JPH0832436B2 - 透明導電性積層体 - Google Patents

透明導電性積層体

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JPH0832436B2 JP62296118A JP29611887A JPH0832436B2 JP H0832436 B2 JPH0832436 B2 JP H0832436B2 JP 62296118 A JP62296118 A JP 62296118A JP 29611887 A JP29611887 A JP 29611887A JP H0832436 B2 JPH0832436 B2 JP H0832436B2
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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、導電性を有する透明積層体に関するもので
ある。
［従来の技術］ 従来より、ガラス又はプラスチック上に酸化インジウ
ム又は、酸化スズの膜を形成し、透明導電性基板として
用いることは行なわれている。しかし、この種の透明導
電膜の比抵抗は室温で形成した場合にはせいぜい５×10
-4Ω・cmであり、10Ω／□以下の表面抵抗を得るために
は、5000Å以上の膜厚が必要であった。又、この種の透
明導電膜は屈折率が約2.0であるため、例えば屈折率1.5
のガラス基板上に形成した場合には最大で約25％もの反
射率を有するため、表面のギラつきが強く、外観上好ま
しくなかった。
この種の透明導電膜の比抵抗は、高温基板上に透明導
電膜を形成することで、１×10-4Ωcmまで下げられると
いう報告も公表されているが、基板を高温に加熱するこ
とは、生産上の観点からは、コストアップ要因であり好
ましくない。
一方、いわゆるヒートミラーとして金属膜を誘電体膜
でサンドイッチした３層構成の膜が知られており、例え
ば、特公昭47−6315号には銀層を誘電体層で挟んだ例が
開示されている。しかしながら、このような構成では、
可視光線透過率を十分上げ同時に可視光線反射率をガラ
ス程度に抑えるためには、銀層の厚みとして120Å程度
しか許されず、こときの表面抵抗は約８Ω／□程度であ
った。これは薄膜となった銀の比抵抗がバルクの値より
大きくなるためである。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、従来技術が有していた前述の欠点を
解消し、十分低い表面抵抗と、十分高い可視光線透過率
を有し、かつガラス板並みの可視光線反射率を有する透
明導電性積層体を実現することにある。
［問題点を解決するための手段］ 本発明は、前述の問題点を解決すべくなされたもので
あり、透明基板上にZnOからなる透明酸化物層と銀層を
交互に積層した合計（2n＋１）層（ｎ≧２）のコーティ
ングが施された積層体であって、基板側から数えて１番
目及び最外層のZnOからなる透明酸化物層の厚さが200〜
600Å、それ以外のZnOからなる透明酸化物層の厚さが40
0〜1200Å、各銀層の厚さが70〜250Åであり、表面抵抗
が６Ω／□以下、可視光線透過率が70％以上であること
を特徴とする透明導電性積層体を提供するものである。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
第１図は、本発明に係る透明導電性積層体の一部断面
図を示し、10は透明基板、11はZnOからなる透明酸化物
層からなる奇数層、12は銀層からなる偶数層を示す。
本発明における透明基板としては、所望の可視光透過
率、色調等に応じて、無色透明又は着色透明性のソーダ
ライムシリケートガラスからなる普通板ガラス、フロー
トガラス、ブルー色、ブロンズ色、グリーン色、その他
各種色調の熱線吸収ガラスあるいはアルミノシリケート
ガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、硼珪酸塩
ガラス、その他の各種ガラスから選ばれるガラス板、又
はプラスチック板等が使用できる。
又、本発明における透明酸化物層としてはZnOが用い
られる。ZnOは耐久性に優れ、又スパッタで作成する場
合の成膜スピードが速く、生産性の面からも最適であ
る。
本発明おける各層の膜厚範囲としては、基板側から数
えて１層目及び最外層のZnOからなる透明酸化物層とし
ては200〜600Å、それ以外のZnOからなる透明酸化物層
としては400〜1200Å、偶数番目の銀層としては70〜250
Åである。これらの膜厚範囲は十分な可視光線透過率を
実現させるために設定されたものであり、膜厚がこの範
囲を逸脱すると干渉条件からはずれ、反射防止効果が発
揮されず可視光線透過率が低下してしまう。
本発明の多層コーティングは透明基板表面に真空蒸着
法やスパッタリング法又はイオンプレーティング法等に
より容易に形成することができるがこれらの方法に限定
されるものではない。
又、本発明の多層コーティングは付着や耐久性を向上
させる等の目的により、その基板との界面又は各層の界
面、又は空気との界面において、その光学的特性を実質
的に変化させない程度の膜厚をもった境界層が挿入され
ていてもよい。
又、本発明の透明酸化物層はその全てが同じ材料であ
るZnOからなるため生産上の観点から有利である。
［作用］ 本発明の透明導電性積層体において、偶数番目の層の
銀層は、導電膜として作用する。銀層の比抵抗はドープ
された酸化インジウム膜や酸化スズ膜と比べて１桁以上
低いので、全体膜厚が2000Å程度で６Ω／□以下の表面
抵抗を実現することができるのである。又、この偶数番
目の層の銀層は、特に赤外域における反射率を上げる働
きをする。
又、本発明において、奇数番目の層のZnOからなる透
明酸化物層は銀層の可視域における反射防止層として作
用し、可視光線透過率を上げ、同時に可視光線反射率を
下げ全体として可視光線透過率が70％以上の透明導電膜
として機能させる働きをする。
［実施例］ 実施例１ ガラス基板を真空槽にセットし、１×10-6Torrまで排
気した。次に酸素ガスを導入し、圧力を1.7×10-3Torr
とし、亜鉛ターゲットを高周波マグネトロンスパッタし
て、室温基板上に約400ÅのZnO層を第１層として形成し
た。次に導入ガスをアルゴンとし、圧力を1.3×10-3Tor
rとして銀ターゲットを高周波マグネトロンスパッタし
て、約120ÅのAg層を第２層として形成した。次いで第
１層と同じ条件でZnOの第３層を約800Å形成した。次い
で第２層と同じ条件でAgの第４層を約120Å形成した。
次いで第１層と同じ条件でZnOの第５層を約400Å形成し
た。合計膜厚は約1840Åであった。
こうして得られた試料１の表面抵抗を四探針法で測定
したところ4.2Ω／□であった。
又、この試料１の可視光線透過率は77.5％であり、可
視光線反射率は7.6％であった。
実施例２ 実施例１により得られた試料１（寸法5cm×15cm×0.3
cm）について、電磁波シールド効果測定装置（タケダ理
研（株）TR4172型）を用いて電界強度の減衰率と周波数
との関係を測定した。
結果を下表に示す。なお、試料２はSnO2をコートした
表面抵抗15Ω／□のガラス板であり、比較例として挙げ
たものである。
上記表から明らかな様に、本発明に係る試料１は、電
磁遮蔽性能が高いことが認められる。
［発明の効果］ 以上により明らかなように、本発明を用いれば、十分
な可視光線透過率と十分低い表面抵抗値と、ガラス並の
可視光線反射率を有し、コーティング厚みが従来の半分
以下であるような透明導電性積層体を得ることができ
る。
本発明は、液晶等の表示素子の透明電極として用いる
と従来のITO膜による透明電極と比べ表面抵抗が低いた
め応答性の改善に役立つ上、表面反射率がガラス並であ
るため視認性が向上するという効果が認められる。
又、本発明を自動車用風防ガラスの一部として用い、
適当な電極を配して、これに通電すれば防曇や融氷の機
能をもった風防ガラスを構成することができるが、この
場合も表面反射率がガラス並であることからドライバー
の視認性を損なうことがなく、又、従来のITO膜又は誘
電体／金属／誘電体の３層膜に比べ低抵抗であることか
ら、通電に要する電圧が低くて済むという効果が得られ
る。
又、本発明は高い導電率の銀層を用いているため、赤
外域での反射率が非常に高いという特性を利用して、ヒ
ートミラーとして、建物の窓に用いることができる。こ
の場合も従来のITO膜又は誘電体層／金属層／誘電体層
の３層膜に比べて、赤外反射率が高く、可視光線反射率
が低いという特徴を有するより好ましいヒートミラーを
構成することができる。
又、本発明は、従来透明導電膜として用いられていた
ITO膜に比べ、低抵抗膜が小さな膜厚で、かつ低い基板
温度で得られるという特長があり、生産上のメリットも
大きい。
又、本発明の透明導電性積層体は、電磁遮蔽効果が高
いので、コンピューター機器類、ワードプロセッサーな
どから放射される電磁波が室内から室外へ漏れるのを防
止することができ、又、室外から室内へ妨害電波が入
り、コンピューター、産業ロボット等の誤動作、テレビ
受像機への障害を防ぐことができる。従って、本発明の
透明積層体は、電磁遮蔽窓ガラスとして有用である。
【図面の簡単な説明】
図１は本発明の断面を模式的に示したものであり、10は
透明基板、11はZnOからなる透明酸化物層、12は銀層を
示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】透明基板上にZnOからなる透明酸化物層と
    銀層を交互に積層した合計（2n＋１）層（ｎ≧２）のコ
    ーティングが施された積層体であって、基板側から数え
    て１番目及び最外層のZnOからなる透明酸化物層の厚さ
    が200〜600Å、それ以外のZnOからなる透明酸化物層の
    厚さが400〜1200Å、各銀層の厚さが70〜250Åであり、
    表面抵抗が６Ω／□以下、可視光線透過率が70％以上で
    あることを特徴とする透明導電性積層体。
  2. 【請求項２】透明基板上に基板側から順次ZnOからなる
    透明酸化物層の第１層、銀層の第２層、ZnOからなる透
    明酸化物層の第３層、銀層の第４層、ZnOからなる透明
    酸化物層の第５層からなる５層コーティングが設けられ
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の透
    明導電性積層体。
JP62296118A 1986-11-27 1987-11-26 透明導電性積層体 Expired - Lifetime JPH0832436B2 (ja)

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JPS63239044A JPS63239044A (ja) 1988-10-05
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