PL153832B1 - Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali - Google Patents

Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali

Info

Publication number
PL153832B1
PL153832B1 PL26576787A PL26576787A PL153832B1 PL 153832 B1 PL153832 B1 PL 153832B1 PL 26576787 A PL26576787 A PL 26576787A PL 26576787 A PL26576787 A PL 26576787A PL 153832 B1 PL153832 B1 PL 153832B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
magnetron
holder
edges
detail
dispersion device
Prior art date
Application number
PL26576787A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL26576787A priority Critical patent/PL153832B1/pl
Publication of PL153832B1 publication Critical patent/PL153832B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

RZECZPOSPOLITA POLSKA OPIS PATENTOWY 153 832
Patent dodatkowy do patentu nr--- Int. Cl.5 C23C 14/35
Zgłoszono: 87 05 18 /P. 265767/ «Hf/i/ł
Pierwszeństwo- 0 G Ó 111
URZĄD PATENTOWY Zgłoszenie ogłoszono: 88 06 23
RP Opis patentowy opublikowano: 1991 11 29
Twórcy wynalazku: Zdzisław Celiński, Krzysztof Miernik, Ryszard Byczkowski, Andrzej Paper z
Uprawniony z patentu: Międzyresortowe Centrum Naukowe Eksploataojl Majątku Trwałego, Radom /Polska/; Fabryka Samoohodów Małolitrażowych, Bielsko-Biała /Polska/
MAGNETRONOWE URZĄDZENIE ROZPYLAJĄCE,
ZWŁASZCZA DO GRATOWANIA KRAWĘDZI DETALI
Wynalazek dotyczy msgnetronowego urządzenia rozpylającego, zwłaszcza do gratowania krawędzi detali wykonanych z materiałów przewodzących prąd elektryczny, głównie z metali ferromagnetycznych·
Znane jest z patentu USA nr 4 441 974 magnetronowe urządzenie rozpylająoe składające się z komory rozpylającej w której znajdują się tarcza 1 podłoże rozmieszczone tak, że utworzona jest żądana przestrzeń między nimi, z układu magnetyoznego wytwarzającego pole magnetyczne w przestrzeni między tarczą a podłożem oraz ze źródła energii elektrycznej koniecznej do wytworzenia pola elektrycznego w tej przestrzeni· Tarcza, wykonana z materiału rozpylanego, jeat umieszczona nad ozołową powierzchnią elektrody, pod którą znajduje się układ magnetyczny składający się z magnesu trwałego i jarzma. Magnes może byó zastąpiony elektromagnesem. Dla zwiększenia efektywności rozpylania przeprowadza się go przy obniżonym /rzędu 101 Pa/ ciśnieniu w komorze rozpylającej. Nie są znane magnetronowe urządzenia rozpylające przystosowane do gratowania krawędzi detali.
Celem wynalazku było opracowanie takiego magnetronowego urządzenia rozpylającego, które umożliwiałoby gratowanie krawędzi detalu zamocowanego w uchwycie umieszczonym wewnątrz komory próżniowej urządzenia.
Zostało to rozwiązane, według wynalazku, w ten sposób, że uchwyt wraz z detalem tworzą magnetowód ze szczeliną między krawędzią uchwytu 1 gratowaną krawędzią detalu.
W szczelinie tej powstaje silne pole magnetyczne.
Zaletą urządzenia według wynalazku jest to, że pozwala on na szybkie i precyzyjne gratowanie krawędzi detalu oraz na automatyzację tego procesu eliminującą pracę ręczną.
Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładzie wykonania przedstawiającym schemat ideowy urządzenia.
W próżniowym zbiorniku 1 znajduje się, odizolowany od jego obudowy, uchwyt 2, w którym umieszcza się detal 3. Uchwyt 2 jest ukształtowany tak, że pomiędzy gratowaną krawędzią detalu 4 a krawędzią uchwytu 5 powstaje szczelina 6, w której wytwarzane jest
153 832
153 832 silne pole magnetyczne przez, umieszczony w uchwycie 2, trwały magnes 7. Uchwyt 2 wraz z detalem 3 i trwałym magnesem 7 stanowią katodę urządzenia· Nad detalem 3 umieszczona jest anoda 8· Między uchwyt 2 i anodę 8 podawane jest napięcia z zasilacza 9· Anoda 8 ma potencjał obudowy próżniowego zbiornika 1 lub też niewielki potencjał dodatni w stosunku do tej obudowy.
Urządzenie działa następująco: po obniżeniu ciśnienia w próżniowym zbiorniku 1 włącza aię zasilacz 9 podający wysokie napięcie między katodę i anodę 8 urządzenia, które powoduje wytworzenie między nimi pola elektrycznego. W próżniowym zbiorniku 1 następuje proces rozpylania jonowego. Pola elektryczne i magnetyczne są największe w szczelinie 6 między krawędzią detalu 4 i krawędzią uchwytu 5, dlatego też najefektywniej są rozpylane krawędzie detalu 4, a więc usuwany z nich jest grat.

Claims (1)

  1. Zastrzeżenie patentowe
    Magnetronowe urządzenia rozpylające, zwłaszcza do gratowania krawędzi detali, składające się ze zbiornika próżniowego zawierającego anodę i uchwyt, który wraz z elementem wytwarzającym pole magnetyczne stanowi katodę, oraz z zasilacza wysokiego napięcia, znamienne tym, że uchwyt /2/ wraz z detalem /3/ tworzą magnetowód ze szczeliną między krawędzią uchwytu /5/ i gratowaną krawędzią detalu /4/.
    Zakład Wydawnictw UP RP. Nakład 100 egz.
    Cena 3000 zł
PL26576787A 1987-05-18 1987-05-18 Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali PL153832B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL26576787A PL153832B1 (pl) 1987-05-18 1987-05-18 Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL26576787A PL153832B1 (pl) 1987-05-18 1987-05-18 Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL153832B1 true PL153832B1 (pl) 1991-06-28

Family

ID=20036414

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL26576787A PL153832B1 (pl) 1987-05-18 1987-05-18 Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL153832B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0627323B2 (ja) スパツタリング方法及びその装置
US4915805A (en) Hollow cathode type magnetron apparatus construction
AU539963B2 (en) Treatment of matter in low temperature plasmas
WO2002086937B1 (en) Dipole ion source
TW347553B (en) Plasma treatment apparatus
BR0213532A (pt) Método e sistema de transporte e eletrodeposição para processar eletroliticamente peças de trabalho
JPH04231463A (ja) 基板被覆装置
TW201225149A (en) Sputter target feed system
US20110220494A1 (en) Methods and apparatus for magnetron metallization for semiconductor fabrication
CN109712858B (zh) 激光微波离子源
US20170032927A1 (en) High Brightness Ion Beam Extraction
PL153832B1 (pl) Magnetronowe urządzbnie rozpylające, zwłaszcza do gratowani! krawędzi detali
EP2729955B1 (en) Apparatus and method for the pretreatment and/or for the coating of an article in a vacuum chamber with a hipims power source
Wood et al. Large-scale implantation and deposition research at Los Alamos National Laboratory
US10240246B2 (en) Enhanced efficiency electro-enhancement process for surfaces
KR19990024033A (ko) 캐소우드 아크 증착장치
TW200643204A (en) Sputtering apparatus
IL170401A (en) Plasma emitter and method utilizing the same
KR100701267B1 (ko) 저전류 구동형 펄스 아크 발생장치
GB1569117A (en) Sputtering device
JPH06293980A (ja) 均質プラズマ処理用プラズマ発生装置
SU1722791A1 (ru) Способ полировани деталей типа тел вращени
CN114086140B (zh) 一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法
CN208601329U (zh) V型磁性定位装置
CN101448969A (zh) 电弧蒸发源及真空蒸镀装置