PL187951B1 - Sposób powlekania szkła i płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową - Google Patents

Sposób powlekania szkła i płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową

Info

Publication number
PL187951B1
PL187951B1 PL33761098A PL33761098A PL187951B1 PL 187951 B1 PL187951 B1 PL 187951B1 PL 33761098 A PL33761098 A PL 33761098A PL 33761098 A PL33761098 A PL 33761098A PL 187951 B1 PL187951 B1 PL 187951B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
silver
titanium oxide
oxide layer
thickness
Prior art date
Application number
PL33761098A
Other languages
English (en)
Other versions
PL337610A1 (en
Inventor
Axel Nöthe
Michael Rissmann
Thomas Paul
Original Assignee
Flachglas Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=7833606&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=PL187951(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Flachglas Ag filed Critical Flachglas Ag
Publication of PL337610A1 publication Critical patent/PL337610A1/xx
Publication of PL187951B1 publication Critical patent/PL187951B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3613Coatings of type glass/inorganic compound/metal/inorganic compound/metal/other
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3618Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3639Multilayers containing at least two functional metal layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3644Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3652Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3681Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036Reactive sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/083Oxides of refractory metals or yttrium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/73Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

1. S p o s ó b p o w le k a n ia s z k la , p o le g a ja c y n a k o le jn y m n a k la d a n iu w e w n e tr z n e j w a r s tw y p r z e c iw o d b ic io w e j z a w ie - ra ja cej w a r s tw e tle n k u ty ta n u , c o n a jm n ie j je d n e j w a r stw y sreb ra o r a z z e w n e tr z n e j w a r s tw y p r z e c iw o d b ic io w e j , p rzy c z y m w a r s tw e tle n k u ty ta n u n a k la d a s ie p r z e z k a to d o w e n a p y la n ie m a g n etro n o w e sto su ja c n a p ie c ie p rzem ien n e o c z esto - tliw o sc i w y n o s z a c e j 5 - 10 0 k H z , z n a m ie n n y t y m , z e n a k la d a - n ie w a r s tw y tle n k u ty ta n u p r o w a d z i s ie , a z o s ia g n ie o n a g r u b o s c 1 5 -5 0 n m , p o c z y m b e z p o s r e d n io n a te w a r stw e n a k la d a s ie w a r s tw e tle n k u c y n k u p r z e z k a to d o w e n ap ylan ie m a g n etro n o w e, przy c zy m n a k lad an ie w a rstw y tlen k u cy n k u p row ad zi sie , az o sia g n ie o n a g ru b o sc 2 -1 8 nm , a w a rstw e srebra n ak lad a sie b ezp o sred n io na w a rstw e tlen ku cyn k u 6 P ly ta sz k la n a z p r z e z r o c z y s ta p o w lo k a c ie n k o w a r - s tw o w a , m a ja c a w e w n e tr z n a w a r s tw e p r z e c iw o d b ic io w a z a - w ie r a ja c a , b e z p o s r e d n io n a p ly c ie s z k la n e j, w a r s tw e tle n k u ty ta n u n a lo z o n a p r z e z n a p y la n ie z d w ó c h t y ta n o w y c h k a to d w a tm o s fe r z e z a w ie r a ja c e j tlen p rzy n a p ie c iu p r z e m ie n n y m o c z e s t o t liw o s c i w y n o s z a c e j 5 - 1 0 0 k H z , p r z e z r o c z y s ta w a r st- w e sreb ra , e w e n tu a ln ie c o n a jm n ie j j e d n a p are w a r s tw z lo z o - n a z w a r s tw y d y s ta n s o w e j i d a ls z e j p r z e z r o c z y s te j w a r s tw y sreb ra , o r a z z e w n e tr z n a w a r s tw e p r z e c iw o d b ic io w a , z n a m ie - n n a t y m , z e w a r s tw a tle n k u ty ta n u m a g r u b o s c 1 5 -5 0 n m o r a z s a s ia d u ie b e z p o s r e d n io z w a r s tw a tle n k u c y n k u o g ru b o - sci 2 -1 8 nm . n a to m ia st w arstw a srebra, sa sia d u ja ca 7 w ew n etrzn a w a rstw a p r z e c iw o d b ic io w a m a g ru b o sc 7 -2 0 n m i p rzew o d n o sc e le k tr s c z n a w la s c iw a w y n o sz a c a przy najm niej 2.1 x 10-5 S /cm F ig. 2 PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób powlekania szkła i płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową.
Szyby szklane z powłokami cienkowarstwowymi, nałożonymi w celu oddziaływania na ich przepuszczalność i współczynnik odbicia, są coraz częściej stosowane do szklenia budynków i pojazdów. W praktyce, oprócz warstw nałożonych pirolitycznie, na bazie półprzewodnikowych tlenków metali, znaczenie mają głównie układy warstw z co najmniej jedną przezroczystą warstwą srebra. Te układy warstw zwykle posiadają następującą budowę: szkło / wewnętrzna warstwa przeciwodbiciowa / warstwa srebra / zewnętrzna warstwa przeciwodbiciowa. Są znane sposoby nakładania warstw, na skalę przemysłową, za pomocą magnetronowego napylania katodowego (na przykład rozwiązanie znane z opisu US 4 166018).
W tych rozwiązaniach warstwa srebra służy głównie jako warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone, natomiast warstwy przeciwodbiciowe są wykorzystywane, przez odpowiednie dobranie materiału i grubości warstwy, do oddziaływania na przepuszczalność i współczynnik odbicia widzialnej części widma. Zwykle jest korzystne stosowanie powlekanej szyby szklanej o dużym współczynniku przepuszczalności światła, jak również o maksymalnej neutralności barwy.
Są znane rozwiązania z więcej niż jedną warstwą srebra, przy czym pomiędzy poszczególnymi warstwami srebra znajdują się dodatkowe przezroczyste warstwy dystansowe. Warstwy srebra i warstwy dystansowe tworzą wtedy filtr interferencyjny typu Fabry-Perota. Takie rozwiązania z wieloma warstwami srebra umożliwiają specjalistom dalsze, ulepszające, dokładne dostrojenie danych optycznych szyb szklanych powleczonych w ten sposób. Rozwiązania z dwiema lub więcej warstwami srebra są stosowane głównie jako powłoki zatrzymujące promieniowanie słoneczne, gdzie wymagana jest bardzo duża selektywność. Selektywność jest określona jako stosunek współczynnika przepuszczania światła do współczynnika przepuszczania całej energii.
Powłoki cienkowarstwowe z tylko jedną warstwą srebra są stosowane w praktyce głównie jako wielkopowierzchniowe powłoki izolacji cieplnej, które mogą być wytwarzane stosunkowo małym kosztem, gdzie ważny jest głównie duży współczynnik przepuszczania światła i duży współczynnik odbicia w długofalowej części podczerwieni, co odpowiada małej emisyjności. Z szyb szklanych z takimi powłokami cienkowarstwowymi, przez kombinację z normalnie niepowleczoną drugą szybą szklaną, można wytworzyć szkło izolujące cieplnie, które można stosować głównie jako szkło budowlane, a którego wartość k wynosi 1,3 kW/m2K lub mniej.
Jako materiały na warstwy przeciwodbiciowe w przypadku pospolitych wyrobów rynkowych stosuje się głównie tlenki metali, takie jak SnO2, ZnO i Bi2O3. Mogą być one nakładane szczególnie tanio przez magnetronowe napylanie katodowe. Wiele innych materiałów było przeznaczone poprzednio do tego celu. Przy wyborze materiałów na poszczególne warstwy składowe powłoki cienkowarstwowej specjaliści od powlekania muszą uwzględniać znaczną liczbę warunków. Zatem, jeśli chodzi o właściwości powłoki cienkowarstwowej, nie tylko współczynniki odbicia poszczególnych warstw składowych i ich grubość odgrywają znaczną rolę w selektywnej regulacji właściwości optycznych względem interferencji. Warstwy składowe mają również różne właściwości, jeśli chodzi o współczynnik odbicia, strukturę krystaliczną, rozmiar krystalitów, szorstkość, porowatość, energię powierzchniową itd., zależnie od sposobu ich nakładania i od tego, jaka warstwa składowa była nakładana uprzednio. Jak wiadomo, właściwości cienkich warstw, które często są złożone tylko z kilku warstw atomowych, są określone bardzo wyraźnie przez warunki epitaksji na ich obszarach granicznych.
W przeszłości specjaliści poświęcali szczególną uwagę ulepszeniu właściwości warstw srebra. Warstwy srebra są wrażliwe na cały szereg wpływów chemicznych i fizycznych podczas wytwarzania powłok cienkowarstwowych, następnie podczas dalszej obróbki oraz transportowania powleczonych szyb szklanych, a wreszcie podczas ich wykorzystywania do zamierzonych celów. W praktyce znane jest chronienie warstwy srebra przed korozyjną atmosferą powlekania podczas nakładania zewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej powłoki cienkowarstwowej o małej wartości przez reakcyjne napylanie katodowe w drodze nakładania cienkich warstw metalicznych lub z tlenków metali - przykładowo rozwiązania znane z opisów EP 0 104 870 i 0 120 408. Jest znane również chronienie warstw srebra przed wpływem tlenu
187 951 podczas obróbki cieplnej, na przykład podczas gięcia lub odprężania szyb szklanych, przez nakładanie specjalnych pomocniczych warstw o większej grubości niż wymienione wyżej warstwy ochronne na warstwie srebra, co powstrzymuje dyfuzję tlenu w warstwę srebra rozwiązanie znane z opisu EP 0 233 003. Zarówno wymienione poprzednio warstwy ochronne, jak i ostatnio wymienione warstwy pomocnicze, są korzystnie utlenione w maksymalnym stopniu w gotowym wyrobie tak, że zmniejszają współczynnik przepuszczania światła możliwie w niewielkim stopniu i, podobnie jak przezroczyste warstwy dielektryka, stają się częściami składowymi zewnętrznych przeciwodbiciowych warstw na warstwach srebra.
Wiadomo, że odporność warstwy srebra na korozję można polepszyć przez odpowiedni wybór materiałów na wewnętrzną warstwę przeciwodbiciową. Z opisu DE 39 41 027 A1 jest znane rozwiązanie mające wewnętrzną warstwę przeciwodbiciową, w której warstwa sąsiadująca z warstwą srebra jest warstwą tlenku cynku o maksymalnej grubości 15 nm. Wewnętrzna warstwa przeciwodbiciową, według tej publikacji, posiada co najmniej jedną dalszą warstwę wybraną z grupy obejmującej: tlenek cyny, tlenek tytanu, tlenek glinu i tlenek bizmutu. Korzystna i omawiana w przykładach wykonania jest powłoka warstwowa, w której wewnętrzna warstwa przeciwodbiciową ma trzy warstwy składowe, pierwszą warstwę tlenku tytanu o grubości 2-14 nm, drugą warstwę tlenku cyny o grubości 15-25 nm i trzecią warstwę tlenku cynku o maksymalnej grubości 15 nm. Na sąsiadującą warstwę srebra nałożona jest zewnętrzna warstwa przeciwodbiciową złożona z warstwy metalicznej ze specjalnie wybranych metali, pozwalającej na gięcie i odprężanie przy równoczesnym utlenianiu w trakcie obróbki cieplnej, jak również z jednej lub więcej dodatkowych warstw tlenków metali.
Podobne rozwiązanie jest znane z opisu EP 0 773 197, przy czym z publikacji tej wiadomo, że w celu osiągnięcia wysokiego poziomu przepuszczalności światła i zmniejszonej emisyjności, należy nałożyć warstwę tlenku cynku sąsiadującą z warstwą srebra o minimalnej grubości 16 nm. Jako materiały na co najmniej jedną dalszą warstwę wewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej są wymienione tlenki metali, takie jak tlenek bizmutu, tlenek cyny lub azotek krzemu. Obie publikacje omawiają nakładanie potrzebnych pojedynczych warstw za pomocą konwencjonalnego magnetronowego napylania katodowego, gdzie metalowe anody są napylane przez przyłożenie napięcia stałego (stałoprądowe napylanie katodowe).
Z opisu DE 195 48 430 Cl jest znany sposób powlekania szkła, polegający na kolejnym nakładaniu wewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej z tlenku tytanu, co najmniej jednej warstwy srebra oraz zewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej, przy czym warstwę tlenku tytanu nanosi się przez katodowe napylanie magnetronowe stosując napięcie przemienne o częstotliwości 30-80 kHz.
Proces napylania magnetronowego stosując napięcie przemienne o średniej częstotliwości jest znany również z opisu w DD 252 205 i z publikacji J.Vac.Sci.Technol. A 10(4), lipiec/sierpień 1992. Proces ten można przeprowadzać z zastosowaniem pary magnetronowych katod z umieszczonymi z przodu anodami, przy czym obie zwykle są wykonane z takiego samego materiału przeznaczonego do napylania, a biegunowość katod zmienia się okresowo z częstotliwością w zakresie kiloherców. Stosowanie tego sposobu prowadzi do uzyskania specjalnej struktury mikroskopowej i/lub właściwości powierzchniowych warstwy tlenku tytanu.
W znanych powłokach przezroczyste warstwy srebra posiadają przewodność elektryczną właściwą, która jest znacznie mniejsza niż powinna być uzyskana w przypadku pozbawionej wad warstwy srebra o odpowiadającej, jednorodnej grubości. To zmniejszenie przewodności elektrycznej właściwej jest wyraźne, zwłaszcza w przypadku stosunkowo cienkich warstw srebra. Zaobserwowano zatem, że w przypadku powłok cienkowarstwowych wytwarzanych według znanych rozwiązań, mierzalna przewodność elektryczna właściwa występowała tylko przy grubościach warstwy srebra 4 nm lub więcej, przy czym przewodność ta zwiększała się wraz ze wzrostem grubości warstwy, ale nadal była mniejsza od wartości teoretycznie osiągalnej. W przypadku warstw srebra w zakresie grubości 10-15 nm, szczególnie interesujących pod względem zastosowań izolacji cieplnej i kontroli przepuszczalności promieniowania słonecznego, możliwe było w najlepszym przypadku osiągnięcie wartości przewodności elektrycznej właściwej wynoszącej w przybliżeniu 2 x 105 S/cm ze znanymi i konwencjonalnie wytwarzanymi warstwami. W celu uzyskania odpowiedniej powierzchniowej oporności lub
187 951 emisyjności specjalista musiał stosować znacznie grubsze warstwy niż to jest teoretycznie konieczne. Doprowadzało to do problemów z regulacją barwy w wyglądzie zewnętrznym i zmniejszało w niepożądany sposób współczynnik przepuszczalności światła powłoki cienkowarstwowej. Oczywiście są znane sposoby dalszego ulepszania przewodności warstw srebra, na przykład za pomocą obróbki cieplnej lub napromieniowania, znane z opisów DE 42 39 355, DE 43 23 654, DE 44 12 318 i EP 0 585 166. Jednakże te rozwiązania zwiększają znacznie koszty produkcji takich wyrobów.
Celem wynalazku jest opracowanie sposobu powlekania szkła j opracowanie płyty szklanej z przezroczystą powłoką cienkowarstwową, w której warstwa srebra posiada szczególnie dużą przewodność elektryczną właściwą i/lub emisyjność.
Sposób powlekania szkła, polegający na kolejnym nakładaniu wewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej zawierającej warstwę tlenku tytanu, co najmniej jednej warstwy srebra oraz zewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej, przy czym warstwę tlenku tytanu nakłada się przez katodowe napylanie magnetronowe stosując napięcie przemienne o częstotliwości wynoszącej 5-100 kHz, według wynalazku charakteryzuje się tym, że nakładanie warstwy tlenku tytanu prowadzi się, aż osiągnie ona grubość 15-50 nm, po czym bezpośrednio na tę warstwę nakłada się warstwę tlenku cynku przez katodowe napylanie magnetronowe, przy czym nakładanie warstwy tlenku cynku prowadzi się, aż osiągnie ona grubość 2-18 nm, a warstwę srebra nakłada się bezpośrednio na warstwę tlenku cynku.
Warstwę tlenku tytanu nakłada się, korzystnie, w atmosferze powlekania zawierającej argon, azot i tlen. Ewentualnie, stosuje się atmosferę powlekania, w której stosunek ilościowy argonu do azotu wynosi od 3:1 do 1:5.
W szczególności, warstwę tlenku tytanu nakłada się z prędkością przyrostu grubości warstwy wynoszącą przynajmniej 30 nm/min, korzystnie powyżej 50 nm/min.
Warstwę tlenku cynku nakłada się, korzystnie, przez napylanie z dwóch cynkowych anod, przy czym stosuje się napięcie przemienne o częstotliwości wynoszącej 5-100 kHz.
Płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową, mająca spodnią warstwę przeciwodbiciową zawierającą, bezpośrednio na płycie szklanej, warstwę tlenku tytanu nałożoną przez napylanie z dwóch tytanowych katod w atmosferze zawierającej tlen przy napięciu przemiennym o częstotliwości wynoszącej 5-100 kHz, przezroczystą warstwę srebra, ewentualnie co najmniej jedną parę warstw złożoną z warstwy dystansowej i dalszej przezroczystej warstwy srebra, oraz zewnętrzną warstwę przeciwodbiciową, według wynalazku charakteryzuje się tym, że warstwa tlenku tytanu ma grubość 15-50 nm oraz sąsiaduje bezpośrednio z warstwą tlenku cynku o grubości 2-18 nm, natomiast warstwa srebra, sąsiadująca z wewnętrzną warstwą przeciwodbiciową, ma grubość 7-20 nm i przewodność elektryczną właściwą wynoszącą przynajmniej 2,1 x 105 S/cm.
W szczególności, warstwa tlenku tytanu zawiera azot, przy czym stosunek N/(N+O) dla tej warstwy wynosi 5-50% atomowych.
Warstwa tlenku tytanu ma, korzystnie, grubość 18-40 nm. Warstwa tlenku cynku ma, korzystnie, grubość 4-12 nm. Warstwa srebra sąsiadująca z wewnętrzną warstwą przeciwodbiciową ma, korzystnie, grubość 8-15 nm.
Zewnętrzna warstwa przeciwodbiciową, nałożona na warstwie srebra, ewentualnie posiada warstwę ochronną o grubości 2-5 nm, zawierającą tlenek co najmniej jednego z metali In, Sn, Cr, Ni, Zn, Ta, Nb, Zr, Hf, zwłaszcza tlenek In(90)Sn(10), jak również zewnętrzną warstwę z materiału wybranego z tlenków Sn, Zn, Ti, Nb, Zr i/lub Hf oraz azotku krzemu, zwłaszcza SnO2, o grubości optycznej 60-120 nm, korzystnie 80-100 nm.
Pomiędzy warstwą srebra sąsiadującą z wewnętrzną warstwą przeciwodbiciową a zewnętrzną warstwą przeciwodbiciową płyta szklana ewentualnie ma co najmniej jedną parę warstw złożoną z warstwy dystansowej i dalszej warstwy srebra.
Szczególnie korzystne właściwości warstwy srebra można osiągnąć, jeżeli zamiast warstwy czystego tlenku tytanu nakłada się w atmosferze powlekania zawierającej argon, azot i tlen warstwę azotowanego tlenku tytanu o zawartości azotu N/(N+O) w warstwie wynoszącej 5-50% atomowych. Korzystne jest takie postępowanie, że warstwa azotowanego tlenku tytanu jest nakładana w atmosferze zawierającej argon i azot w proporcji ilościowej od 3:1 do 1:5, jak
187 951 również tlen. Dodanie azotu do atmosfery powlekania podczas nakładania warstwy tlenku tytanu umożliwia nie tylko działanie z zwiększoną prędkością przyrostu grubości warstwy, ale również polepsza jakość nakładanej później warstwy srebra. Zawartość azotu w atmosferze powlekania jest korzystnie ograniczona od góry, tak że wytworzona warstwa azotowanego tlenku tytanu nie ma jeszcze znacznej absorpcji w obszarze widzialnym widma, co można zaobserwować w przypadku warstw czystego azotku tytanu. Zawartość tlenu w atmosferze powlekania jest tak dobrana, że jest odpowiednio dużo tlenu do utlenienia tytanu a prędkość przyrostu grubości warstwy jest możliwie duża.
Tam, gdzie w związku z wynalazkiem, w celu uproszczenia terminologii, wspomina się o warstwach tlenku tytanu, z reguły chodzi o warstwy azotowanego tlenku tytanu, chyba że wyraźnie jest mowa o warstwach czystego tlenku tytanu.
Zastosowanie niniejszego wynalazku nie jest ograniczone do szyb ze szkła nieorganicznego, zwłaszcza szyb ze szkła float. Jako szyby szklane uważane są wszystkie przezroczyste szyby z nieorganicznego lub organicznego materiału szklistego. Jest możliwe dodawanie do poszczególnych warstw powłoki cienkowarstwowej niewielkich ilości innych materiałów, w celu polepszenia właściwości chemicznych lub fizycznych tych warstw, jeżeli tylko nie powoduje to znacznego zmniejszenia przewodności elektrycznej właściwej warstwy srebra. W szczególności, jest możliwe stosowanie, zamiast czystych tlenków metali, warstw azotowanych tlenków metali jako składowe warstwy tlenkowe.
Rozwiązanie według wynalazku umożliwia osiągnięcie przewodności elektrycznej właściwej warstwy srebra, sąsiadującej z wewnętrzną warstwą przeciwodbiciową, wynoszące przynajmniej 2,1 x 105 S/cm, a zatem małej emisyjności. Rozwiązanie według wynalazku umożliwia ponadto, jak opisano poniżej, nakładanie możliwie neutralnych, pod względem barwy, powłok cienkowarstwowych do zespołów dwuszybowych z dużym, w przypadku zastosowań do izolowania cieplnego, współczynnikiem przepuszczalności światła przy podanej emisyjności lub, w przypadku zastosowań do kontrolowania przepuszczania promieniowania słonecznego, ze szczególnie dużą selektywnością, korzystnie z selektywnością 2 lub więcej. Przez odpowiednie stosowanie rozwiązania według wynalazku właściwości takie można osiągnąć bez stosowania późniejszych procesów obróbki cieplnej lub innych kosztownych i czasochłonnych procesów późniejszej obróbki powłoki cienkowarstwowej.
Płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową według wynalazku może, korzystnie, wchodzić w skład zespołu dwuszybowego, zapewniającego izolację cieplną, przy grubości pojedynczych szyb 4 mm z wypełnieniem gazowym argonem, z odstępem szyb 16 mm, jak również w przypadku umieszczenia powłoki cienkowarstwowej na powierzchni wewnętrznej szyby szklanej zwróconej do przestrzeni pośredniej, zapewniającego współczynnik przepuszczalności światła co najmniej 76%, wartość k maksimum 1,1 W/m2K, emisyjność maksimum 0,04 oraz jako współrzędne barwy wyglądu zewnętrznego wartości a* od - 2 do +1 i b* od -6 do -2.
Przedmiot wynalazku jest objaśniony, w przykładach wykonania, za pomocą rysunków, na których: fig. 1 przedstawia przewodność elektryczną właściwą powłoki warstwowej z tlenku tytanu, tlenku cynku oraz srebra w funkcji grubości warstwy srebra, fig. 2 - oporność elektryczną powłoki z fig. 1, przy stałej grubości warstwy srebra, w funkcji grubości warstwy tlenku cynku, fig. 3 - współczynnik odbicia i przepuszczania w funkcji długości fali dla szyby szklanej z izolującą cieplnie powłoką warstwową według wynalazku, a fig. 4 - współczynnik odbicia i przepuszczania w funkcji długości fali dla szyby szklanej z powłoką warstwową kontrolującą przepuszczanie promieniowania słonecznego.
Figura 1 przedstawia charakterystykę przewodności elektrycznej właściwej warstwy srebra dla różnych grubości warstwy, przy umieszczeniu tej warstwy srebra w dwóch różnie wykonanych wewnętrznych warstwach przeciwodbiciowych. Krzywa ciągła przedstawia charakterystykę przewodności elektrycznej właściwej dla wewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej zawierającej warstwę tlenku tytanu, która została nałożona na szybę szklaną za pomocą sposobu napylania według wynalazku, jak również warstwę tlenku cynku sąsiadującą z warstwą srebra i warstwą tlenku tytanu. W przypadku grubszych warstw srebra wartość przewodności elektrycznej właściwej zbliża się do wartości granicznej wynoszącej w przybliżeniu 3,5 x 105 S/cm.
187 951
Linia przerywana na fig. 1 przedstawia charakterystykę przewodności elektrycznej właściwej dla porównawczego przykładu, w którym warstwa tlenku tytanu została nałożona za pomocą konwencjonalnej technologii napylania katodowego przy użyciu prądu stałego. W tym przypadku mierzalna przewodność elektryczna zaczyna się dopiero od grubości warstwy powyżej 4,0 nm. W przypadku grubszych warstw srebra uzyskuje się wartość graniczną tylko 2,5 x 10 5 S/cm, czyli jedną trzecią poniżej wartości osiąganej dla rozwiązania według wynalazku.
Przyczyną tej niespodziewanie dużej przewodności elektrycznej właściwej warstwy srebra w rozwiązaniu według wynalazku przypuszczalnie są szczególnie korzystne warunki epitaksjalne dla srebra, które zostały wytworzone przez wewnętrzną warstwę przeciwodbiciową wykonaną sposobem według wynalazku. Najlepsze wyniki można osiągnąć przez odpowiednie wybranie materiałów na te dwie warstwy składowe wewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej, jak również przez sposób nakładania warstwy tlenku tytanu. W przypadku nakładania sposobem według wynalazku, z zastosowaniem podwójnych katod, prędkość przyrostu grubości warstwy tlenku tytanu może być znacznie większa niż w przypadku konwencjonalnego napylania katodowego z zastosowaniem prądu stałego. Przypuszczalnie na skutek zwiększonej prędkości przyrostu grubości warstwy i zmienionych warunków nakładania związanych z użyciem specjalnego procesu napylania uzyskuje się pożądany wpływ na strukturę warstwy tlenku tytanu, a więc bezpośrednio warstwy srebra.
Fakt, że nie tylko proces wytwarzania warstwy tlenku tytanu według wynalazku jest ważny, jeśli mają być wytworzone warstwy srebra o najwyższej jakości, zilustrowano na fig. 2. Rysunek ten przedstawia charakterystykę oporności (w dowolnych jednostkach) warstwy srebra o grubości 12,5 nm osadzonej na wewnętrznej warstwie przeciwodbiciowej złożonej z mającej grubość 25 nm warstwy tlenku tytanu i warstwy tlenku cynku. To, co przedstawiono na tym rysunku, oparte jest na szeregu prób, gdzie grubość warstwy srebra i grubość warstwy tlenku tytanu utrzymywano jako stałą, natomiast grubość warstwy tlenku cynku była zmieniana. Krzywa ciągła przedstawia wartości oporności dla dolnej warstwy przeciwodbiciowej z warstwą tlenku tytanu, która została utworzona zgodnie z wynalazkiem. Linia przerywana przedstawia wartości dla warstwy tlenku tytanu, która została wytworzona przez konwencjonalny proces napylania katodowego z zastosowaniem prądu stałego. Widać przede wszystkim, że wartości dla warstwy tlenku tytanu wytworzonej według wynalazku są wyraźnie, to znaczy do 10%, poniżej wartości dla warstwy tlenku tytanu nałożonej konwencjonalnie. Ponadto staje się oczywiste, że dla oporności uzyskano wyraźne minimum przy grubości warstwy tlenku cynku w przybliżeniu 8 nm w przypadku warstwy nałożonej według wynalazku, przy czym oporność jest, dla zakresu grubości warstwy tlenku cynku wynoszącej w przybliżeniu 2-18 nm, poniżej wartości oporności dla warstw uzyskiwanych przy stosowaniu konwencjonalnej technologii.
Przykład 1
Na szybę ze szkła float o grubości 4 mm ze szkła sodowo-wapniowo-krzemianowego o wymiarach 40 x 40 cm nałożono warstwę tlenku tytanu o grubości 25 nm początkowo w komorze próżniowej z układem podwójnej katody. W tym celu do komory tej wprowadzono mieszaninę Ar/N2/O2 w stosunku objętościowym 12:8:3 tak, że otrzymano ciśnienie 2,2 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa podwójnej katody wynosiła 8,4 kW, a częstotliwość napięcia przemiennego wynosiła 25 kHz. Na tę warstwę tlenku tytanu nałożono następnie, za pomocą katody stałoprądowej, warstwę tlenku cynku o grubości 8 nm. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2 tak, że uzyskano ciśnienie 2,4 x 104 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 4,1 kW. Następnie nałożono warstwę srebra grubości 12,5 nm. W tym celu do komory wprowadzono argon tak, że uzyskano ciśnienie 1,4 x 10- Pa.
Tak powleczona szyba szklana miała na powleczonej stronie oporność powierzchniową
2,9 Ω i współczynnik odbicia promieniowania podczerwonego 97% przy 8 pm. Przewodność elektryczna właściwa warstwy srebra wynosiła 2,75 x 105 S/cm.
Porównawczy przykład 2
Na szybę szklaną według przykładu 1 nałożono warstwę tlenku tytanu o grubości 25 nm początkowo za pomocą podwójnej katody w komorze próżniowej. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2, tak że uzyskano ciśnienie 2,1 x 10^ Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 8,8 kW, a częstotliwość napięcia przemiennego wynosiła 25 kHz. Na
187 951 tę warstwę tlenku tytanu w odróżnieniu od przykładu 1 nałożono bezpośrednio warstwę srebra. W tym celu do komory wprowadzono argon, tak że uzyskano ciśnienie 1,4 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 1,4 kW. Grubość warstwy srebra wynosiła 12,5 nm, jak w pierwszym przykładzie.
Tak powleczona szyba szklana miała na powleczonej stronie oporność powierzchniową
3,9 Ω i współczynnik odbicia promieniowania podczerwonego 96,2% przy 8 gm. Przewodność elektryczna właściwa warstwy srebra wynosiła 2,0 x 10 ~S/cm i była prawie 30% mniejsza niż w przypadku warstwy wytworzonej według wynalazku zgodnie z przykładem 1.
Porównawczy przykład 3
Na szybę szklaną według przykładu 1 nałożono początkowo bezpośrednio w komorze próżniowej warstwę tlenku cynku o grubości 20 nm. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę Ar/O2, tak że uzyskano ciśnienie 2,4 x 10- Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 4,1 kW. Na warstwę tlenku cynku nałożono bezpośrednio warstwę srebra o grubości 13,0 nm. W tym celu do komory wprowadzono argon, tak że uzyskano ciśnienie 1,4 x 10- Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 1,4 kW.
Tak powleczona szyba szklana miała na stronie powleczonej oporność powierzchniową 3,6 Ω i współczynnik odbicia promieniowania podczerwonego 96,6% przy 8 gm. Przewodność elektryczna właściwa warstwy srebra wynosiła 2,1 x 10 7 i była prawie 25% mniejsza niż w przypadku warstwy wytworzonej według wynalazku zgodnie z przykładem 1.
Porównawczy przykład 4
Na szybę szklaną według przykładu 1 nałożono warstwę tlenku tytanu o grubości 25 nm za pomocą konwencjonalnej katody przy prądzie stałym. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę Ar/N2/O2 w proporcjach 3:10:2, tak że uzyskano ciśnienie 5,0 x 10— Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 10,0 kW. Na warstwę tlenku tytanu nałożono następnie warstwę tlenku cynku o grubości 10,0 nm. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2, tak że uzyskano ciśnienie 6,8 x 10— Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 8,3 kW. Wreszcie do komory wprowadzono argon, tak że uzyskano ciśnienie 1,4 x 10’1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 1,8 kW.
Tak powleczona szyba szklana miała na stronie powleczonej oporność powierzchniową 3,8 Ω i współczynnik odbicia promieniowania podczerwonego 96% przy 8 gm. Przewodność elektryczna właściwa warstwy srebra wynosiła 2,1 x 105 S/cm i była prawie 25% mniejsza niż w przypadku warstwy srebra według pierwszego przykładu.
Przykłady 1-4 pokazują, że przez zastosowanie warstwy przeciwodbiciowej według wynalazku było możliwe uzyskanie oporności powierzchniowej warstwy srebra poniżej 3 Ω przy grubości warstwy w przybliżeniu 12,5-13 nm. Przewodność elektryczna właściwa warstwy srebra była we wszystkich trzech przykładach porównawczych wyraźnie poniżej przewodności elektrycznej właściwej warstwy wykonanej sposobem według wynalazku. Oznacza to, ze względu na znane zależności pomiędzy przewodnością elektryczną warstwy srebra a jej emisyjnością lub współczynnikiem odbicia promieniowania podczerwonego, że przy określonej grubości warstwy srebra i ograniczonej od góry przepuszczalności światła można dzięki wynalazkowi osiągnąć szczególnie duży współczynnik odbicia promieniowania podczerwonego, a więc szczególnie małąemisyjność.
Korzystny wpływ wynalazku w praktycznych zastosowaniach jest szczególnie wyraźny w związku z następującymi dwoma przykładami wytwarzania szyb szklanych z kompletnymi powłokami cienkowarstwowymi. Posiadają one oprócz podstawowej struktury według przykładu 1 co najmniej jedną zewnętrzną warstwę przeciwodbiciową jak również ewentualnie co najmniej jedną dalszą warstwę srebra oddzieloną od pierwszej za pomocą warstwy dystansowej. Dane dotyczące emisyjności i współczynnika k oparte są na sposobach obliczania według normy ISO 10292. Jeśli chodzi o określenie współczynnika przepuszczania światła i współczynnika całkowitego przenoszenia energii, odsyła się do normy ISO 9050, podczas gdy współrzędne a* i b* były określone zgodnie z normą DIN 6174.
Przykład 5
W celu uzyskania izolującej cieplnie powłoki o dużym współczynniku odbicia w długofalowym obszarze podczerwieni, nadającej się do wytworzenia wysoce skutecznej, izolującej
187 951 cieplnie podwójnej szyby szklanej o dużej przepuszczalności światła, zastosowano początkowo magnetronowy sposób napylania katodowego, aby nałożyć na szybę szklaną o grubości 4 mm o wymiarach 40 x 40 cm warstwę tlenku tytanu o grubości 22,9 nm za pomocą podwójnej katody. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/N2/O2 w proporcji 6:20:3, tak że uzyskano ciśnienie 2,6 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 8,4 kW, a częstotliwość napięcia przemiennego wynosiła 25 kHz. Prędkość przyrostu grubości warstwy tlenku tytanu wynosiła 50 nm/min. Następnie warstwę tlenku cynku o grubości 5 nm nałożono na warstwę tlenku tytanu za pomocą katody stałoprądowej. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2, tak że osiągnięto ciśnienie 2,4 x 101 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 4,1 kW. Następnie nałożono warstwę srebra o grubości 11,8 nm. W tym celu do komory wprowadzono argon, tak że osiągnięto ciśnienie 1,4 x 10’1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 1,4 kW. Na warstwę srebra nałożono najpierw warstwę In(90)Sn(10) o grubości 3 nm jako warstwę ochronną dla późniejszego reaktywnego nałożenia zewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2, tak że uzyskano ciśnienie 2,4 x 10’1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 0,7 kW. Wreszcie nałożono zasadniczą zewnętrzną warstwę przeciwodbiciową z tlenku cyny o grubości 44,8 nm. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2, tak że uzyskano ciśnienie 4,4 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 4,7 kW.
Powleczona szyba szklana miała zatem, jako pojedyncza szyba, współczynnik przepuszczania światła 84,8%. Emisyjność powleczonej strony wynosiła 0,04. Powleczona szyba szklana była swą stroną powleczoną zwrócona do przestrzeni pośredniej po zmontowaniu z drugą niepowleczoną szybą ze szkła float o grubości 4 mm, aby utworzyć izolujący cieplnie zespół dwuszybowy z odstępem przestrzeni pośredniej 16 mm i z wypełnieniem gazowym argonem. W przypadku umieszczenia powleczonej szyby szklanej po stronie wewnętrznej, zespół dwuszybowy miał współczynnik przepuszczania światła 76,3% i wartość k 1,1 W/m2K. Linia barw widmowych zewnętrznego odbicia była określona przez współrzędne barwy a* = -0,1 i b* = -4,4. Wygląd zewnętrzny izolującego cieplnie zespołu dwuszybowego był zatem prawie neutralny pod względem barwy.
Charakterystyka widmowa współczynnika przepuszczania powleczonej pojedynczej szyby szklanej w zakresie widma i w bliskim obszarze podczerwieni pokazana jest na fig. 3 jako krzywa ciągła. Charakterystyka współczynnika odbicia powłoki na stronie powleczonej jest przedstawiona linią przerywaną.
Przy kład 6
W celu uzyskania powłoki ochronnej nadającej się do wytwarzania kontrolującego przepuszczanie promieniowania słonecznego zespołu dwuszybowego i dużej selektywności (współczynnik przepuszczania światła do współczynnika przepuszczania całej energii) użyto magnetronowegonapylania katodowego przede wszystkim do osadzania, na szybie szkła float o grubości 6 mm o wymiarach 40 x 40 cm, warstwy tlenku tytanu o grubości 31,8 nm za pomocą podwójnej katody. W tym celu mieszaninę gazową Ar/N/Ch w proporcjach 12:8:3 wprowadzono do komory, tak że osiągnięto ciśnienie 2,2 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wnosiła 8,4 kW, a częstotliwość napięcia 25 kHz. Następnie nałożono warstwę tlenku cynku o grubości 5 nm. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę Ar/O2, tak że uzyskano ciśnienie 2,4 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 4,1 kW. Potem nałożono pierwszą warstwę srebra o grubości 11 nm. W tym celu do komory wprowadzono argon, tak że otrzymano ciśnienie 1,4 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 1,4 kW. Na pierwszą warstwę srebra nałożono jako warstwę ochronną warstwę In(90)Sn(10) o grubości 3 nm. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2, tak że otrzymano ciśnienie 2,4 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 0,7 kW. Następnie nałożono warstwę tlenku cyny o grubości
84,9 nm, służącą jako warstwa dystansowa dla późniejszej drugiej warstwy srebra. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/Cb, tak że uzyskano ciśnienie 4,4 x 10*1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 4,7 kW. Na tę warstwę dystansową SnO2 nałożono drugą warstwę srebra o grubości 14 nm. W tym celu do komory wprowadzono argon, tak że otrzymano ciśnienie 1,4 x 101 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 1,4 kW. Na tę drugą warstwę srebra nałożono, jak na pierwszą warstwę srebra i z takimi samymi parametrami procesu warstwę
187 951 tlenkową In(90)Sn( 10) o grubości 3 nm. Wreszcie jako główną warstwę zewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej nałożono warstwę tlenku cyny o grubości 37,8 nm. W tym celu do komory wprowadzono mieszaninę gazową Ar/O2 tak, że otrzymano ciśnienie 4,4 x 10'1 Pa. Moc wyjściowa katody wynosiła 4,7 kW.
Tak powleczona szyba szklana miała jako szyba pojedyncza współczynnik przepuszczalności światła 79,6%. Zmontowaną ją z drugą niepowleczoną szybą ze szkła float o grubości 6 mm, aby utworzyć dwuszybowy zespół kontrolujący przepuszczanie promieniowania słonecznego z wymiarem przestrzeni pośredniej 16 mm i z wypełnieniem gazowym argonem. Przy umieszczeniu powłoki cienkowarstwowej na wewnętrznej stronie zewnętrznej szyby otrzymano współczynnik przepuszczalności światła 71,0% i współczynnik przepuszczalności całej energii 35,2%. Otrzymano zatem niezwykle dużą wartość selektywności wynoszącą 2,02 dla tego zespołu dwuszybowego kontrolującego przepuszczanie promieniowania słonecznego. Wygląd zewnętrzny przy współrzędnych barwy odbicia a*=-0,3 i b*=-1,15 był bardzo neutralny barwnie.
Charakterystyka widmowa współczynnika przepuszczalności pojedynczej powleczonej szyby szklanej w zakresie widma widzialnego i w bliskim obszarze podczerwieni przedstawiona jest na fig. 4 jako krzywa ciągła. Charakterystyka współczynnika odbicia w odniesieniu do strony powleczonej przedstawiona jest linią przerywaną.
187 951
Oporność warstwy Ag Przewodność właściwa (1.06 S/cm)
Grubość Ag (nm) Fig. 1
Grubość tlenku cynku (nm)
Fig. 2
187 951
Długość fali (nm)
Fig. 3
Długość fali (nm)
Fig. 4
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 50 egz. Cena 4,00 zł.

Claims (12)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Sposób powlekania szkła, polegający na kolejnym nakładaniu wewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej zawierającej warstwę tlenku tytanu, co najmniej jednej warstwy srebra oraz zewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej, przy czym warstwę tlenku tytanu nakłada się przez katodowe napylanie magnetronowe stosując napięcie przemienne o częstotliwości wynoszącej 5-100 kHz, znamienny tym, że nakładanie warstwy tlenku tytanu prowadzi się, aż osiągnie ona grubość 15-50 nm, po czym bezpośrednio na tę warstwę nakłada się warstwę tlenku cynku przez katodowe napylanie magnetronowe, przy czym nakładanie warstwy tlenku cynku prowadzi się, aż osiągnie ona grubość 2-18 nm, a warstwę srebra nakłada się bezpośrednio na warstwę tlenku cynku.
  2. 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwę tlenku tytanu nakłada się w atmosferze powlekania zawierającej argon, azot i tlen.
  3. 3. Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że stosuje się atmosferę powlekania, w której stosunek ilościowy argonu do azotu wynosi od 3:1 do 1:5.
  4. 4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwę tlenku tytanu nakłada się z prędkością przyrostu grubości warstwy wynoszącą przynajmniej 30 nm/min, korzystnie powyżej 50 nm/min.
  5. 5. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwę tlenku cynku nakłada się przez napylanie z dwóch cynkowych anod, przy czym stosuje się napięcie przemienne o częstotliwości wynoszącej 5-100 kHz.
  6. 6. Płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową, mająca wewnętrzną warstwę przeciwodbiciową zawierającą, bezpośrednio na płycie szklanej, warstwę tlenku tytanu nałożoną przez napylanie z dwóch tytanowych katod w atmosferze zawierającej tlen przy napięciu przemiennym o częstotliwości wynoszącej 5-100 kHz, przezroczystą warstwę srebra, ewentualnie co najmniej jedną parę warstw złożoną z warstwy dystansowej i dalszej przezroczystej warstwy srebra, oraz zewnętrzną warstwę przeciwodbiciową, znamienna tym, że warstwa tlenku tytanu ma grubość 15-50 nm oraz sąsiaduje bezpośrednio z warstwą tlenku cynku o grubości 2-18 nm, natomiast warstwa srebra, sąsiadująca z wewnętrzną warstwą przeciwodbiciową, ma grubość 7-20 nm i przewodność elektryczną właściwą wynoszącą przynajmniej 2,1 x 105 S/cm.
  7. 7. Płyta szklana według zastrz. 6, znamienna tym, że warstwa tlenku tytanu zawiera azot, przy czym stosunek N/(N+0) dla tej warstwy wynosi 5-50% atomowych.
  8. 8. Płyta szklana według zastrz. 6 albo 7, znamienna tym, że warstwa tlenku tytanu ma grubość 18-40 nm.
  9. 9. Płyta szklana według zastrz. 6, znamienna tym, że warstwa tlenku cynku ma grubość 4-12 nm.
  10. 10. Płyta szklana według zastrz. 6, znamienna tym, że warstwa srebra sąsiadująca z wewnętrzną warstwą przeciwodbiciową ma grubość 8-15 nm.
  11. 11. Płyta szklana według zastrz. 6, znamienna tym, że zewnętrzna warstwa przeciwodbiciowa, nałożona na warstwie srebra, posiada warstwę ochronną o grubości 2-5 nm, zawierającą tlenek co najmniej jednego z metali In, Sn, Cr, Ni, Zn, Ta, Nb, Zr, Hf, zwłaszcza tlenek In(90)Sn(10), jak również zewnętrzną warstwę z materiału wybranego z tlenków Sn, Zn, Ti, Nb, Zr i/lub Hf oraz azotku krzemu, zwłaszcza SnO2, o grubości optycznej 60-120 nm, korzystnie 80-100 nm.
  12. 12. Płyta szklana według zastrz. 6, znamienna tym, że pomiędzy warstwą srebra sąsiadującą z wewnętrzną warstwą przeciwodbiciową a zewnętrzną warstwą przeciwodbiciową ma co najmniej jedną parę warstw złożoną z warstwy dystansowej i dalszej warstwy srebra.
    * * *
    187 951
PL33761098A 1997-06-25 1998-06-24 Sposób powlekania szkła i płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową PL187951B1 (pl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19726966A DE19726966C1 (de) 1997-06-25 1997-06-25 Verfahren zur Herstellung einer transparenten Silberschicht mit hoher spezifischer elektrischer Leitfähigkeit , Glasscheibe mit einem Dünnschichtsystem mit einer solchen Silberschicht und deren Verwendung
PCT/EP1998/003871 WO1999000528A1 (en) 1997-06-25 1998-06-24 Coatings with a silver layer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL337610A1 PL337610A1 (en) 2000-08-28
PL187951B1 true PL187951B1 (pl) 2004-11-30

Family

ID=7833606

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL33761098A PL187951B1 (pl) 1997-06-25 1998-06-24 Sposób powlekania szkła i płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową

Country Status (10)

Country Link
US (1) US6572940B1 (pl)
EP (1) EP1007756B1 (pl)
AT (1) ATE276380T1 (pl)
AU (1) AU8800998A (pl)
BR (1) BR9810299A (pl)
CA (1) CA2294991C (pl)
CZ (1) CZ299337B6 (pl)
DE (2) DE19726966C1 (pl)
PL (1) PL187951B1 (pl)
WO (1) WO1999000528A1 (pl)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6132881A (en) * 1997-09-16 2000-10-17 Guardian Industries Corp. High light transmission, low-E sputter coated layer systems and insulated glass units made therefrom
US7344782B2 (en) * 2000-07-10 2008-03-18 Guardian Industries Corp. Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US6887575B2 (en) * 2001-10-17 2005-05-03 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s)
US7879448B2 (en) * 2000-07-11 2011-02-01 Guardian Industires Corp. Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
AU2001288634A1 (en) * 2000-09-01 2002-03-13 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Genetic demonstration of requirement for nkx6.1, nkx2.2 and nkx6.2 in ventral neuron generation
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings
DE10147861A1 (de) * 2001-09-27 2003-04-24 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Abscheidung transparenter silberhaltiger Metallschichten hoher Leitfähigkeit im Vakuum und Verwendung des Verfahrens
CN100575068C (zh) * 2002-02-11 2009-12-30 Ppg工业俄亥俄公司 阳光控制涂层
US7005190B2 (en) * 2002-12-20 2006-02-28 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with reduced color shift at high viewing angles
US20040121165A1 (en) * 2002-12-20 2004-06-24 Laird Ronald E. Coated article with reduced color shift at high viewing angles
FR2859721B1 (fr) * 2003-09-17 2006-08-25 Saint Gobain Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces pour un blindage electromagnetique
DE50312424D1 (de) * 2003-12-02 2010-04-01 Scheuten Glasgroep Bv Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem
US7217460B2 (en) * 2004-03-11 2007-05-15 Guardian Industries Corp. Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer
US7081302B2 (en) * 2004-02-27 2006-07-25 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer
US7150916B2 (en) 2004-03-11 2006-12-19 Centre Luxembourg De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer for high bend applications
US7291251B2 (en) * 2004-10-19 2007-11-06 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Method of making coated article with IR reflecting layer(s) using krypton gas
US7390572B2 (en) * 2004-11-05 2008-06-24 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with IR reflecting layer(s) and method of making same
BE1016553A3 (fr) * 2005-03-17 2007-01-09 Glaverbel Vitrage a faible emissivite.
US7597962B2 (en) * 2005-06-07 2009-10-06 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with IR reflecting layer and method of making same
EP1834934B1 (de) 2006-03-17 2015-05-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Wärmedämmendes transparentes Schichtsystem
US7846492B2 (en) * 2006-04-27 2010-12-07 Guardian Industries Corp. Photocatalytic window and method of making same
US7892662B2 (en) * 2006-04-27 2011-02-22 Guardian Industries Corp. Window with anti-bacterial and/or anti-fungal feature and method of making same
DE502006008443D1 (de) * 2006-08-08 2011-01-13 Scheuten Glasgroep Bv Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem
US8409717B2 (en) 2008-04-21 2013-04-02 Guardian Industries Corp. Coated article with IR reflecting layer and method of making same
CZ300814B6 (cs) * 2008-06-02 2009-08-12 Preciosa, A. S. Dekoracní substrát, zejména bižuterní kámen, s barevným efektem a zpusob dosažení barevného efektu u dekoracního transparentního substrátu
US8281617B2 (en) * 2009-05-22 2012-10-09 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating having zinc stannate based layer between IR reflecting layers for reduced mottling and corresponding method
US10586689B2 (en) * 2009-07-31 2020-03-10 Guardian Europe S.A.R.L. Sputtering apparatus including cathode with rotatable targets, and related methods
EP2428994A1 (en) * 2010-09-10 2012-03-14 Applied Materials, Inc. Method and system for depositing a thin-film transistor
GB201102735D0 (en) 2011-02-17 2011-03-30 Pilkington Group Ltd Coated glazing
US8557391B2 (en) 2011-02-24 2013-10-15 Guardian Industries Corp. Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same
US8709604B2 (en) 2011-03-03 2014-04-29 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same
US8790783B2 (en) 2011-03-03 2014-07-29 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same
TWI556267B (zh) * 2013-10-17 2016-11-01 三星Sdi股份有限公司 透明導體和包含其的光學顯示器
JP6354049B2 (ja) * 2014-03-07 2018-07-11 北川工業株式会社 透明熱線反射フィルム
US10611679B2 (en) 2017-10-26 2020-04-07 Guardian Glass, LLC Coated article including noble metal and polymeric hydrogenated diamond like carbon composite material having antibacterial and photocatalytic properties, and/or methods of making the same
WO2023025547A1 (de) 2021-08-26 2023-03-02 Saint-Gobain Glass France Verfahren zur herstellung einer bereichsweise beschichteten scheibe
CN116034042A (zh) 2021-08-26 2023-04-28 法国圣戈班玻璃厂 生产局部涂覆的运载工具玻璃板的方法
WO2023099281A1 (de) 2021-12-02 2023-06-08 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe mit bereichsweise aufgebrachter reflexionsschicht
WO2024046888A1 (de) 2022-08-30 2024-03-07 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe mit bereichsweise aufgebrachter reflexionsschicht
WO2024046887A1 (de) 2022-08-30 2024-03-07 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe mit bereichsweise aufgebrachter reflexionsfläche
US20260061844A1 (en) 2022-08-30 2026-03-05 Saint-Gobain Sekurit France Laminated pane with masking layer and electrically switchable functional film
WO2024056340A1 (de) 2022-09-15 2024-03-21 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe mit bereichsweise aufgebrachter beheizbarer reflexionsschicht

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE252205C (pl)
US4166018A (en) * 1974-01-31 1979-08-28 Airco, Inc. Sputtering process and apparatus
NO157212C (no) 1982-09-21 1988-02-10 Pilkington Brothers Plc Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne.
DE3316548C2 (de) * 1983-03-25 1985-01-17 Flachglas AG, 8510 Fürth Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates
ES2000241T3 (es) * 1986-01-29 1995-04-01 Pilkington Plc Vidrio revestido.
DD252205B5 (de) * 1986-09-01 1993-12-09 Fraunhofer Ges Forschung Zerstaeubungseinrichtung
CA1285177C (en) * 1986-09-22 1991-06-25 Michael Glover Multiple pane sealed glazing unit
JPH0832436B2 (ja) * 1986-11-27 1996-03-29 旭硝子株式会社 透明導電性積層体
DE3716860A1 (de) 1987-03-13 1988-09-22 Flachglas Ag Verfahren zum herstellen einer vorgespannten und/oder gebogenen glasscheibe mit silberschicht, danach hergestellte glasscheibe sowie deren verwendung
US4842703A (en) * 1988-02-23 1989-06-27 Eaton Corporation Magnetron cathode and method for sputter coating
GB8900165D0 (en) 1989-01-05 1989-03-01 Glaverbel Glass coating
GB8900166D0 (en) 1989-01-05 1989-03-01 Glaverbel Glass coating
DE69122554T2 (de) * 1990-07-05 1997-02-13 Asahi Glass Co Ltd Beschichtung mit geringem Emissionsvermögen
JP2936763B2 (ja) * 1991-02-28 1999-08-23 日本板硝子株式会社 自動車用窓ガラス
DE4106770C2 (de) 1991-03-04 1996-10-17 Leybold Ag Verrichtung zum reaktiven Beschichten eines Substrats
FR2695117B1 (fr) * 1992-08-28 1994-12-02 Saint Gobain Vitrage Int Procédé de traitement de couches minces à propriétés de conduction électrique et/ou de réflexion dans l'infra-rouge.
DE4239355A1 (de) * 1992-11-24 1994-05-26 Leybold Ag Transparentes Substrat mit einem transparenten Schichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines solchen Schichtsystems
DE4323654C2 (de) * 1993-07-15 1995-04-20 Ver Glaswerke Gmbh Verfahren zur Herstellung einer wenigstens eine Schicht aus einem Metalloxid vom n-Halbleitertyp aufweisenden beschichteten Glasscheibe
DE4412318C2 (de) * 1994-04-11 1998-08-13 Ver Glaswerke Gmbh Wärmebehandlung einer mit einer teilreflektierenden Silberschicht versehenen Glasscheibe
DE19520843A1 (de) 1995-06-08 1996-12-12 Leybold Ag Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
DE19541937C1 (de) 1995-11-10 1996-11-28 Ver Glaswerke Gmbh Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission
DE19548430C1 (de) * 1995-12-22 1996-12-19 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung wärmereflektierender Schichtsysteme auf transparenten Substraten

Also Published As

Publication number Publication date
ATE276380T1 (de) 2004-10-15
PL337610A1 (en) 2000-08-28
CZ299337B6 (cs) 2008-06-25
EP1007756B1 (en) 2004-09-15
CA2294991A1 (en) 1999-01-07
EP1007756A1 (en) 2000-06-14
WO1999000528A1 (en) 1999-01-07
DE69826291T2 (de) 2005-02-17
CZ466599A3 (cs) 2000-07-12
CA2294991C (en) 2007-10-30
US6572940B1 (en) 2003-06-03
DE69826291D1 (de) 2004-10-21
DE19726966C1 (de) 1999-01-28
BR9810299A (pt) 2000-09-12
AU8800998A (en) 1999-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL187951B1 (pl) Sposób powlekania szkła i płyta szklana z przezroczystą powłoką cienkowarstwową
EP0339274B1 (en) Neutral sputtered films of metal alloy oxides
EP0336257B1 (en) Low emissivity film for automotive head load reduction
US5059295A (en) Method of making low emissivity window
US4902580A (en) Neutral reflecting coated articles with sputtered multilayer films of metal oxides
US4806220A (en) Method of making low emissivity film for high temperature processing
EP0335309B1 (en) Low emissivity film for high temperature processing
CA3047603C (en) Low-emissivity coating for a glass substrate
JP3949182B2 (ja) 多層被覆
US4948677A (en) High transmittance, low emissivity article and method of preparation
US4716086A (en) Protective overcoat for low emissivity coated article
JP6444891B2 (ja) アンチソーラーグレージング
JP3902676B2 (ja) 日光及び/又は赤外線に作用する薄い皮膜の積層を備えた透明な基材
EP3004015B1 (en) Low-emissivity glazing
EP3004014B1 (en) Low-emissivity and anti-solar glazing
JP2000129464A (ja) 薄膜積層体を備えた透明基板
Szczyrbowski et al. Bendable silver-based low emissivity coating on glass
EP3619176B1 (en) Low emissivity coatings, glass surfaces including the same, and methods for making the same
JPH0971441A (ja) 高耐久性低熱輻射多層膜構造
JP2574008B2 (ja) 高耐久性熱線遮へいガラスおよびその製造方法
HK1006834B (en) Neutral sputtered films of metal alloy oxides
HK40017712B (en) Low emissivity coatings, glass surfaces including the same, and methods for making the same
HK40017712A (en) Low emissivity coatings, glass surfaces including the same, and methods for making the same

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20130624