PL166223B1 - Źródło plazmy - Google Patents

Źródło plazmy

Info

Publication number
PL166223B1
PL166223B1 PL29269791A PL29269791A PL166223B1 PL 166223 B1 PL166223 B1 PL 166223B1 PL 29269791 A PL29269791 A PL 29269791A PL 29269791 A PL29269791 A PL 29269791A PL 166223 B1 PL166223 B1 PL 166223B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cathode
plasma source
anode
solenoid
movable armature
Prior art date
Application number
PL29269791A
Other languages
English (en)
Other versions
PL292697A2 (en
Inventor
Krzysztof Miernik
Original Assignee
Miedzyresortowe Ct Naukowe Eks
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miedzyresortowe Ct Naukowe Eks filed Critical Miedzyresortowe Ct Naukowe Eks
Priority to PL29269791A priority Critical patent/PL166223B1/pl
Publication of PL292697A2 publication Critical patent/PL292697A2/xx
Publication of PL166223B1 publication Critical patent/PL166223B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Źródło plazmy składające się zz zbiornika próżniowego, wewnątrz którego znajduje się srlenrid wraz z umieszczoną w nim katodą i anodą z układem inicjującym wyładowanie łukowe, znamienne tym, że wewnątrz katody (2) umieszczona jest ruchoma zwora (5) wykonana z materiału ferromagnetycznego.

Description

Przedmiotem wynalazku jest źródło plazmy urządzenia stosowanego głównie do nanoszenia warstw materiałów jedno i wieloskładnikowych metodą łukowego rozpylania w próżni.
Źródło plazmy urządzenia do nanoszenia cienkich warstw jedno- i wieloskładnikowych znane jest np. z patentu USA nr 3 625 848. Składa się ono z katody o kształcie walca otoczonej stożkowatą anodą, na której zamocowany jest układ inicjujący wyładowanie łukowe. Anoda wraz z układem inicjującym oraz katoda podłączone są do biegunów stałoprądowego zasilacza niskiego napięcia i umieszczone są w zbiorniku próżniowym.
Znane są też konstrukcje źródeł, w których celem lokalizacji plazmy na czołowej powierzchni katody, stosowane są ekrany elektrostatyczne lub układy magnetyczne. Układ magnetyczny w tego typu rozwiązaniach, stanowi elektromagnes wykonany w postaci solenoidu, wewnątrz którego umieszczona zostaje rozpylana katoda. Solenoid ten wytwarza nad powierzchnią katody pole magnetyczne o wektorze indukcji magnetycznej skierowanej prostopadle do rozpylanej powierzchni katody.
W źródle plazmy według wynalazku wewnątrz katody umieszczona jest ruchoma zwora wykonana z materiału ferromagnetycznego.
Zastosowanie rozwiązania według wynalazku pozwala na lepsze ukierunkowanie strumienia plazmy, oraz pełniejsze wykorzystanie materiału katody.
Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest w przykładzie wykonania na rysunku, który schematycznie przedstawia źródło plazmy o katodzie kołowej.
Wewnątrz zbiornika próżniowego 1 umieszczona jest katoda 2 oraz stożkowa anoda 3 urządzenia. Katoda 2 umieszczona jest wewnątrz, solenoidu 4. Dodatkowo, wewnątrz solenoidu 4, za rozpylaną powierzchnią katody 2, usytuowana została ruchoma zwora 5 poruszana za pomocą silnika krokowego 6.
Źródło działa w sposób następujący: Po odpompowaniu zbiornika próżniowego 1, do ciśnienia około 10-3-:110-4 Pa pomiędzy katodą 2 i anodą 3 inicjowane jest wyładowanie łukowe. Solenoid 4 wytwarza nad powierzchnią katody 2, prostopadłe do niej pole magnetyczne o indukcji 5-110 mT. Nad tym obszarem katody 2, pod którym znajduje się w danej chwili zwora ferromagnetyczna 5 następuje lokalne zwiększenie wartości indukcji pola magnetycznego, przez co zwiększa się w tym miejscu gęstość prądu jonowego, a tym samym następuje zwiększenie szybkości rozpylania tego obszaru katody 2. Poprzez przesuwanie zwory 5, można sterować obszarem erozji na całej powierzchni katody 2.
ii do układu /oowłf>OMe<fo
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 1,00 zł.

Claims (1)

  1. Zastrzeżenie patentowe
    Źródło plazmy składające się ze zbiornika próżniowego, wewnątrz którego znajduje się solenoid wraz z umieszczoną w nim katodą i anodą z układem inicjującym wyładowanie łukowe, znamienne tym, że wewnątrz katody (2) umieszczona jest ruchoma zwora (5) wykonana z materiału ferromagnetycznego.
PL29269791A 1991-12-10 1991-12-10 Źródło plazmy PL166223B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL29269791A PL166223B1 (pl) 1991-12-10 1991-12-10 Źródło plazmy

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL29269791A PL166223B1 (pl) 1991-12-10 1991-12-10 Źródło plazmy

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL292697A2 PL292697A2 (en) 1992-09-21
PL166223B1 true PL166223B1 (pl) 1995-04-28

Family

ID=20056299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL29269791A PL166223B1 (pl) 1991-12-10 1991-12-10 Źródło plazmy

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL166223B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL292697A2 (en) 1992-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4865710A (en) Magnetron with flux switching cathode and method of operation
US7147759B2 (en) High-power pulsed magnetron sputtering
EP0265365B1 (en) End-hall ion source
US5417834A (en) Arrangement for generating a plasma by means of cathode sputtering
US5262611A (en) Apparatus for ion-plasma machining workpiece surfaces including improved decelerating system
US4915805A (en) Hollow cathode type magnetron apparatus construction
JP2005504880A (ja) ペニング放電プラズマ源
CN102046837B (zh) 溅射装置
CZ290081B6 (cs) Způsob výroby holicího břitu
DE60105856D1 (de) Lichtbogenverdampfer mit kraftvoller magnetführung für targets mit grosser oberfläche
RU2088802C1 (ru) Холловский двигатель
US4597847A (en) Non-magnetic sputtering target
US20090159441A1 (en) Plasma Film Deposition System
PL166223B1 (pl) Źródło plazmy
US8574410B2 (en) Method and apparatus for improved high power impulse magnetron sputtering
PL164663B1 (pl) Źródło plazmy
RU2119275C1 (ru) Плазменный ускоритель
CN107447195B (zh) 磁控管及磁控溅射系统
JP4795174B2 (ja) スパッタリング装置
PL166238B1 (pl) Źródło plazmy
PL166215B1 (pl) Źródło plazmy
JPS58199862A (ja) マグネトロン形スパツタ装置
Deline et al. Physics of plasma detachment in a magnetic nozzle
Rawat et al. Effects of axial magnetic field in a magnetic multipole line cusp ion source
RU2032766C1 (ru) Магнетронное распылительное устройство