PL153832B1 - Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali - Google Patents
Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detaliInfo
- Publication number
- PL153832B1 PL153832B1 PL26576787A PL26576787A PL153832B1 PL 153832 B1 PL153832 B1 PL 153832B1 PL 26576787 A PL26576787 A PL 26576787A PL 26576787 A PL26576787 A PL 26576787A PL 153832 B1 PL153832 B1 PL 153832B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- magnetron
- holder
- edges
- detail
- dispersion device
- Prior art date
Links
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 title 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
| RZECZPOSPOLITA POLSKA | OPIS PATENTOWY | 153 832 |
| Patent dodatkowy do patentu nr--- | Int. Cl.5 C23C 14/35 | |
| Zgłoszono: 87 05 18 /P. 265767/ | «Hf/i/ł | |
| Pierwszeństwo- | 0 G Ó 111 | |
| URZĄD PATENTOWY | Zgłoszenie ogłoszono: 88 06 23 | |
| RP | Opis patentowy opublikowano: 1991 11 29 |
Twórcy wynalazku: Zdzisław Celiński, Krzysztof Miernik, Ryszard Byczkowski, Andrzej Paper z
Uprawniony z patentu: Międzyresortowe Centrum Naukowe Eksploataojl Majątku Trwałego, Radom /Polska/; Fabryka Samoohodów Małolitrażowych, Bielsko-Biała /Polska/
MAGNETRONOWE URZĄDZENIE ROZPYLAJĄCE,
ZWŁASZCZA DO GRATOWANIA KRAWĘDZI DETALI
Wynalazek dotyczy msgnetronowego urządzenia rozpylającego, zwłaszcza do gratowania krawędzi detali wykonanych z materiałów przewodzących prąd elektryczny, głównie z metali ferromagnetycznych·
Znane jest z patentu USA nr 4 441 974 magnetronowe urządzenie rozpylająoe składające się z komory rozpylającej w której znajdują się tarcza 1 podłoże rozmieszczone tak, że utworzona jest żądana przestrzeń między nimi, z układu magnetyoznego wytwarzającego pole magnetyczne w przestrzeni między tarczą a podłożem oraz ze źródła energii elektrycznej koniecznej do wytworzenia pola elektrycznego w tej przestrzeni· Tarcza, wykonana z materiału rozpylanego, jeat umieszczona nad ozołową powierzchnią elektrody, pod którą znajduje się układ magnetyczny składający się z magnesu trwałego i jarzma. Magnes może byó zastąpiony elektromagnesem. Dla zwiększenia efektywności rozpylania przeprowadza się go przy obniżonym /rzędu 101 Pa/ ciśnieniu w komorze rozpylającej. Nie są znane magnetronowe urządzenia rozpylające przystosowane do gratowania krawędzi detali.
Celem wynalazku było opracowanie takiego magnetronowego urządzenia rozpylającego, które umożliwiałoby gratowanie krawędzi detalu zamocowanego w uchwycie umieszczonym wewnątrz komory próżniowej urządzenia.
Zostało to rozwiązane, według wynalazku, w ten sposób, że uchwyt wraz z detalem tworzą magnetowód ze szczeliną między krawędzią uchwytu 1 gratowaną krawędzią detalu.
W szczelinie tej powstaje silne pole magnetyczne.
Zaletą urządzenia według wynalazku jest to, że pozwala on na szybkie i precyzyjne gratowanie krawędzi detalu oraz na automatyzację tego procesu eliminującą pracę ręczną.
Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładzie wykonania przedstawiającym schemat ideowy urządzenia.
W próżniowym zbiorniku 1 znajduje się, odizolowany od jego obudowy, uchwyt 2, w którym umieszcza się detal 3. Uchwyt 2 jest ukształtowany tak, że pomiędzy gratowaną krawędzią detalu 4 a krawędzią uchwytu 5 powstaje szczelina 6, w której wytwarzane jest
153 832
153 832 silne pole magnetyczne przez, umieszczony w uchwycie 2, trwały magnes 7. Uchwyt 2 wraz z detalem 3 i trwałym magnesem 7 stanowią katodę urządzenia· Nad detalem 3 umieszczona jest anoda 8· Między uchwyt 2 i anodę 8 podawane jest napięcia z zasilacza 9· Anoda 8 ma potencjał obudowy próżniowego zbiornika 1 lub też niewielki potencjał dodatni w stosunku do tej obudowy.
Urządzenie działa następująco: po obniżeniu ciśnienia w próżniowym zbiorniku 1 włącza aię zasilacz 9 podający wysokie napięcie między katodę i anodę 8 urządzenia, które powoduje wytworzenie między nimi pola elektrycznego. W próżniowym zbiorniku 1 następuje proces rozpylania jonowego. Pola elektryczne i magnetyczne są największe w szczelinie 6 między krawędzią detalu 4 i krawędzią uchwytu 5, dlatego też najefektywniej są rozpylane krawędzie detalu 4, a więc usuwany z nich jest grat.
Claims (1)
- Zastrzeżenie patentoweMagnetronowe urządzenia rozpylające, zwłaszcza do gratowania krawędzi detali, składające się ze zbiornika próżniowego zawierającego anodę i uchwyt, który wraz z elementem wytwarzającym pole magnetyczne stanowi katodę, oraz z zasilacza wysokiego napięcia, znamienne tym, że uchwyt /2/ wraz z detalem /3/ tworzą magnetowód ze szczeliną między krawędzią uchwytu /5/ i gratowaną krawędzią detalu /4/.Zakład Wydawnictw UP RP. Nakład 100 egz.Cena 3000 zł
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL26576787A PL153832B1 (pl) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL26576787A PL153832B1 (pl) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL153832B1 true PL153832B1 (pl) | 1991-06-28 |
Family
ID=20036414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL26576787A PL153832B1 (pl) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL153832B1 (pl) |
-
1987
- 1987-05-18 PL PL26576787A patent/PL153832B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0627323B2 (ja) | スパツタリング方法及びその装置 | |
| US4915805A (en) | Hollow cathode type magnetron apparatus construction | |
| AU539963B2 (en) | Treatment of matter in low temperature plasmas | |
| WO2002086937B1 (en) | Dipole ion source | |
| TW347553B (en) | Plasma treatment apparatus | |
| BR0213532A (pt) | Método e sistema de transporte e eletrodeposição para processar eletroliticamente peças de trabalho | |
| JPH04231463A (ja) | 基板被覆装置 | |
| TW201225149A (en) | Sputter target feed system | |
| US20110220494A1 (en) | Methods and apparatus for magnetron metallization for semiconductor fabrication | |
| CN109712858B (zh) | 激光微波离子源 | |
| US20170032927A1 (en) | High Brightness Ion Beam Extraction | |
| PL153832B1 (pl) | Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali | |
| EP2729955B1 (en) | Apparatus and method for the pretreatment and/or for the coating of an article in a vacuum chamber with a hipims power source | |
| Wood et al. | Large-scale implantation and deposition research at Los Alamos National Laboratory | |
| US10240246B2 (en) | Enhanced efficiency electro-enhancement process for surfaces | |
| KR19990024033A (ko) | 캐소우드 아크 증착장치 | |
| TW200643204A (en) | Sputtering apparatus | |
| IL170401A (en) | Plasma emitter and method utilizing the same | |
| KR100701267B1 (ko) | 저전류 구동형 펄스 아크 발생장치 | |
| GB1569117A (en) | Sputtering device | |
| JPH06293980A (ja) | 均質プラズマ処理用プラズマ発生装置 | |
| SU1722791A1 (ru) | Способ полировани деталей типа тел вращени | |
| CN114086140B (zh) | 一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法 | |
| CN208601329U (zh) | V型磁性定位装置 | |
| CN101448969A (zh) | 电弧蒸发源及真空蒸镀装置 |