwodowej 14 kry¬ stalizatora odstep pomiedzy nimi albo szczelina h jest utrzymana na calej ich dlugosci.Przekonano sie, ze dla uzyskania dobrej jakosciowo tasmy nalezy utrzymywac szczeline h po¬ miedzy powierzohnia 70 i powierzchnia 14 mniejsza od 3 mm, korzystnie mniejsza od okolo 2 mm, a dla odlewania niektórych stopów dla uzyskania olenkioh tasm korzystna jest szczelina mniej¬ sza od 0,5 mm. Alternatywnie zamiast przegrody 50 z powierzchnia skosna 70 mozna stosowac przegrode 50 majaca krawedz powstala w wyniku przecieoia sie przedniej powierzchni przegro¬ dy 50 z jej powierzchnia dolna 48, przy czym krawedz ta powinna byc usytuowana w odleglosci do 3 mm od powierzchni 14 krystalizatora 12.Stwierdzono równiez, ze nie jest tak bardzo istotna rzecza wielkosc szczeliny h pomiedzy przednia powierzchnia zewnetrzna 36 tylnej sciany 28 i powierzchnia 14 (fig. 14). W odnie¬ sieniu do powierzchni zewnetrznej 36 sciany dolno-tylnej 28 uwaza sie za korzystne, zeby znajdowala sie ona mozliwie jak najblizej powierzohni 14, nie stwarzajac zadnyoh przeszkód dla przemieszczajacej sie ponizej powierzchni 14. Zgodnie z tym powierzchnia zewnetrzna 36 sciany dolno-tylnej 28 moze prawie przylegac do powierzohni 14, to jest moze znajdowac sie w odleglosoi do okolo 0,5 mm od tej powierzchni 14. Odleglosc ta musi byc na tyle mala, ze¬ by uniemozliwi- powazniejszy powrotny przeplyw cieklego metalu pomiedzy tymi powierzchniami w ozasie odlewania. Alternatywnie, powierzchnia przednia zewnetrzna 36 moze odchylac sie od otworu 80 wylewu 24 w kierunku oddalajacym sie od powierzohni 14 • Bezwzglednie konieozne jest, aby otwór 80 wylewu 24 pozostawal otwarty i zeby jego ksztalt pozostawal niezmieniony w czasie calej operaoji odlewania tasmy. Nalezy rozumiec, ze waznym jest, zeby otwór 80 nie ulegal erozji 1 nie zatykal sie w czasie odlewania tas¬ my 10 1 ze nalezy opanowac niektóre trudnosoi dla utrzymania jednostajnego przebiegu ope-137 085 7 racji odlewania i dla zmniejszenia zaklócen w wyplywie metalu z dozatora posredniego 22. W tym zakresie okazuje sie, ze niektóra materialy izolacyjne nie moga utrzymac swych pierwot¬ nych wymiarów w ozasie dlugotrwalych operacji odlewania* Dla przeciwdzialania temu wykonuje sie wylew 24, w szczególnosci czesc ograniczona przegroda 50, z materialu, który lepiej u- trsymuje niezmiennosc wymiarów oraz zwartosc przy stykaniu sie przez dluzsze okresy z roz¬ topionym metalem o wysokich temperaturach.Na fig. 14 przedstawiono wybrana konstrukcje wylewu 24 dozatora posredniego 22 wedlug wynalazku* W tym przykladzie wykonania dozatora wymiary podane na fig* 14 powinny sie mie¬ scic w ponizszych zakresaohs Wymiar a b h o Okreslenie Wysokosc otworu szczelinowego wylewu Szerokosc powierzchni skosnej prze¬ grody regulacyjnej Wysokosc szozeliny miedzy krystali- zatorem a przegroda regulacyjna Wysokosc szczeliny miedzy sciana dolno-tylna dozatora a krystaliza- torem Korzystne ogranlozenie 0,23 -2 mm do 3 mm mniej niz 2 mm mniej niz 0,5 mm Korzystniejsze ogranlozenie 0,64 - 0,88 mm 0i5 - 1t5 mm 0,25 - 0,50 mm 0,25 - 0,50 mm Wymiar o okreslajacy dlugosc powierzohni przy otworze 80 wylewu 24 oraz wymiar d okres¬ lajacy grubosc przegrody 50 moga byc dowolne 1 nie wydaje sie, aby byly bardzo istotne dla odlewania tasmy* W rzeczywistosci nalezy uznac, ze wymiar o móglby zblizac sie do zera, je¬ zeliby wewnetrzna powierzohnia 34 sciany dolno-tylnej 28 byla zbiezna z przednia powierzch¬ nia zewnetrzna 36 i przecinala sie z nia tworzac wspólna krawedz* Nalezy równiez zmniejszyc do minimum zaklócenia przeplywu cieklego metalu w czasie od¬ lewania tasmy 10 i trzeba im zapobiec poprzez stepienie ostrych krawedzi wylewu 24 w kie¬ runku odlewania* Zaklócenia przeplywu moglyby byc sprowadzone do minimum przez zaokraglenie innych krawedzi, takich jak krawedz 72 przegrody 50 i krawedz 74 na wewnetrznej powierzch¬ ni 34 usytuowanej w sasiedztwie otworu 80 wylewu 24 (fig* 14)* Do dozatora posredniego 22 nalewany jest olekly metal* Nalezy rozumiec, ze ogrzewacz taki jak cewki indukcyjne albo drut oporowy moze byc umieszczony wewnatrz dozatora posred¬ niego 22 albo pod nim dla utrzymania wysokiej temperatury cieklego metalu* Równiez na prze¬ grodzie 50 albo w jej poblizu moga byc zastosowane zespoly ogrzewcze ze wzgledu na latwosc dostepu do niej w dozatorze wedlug wynalazku* Przykladowo druty oporowe albo oewkl induk¬ cyjne mozna umiescic w dolnej czesci zespolu dociskowego, umieszczonego na przegrodzie 50 albo w jej poblizu* Równiez w czasie odlewania mozna skierowac plomien palnika na przegro¬ de 50* Ciekly metal moze byc bezposrednio wlewany do wstepnie ogrzanego dozatora posrednie¬ go* Taka temperatura wstepnego nagrzania metalu i ogrzewanie dozatora posredniego 22 oraz przegrody 50 powinny zapobiegac krzepnieciu metalu albo zatykaniu otworu 80 wylewu 24 w poczatkowym momencie operacji odlewania, a temperatura przeplywajacego metalu powinna na¬ stepnie utrzymywac dozator 22 oraz przegrode 50 w temperaturze wystarczajacej do zapewnie** nie nieprzerywanego przeplywu cieklego metalu przez otwór 80* W niektóryoh zastosowaniach wylew powinien byc przez caly czas operacji odlewania ogrzewany z zewnatrz* Równiez metal dostarczony do dozatora 22 moze byc przegrzany, azeby umozliwic pewien spadek temperatury, bez ujemnego oddzialywania na strumien oieklego metalu* Równiez przez caly czas trwania operacji odlewania nalezy utrzymac w dozatorze posred¬ nia 22 wzglednie staly poziom roztopionego metalu dla zapewnienia wzglednie stalago cisnie¬ nia metalostatyczneg© w otworze 80 wylewu 24* Mozna to uzyskac przez wstepne nalanie ciek¬ lego metalu do dozatora 22 do zadanego poziomu, a nastepnie regulowanie predkosci wlewania8 157 085 dodatkowej ilosci cieklego metalu do dozatora posredniego 22 dla utrzymania cisnienia me- talostatycznego. Rozumie eief ze dodatkowa ilosc oieklego metalu wlewana do dozatora po¬ sredniego 22 powinna zasadniczo odpowiadac ilosci metalu wyplywajacego z otworu 80 wyle¬ wu 24 na powierzchnie 14. Utrzymanie wzglednie stalej wysokosci poziomu metalu w dozato- rze 22 zapewni wzglednie stale olsnienie strumienia cieklego metalu w otworze 80, potrzeb¬ ne dla unikniecia ujemnego wplywu na operaoje odlewania albo dla zapewnienia odpowiedniej jakosci tasmy. Alternatywnie mozna zastosowac zewnetrzne zródlo cisnienia dla regulacji cisnienia w wylewie 24.W korzystnym przykladzie wykonania dozator posredni 22 i przegroda 50 moga byc prze¬ suwane niezaleznie od siebie albo tez razem ku powierzchni 14 krystalizatora 12 i od niej odsuwana (fig* 9, 10 i 11)• Dozator posredni 22 i umieszczona w niej przegroda 50 sa w po¬ lozeniu odsunietym od powierzohnl 14. Powierzohnia 14 przesuwa sie przed wylewem 24 z szyb¬ koscia od okolo 1 m/s do okolo 50 m/s. Przed albo równoczesnie z wlewaniem oieklego metalu do dozatora posredniego 22, przesuwa sie dozator posredni 22 w kierunku ku powierzchni 14 tak, zeby przednia powierzchnia zewnetrzna 36 doIno-tylnej sciany 28 oraz wylew 24 znalaz¬ ly sie w odleglosci 0,5 mm9 korzystnie 0,25 ma od powierzohni 14 (fig. 10)• W korzystnym przykladzie wykonania przesuwa sie powierzchnie zewnetrzna 36 mozliwie jak najblizej ku po¬ wie rzohni 14, bez powodowania kolizji z ruohoma powierzohnia 14 znajdujaca sie ponizej.Zazwyczaj nie przesuwa sie przegrody 50 wzgledem dozatora posredniego 22, gdy dozator posredni 22 przesuwa sie ku powie rzohni 14* Jednak po albo w czasie ustalenia polozenia przedniej powierzchni zewnetrznej 36 do Ino-tylnej s olany 28 nalezy wyregulowac polozenie przegrody 50 w ten sposób, zeby powierzchnia 70 przegrody 50 znajdowala sie w odleglosoi do 3 mm, korzystnie w odleglosoi od 0,25 mm do 0,51 mm od powierzchni 14 (fig. 11). Zaraz po rozpoozeoiu odlewania dozator posredni 22 oraz przegroda 50 powinny byc we wlasoiwyoh polozeniaoh. Zaleoa sie regulacje szczelin h l/albo o w czasie odlewania, 00 stwarza duza mozliwosc dostosowania sie do potrzeb w ozasie operaoji odlewania.Rozumie sie, ze polozenie przegrody 50 w dozatorze posrednim 22 moze byc ustalone za¬ nim oaly zespól, to jest dozator posredni 22 lacznie z przegroda 50 zostanie przesuniety w polozenie odlewania. W takim ukladzie uzyskane jest wlasciwe polozenie przegrody 50, gdy uzyskane jest wlasciwe polozenie przedniej powierzchni zewnetrznej 36 sciany dolno-tyl- nej 28. W takim rozwiazaniu przegroda 50 moze byc zamocowana na stale we wlasciwym poloze¬ niu na dozatorze posrednim 22.Zastrzezenia patentowe 1. Dozator posredni do wylewania metalu na powierzohnie krystalizatora do ciaglego od¬ lewania tasm, którego dlugosc jest równa w przyblizeniu jazerokosoi odlewanej metalowej tas¬ my, zawierajaoy wylew z otworem majaoym równomierny przekrój poprzeozny na oalej dlugosci, znamienny tym, ze 00 najmniej jedna ze solanek otworu (80) wylewu (24) wyzna¬ cza przegroda (50) regulacyjna majaca przednia powierzchnie umieszczona naprzeciw powierz- ohni (14) obwodowej krystalizatora (12). 2. Dozator wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przegroda (50) regulacyjna zamocowana jest przesuwnie w kierunku bocznym, poziomym, pionowym, katowo i po luku w kie¬ runku do i od powierzohni (14) obwodowej krystalizatora (12) na powierzohni zewnetrznej (32) wystepu (52) sciany przedniej (26) dozatora posredniego (22). 3. Dozator wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przegroda (50) regulacyjna zamooowana jest wychylnie wzgledem powierzohni zewnetrznej (32) wystepu (52) sciany przed¬ niej (26) dozatora posredniego (22).137 085 FIG.l FIG. 2 44 42 42 44 FIG. 3137 085 FIG. 4 FIG. 5 FIG. 6 FIG. 7137 085 na 8 FIG. 10 na 9 FIG. II137 085 FIG. 12 60-i FIG 13 28^ FIG. 14 PracowniaPoligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz.Cena 130 zl PL PL PL