PL190793B1 - Kompozycja szkła - Google Patents
Kompozycja szkłaInfo
- Publication number
- PL190793B1 PL190793B1 PL324278A PL32427898A PL190793B1 PL 190793 B1 PL190793 B1 PL 190793B1 PL 324278 A PL324278 A PL 324278A PL 32427898 A PL32427898 A PL 32427898A PL 190793 B1 PL190793 B1 PL 190793B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- glass
- composition
- bao
- composition according
- cao
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 108
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 title 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 title 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 8
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 7
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 7
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 2
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGUQGPFMMTZGBQ-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Zr] Chemical compound [Al].[Al].[Zr] ZGUQGPFMMTZGBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- NWXHSRDXUJENGJ-UHFFFAOYSA-N calcium;magnesium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Mg+2].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O NWXHSRDXUJENGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052637 diopside Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- -1 enamels Chemical class 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/863—Vessels or containers characterised by the material thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/078—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing an oxide of a divalent metal, e.g. an oxide of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J5/00—Details relating to vessels or to leading-in conductors common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J5/02—Vessels; Containers; Shields associated therewith; Vacuum locks
- H01J5/04—Vessels or containers characterised by the material thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2217/00—Gas-filled discharge tubes
- H01J2217/38—Cold-cathode tubes
- H01J2217/49—Display panels, e.g. not making use of alternating current
- H01J2217/492—Details
- H01J2217/49264—Vessels
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
1. Kompozycja szkla, przeznaczona do wytwarzania termicznie stabilnych podlozy lub plyt, zasadniczo wolnych od krysztalów opartych na siarczanie baru, do ekranów typu emisyjnego ekranu plazmowego, ekranu elektroluminescencyjnego lub ekranu lamp elektronowych o zimnej katodzie, do wytwarzania ukladów do kon- wersji energii slonecznej typu ogniwa fotoelektrycznego, znamienna tym, ze zawiera nastepujace skladniki w nastepujacych ilosciach wagowych: SiO 2 55 - 70%, korzystnie 55 - 60% Al 2O 3 0 - 5%, korzystnie 1 - 4% ZrO 2 5 - 10%, korzystnie 6 - 9% B 2O 3 0 - 3%, korzystnie 0 - 1% Na 2O 3 2 - 6%, korzystnie 3 - 5% K 2O 5 - 11%, korzystnie 5 - 9% MgO 0 - 6%, korzystnie 1 - 6% CaO 2 - 11%, korzystnie 7 - 11% SrO 4 - 12%, korzystnie 6 - 10% BaO 0 - 2%, korzystnie 0 - 1% lub 1 - 2% ………................................................. 10. Kompozycja szkla przeznaczona do wytwarzania termicznie stabilnych podlozy lub plyt, znamienna tym, ze zawiera nastepujace skladniki w nastepujacych ilosciach wagowych: SiO 2 55 - 70%, korzystnie 55 - 60% ZrO 2 0 - 5%, korzystnie 1 - 4% Al 2O 5 - 10%, korzystnie 6 - 9% …………………………………………………………......… PL PL PL PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest kompozycja szkła, nadająca się do przekształcania we wstęgę szklaną, z której można wycinać płyty, i która jest odporna na ciepło. Płyty te można stosować do oszkleń ognioodpornych lub mogą one służyć jako ekrany plazmowe, ekrany elektroluminescencyjne i ekrany lamp elektronowych o zimnej katodzie (wyś wietlacze emisji elektronów).
Szkło wcześniej stosowane do wytwarzania podłoży tego rodzaju jest szkłem należącym do rodziny szkieł krzemionkowo-sodowo-wapniowych, zwykle stosowanych do oszkleń przeznaczonych dla budynków lub pojazdów samochodowych. Chociaż ten rodzaj szkła jest w zasadzie zadawalający, jeśli chodzi o jego trwałość chemiczną, gładkość i występujące defekty, to jego trwałość termiczna pozostawia niekiedy wiele do życzenia.
Podczas wytwarzania ekranów emisyjnych typu ekranów plazmowych, podłoże poddaje się licznym obróbkom cieplnym, które mają ustabilizować wymiary tego podłoża, i utrwaleniu szeregu warstw różnych związków, np. emalii, nałożonych na jego powierzchni. Aby utrwalić te warstwy, których grubość może być zmienna, podłoże trzeba ogrzewać do temperatury powyżej 550°C. Chociaż współczynnik rozszerzalności stosowanego szkła krzemionkowo-sodowo-wapniowego jest tego samego rzędu co stosowanych związków osadzanych na jego powierzchni, to jego stabilność cieplna jest niewystarczająca, i szkło podczas obróbki cieplnej trzeba umieszczać na płycie rektyfikacyjnej, aby zapobiec jakimkolwiek deformacjom.
Szkła stosowane do wykonywania oszkleń ognioodpornych należą zwykle do rodziny szkieł borokrzemianowych. Szkła te, o bardzo dobrej odporności na ciepło i szoki termiczne, charakteryzuje się zwykle niskim współczynnikiem rozszerzalności. Ta właściwość uniemożliwia rozwój w tego rodzaju szkle wysokich naprężeń przez hartowanie cieplne, co ogranicza zakres możliwości zwiększenia w ten sposób mechanicznej wytrzymałości szkła.
Dlatego, opracowano nową rodzinę kompozycji szkła, opisaną w opublikowanym międzynarodowym zgłoszeniu patentowym WO 96/11887, aby uniknąć tych niedogodności, a zwłaszcza aby umożliwić wytwarzanie płyt lub podłoży zasadniczo nie ulegających deformacji podczas obróbki cieplnej w temperaturze rzędu 550 do 600°C, i zdolnych, podczas hartowania cieplnego, do wykazywania poziomów naprężenia porównywalnych z uzyskiwanymi dla standardowego szkła krzemionkowo-sodowo-wapniowego.
Jednym z rodzajów szkła, szczególnie korzystnych do zastosowania do wytwarzania ekranów plazmowych, opisanych we wspomnianym poprzednio opisie patentowym, jest szkło, w którym stosuje się mało lub nie stosuje się wcale Al2O3, stosuje się dużo tlenku cyrkonu ZrO2, i o bardzo specyficznej zawartości tlenków metali ziem alkalicznych, włącznie z tlenkiem baru BaO.
Stwierdzono jednak, chociaż nie jest to dotychczas wyjaśnione, że w niektórych przypadkach w podłoż ach lub płytach poddawanych zwyczajowym cyklom obróbki powyż ej temperatury 500°C mogą powstawać wady optyczne, przejawiające się zwłaszcza lokalnym zabarwieniem, i wady te nie ustępują po przemyciu. To pogorszenie właściwości optycznych zmniejsza wydajność.
Celem wynalazku jest stwierdzenie powodów pojawiania się tych wad i zapewnienie ulepszonych kompozycji szkła zdolnych do zaradzenia tym sytuacjom przy zachowaniu wspomnianych wyżej właściwości.
Przedmiotem wynalazku jest kompozycja szkła, przeznaczona do wytwarzania termicznie stabilnych podłoży lub płyt, zasadniczo wolnych od kryształów opartych na siarczanie baru, do ekranów typu emisyjnego ekranu plazmowego, ekranu elektroluminescencyjnego lub ekranu lamp elektronowych o zimnej katodzie, do wytwarzania układów do konwersji energii słonecznej typu ogniwa fotoelektrycznego, charakteryzująca się tym, że zawiera następujące składniki w następujących ilościach
| wagowych: | |
| SiO2 | 55 - 70%, korzystnie 55 - 60% |
| Al2O3 | 0 - 5%, korzystnie 1 - 4% |
| ZrO2 | 5 - 10%, korzystnie 6 - 9% |
| B2O3 | 0 - 3%, korzystnie 0 - 1% |
| Na2O | 2 - 6%, korzystnie 3 - 5% |
| K2O | 5 - 11%, korzystnie 5 - 9% |
| MgO | 0 - 6%, korzystnie 1 - 6% |
| CaO | 2 - 11%, korzystnie 7 - 11% |
| SrO | 4 - 12%, korzystnie 6 - 10% |
PL 190 793 B1
BaO 0 - 2%, korzystnie 0 - 1% lub 1 - 2%
SO3 więcej niż 0% i co najwyżej 0,5%, korzystnie 0,005 - 0,15%, przy czym występują następujące zależności:
Na2O + K2O > 8%, zwłaszcza 10 - 15%
MgO + CaO + SrO + BaO > 10%, zwłaszcza > 15% i kompozycja ma temperaturę zanikania naprężeń powyżej 600°C.
Korzystnie kompozycja według wynalazku w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:
MgO + CaO + SrO + BaO > 10 - 25%, zwłaszcza 15 - 25%.
Korzystnie kompozycja według wynalazku w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:
K2O/Na2O > 1,5, zwłaszcza 2.
Korzystnie kompozycja według wynalazku w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:
Al2O3 + ZrO2 > 8%, zwłaszcza 9 - 15%.
Korzystnie kompozycja według wynalazku ma współczynnik rozszerzalności cieplnej α(25 - 300°C) wynoszący 80 - 90»10-7°C-1, zwłaszcza 82 - 86»10-7°C-1.
Korzystnie kompozycja według wynalazku ma temperaturę krzepnięcia Tliq co najwyżej 1180°C, zwłaszcza 1150 - 1170°C.
Korzystnie kompozycja według wynalazku ma lepkość υ w Pa«s odpowiadającą log υ = 2,5 w temperaturze wynoszącej co najmniej 1160°C, zwłaszcza 1160°C do 1200°C.
Korzystnie kompozycja według wynalazku ma oporność właściwą p wyrażoną w om«cm w temperaturze 250°C odpowiadającą log p o wartości co najmniej 9, zwłaszcza 9 - 11.
Korzystnie kompozycja według wynalazku ma gęstość w temperaturze 25°C mniejszą niż 3 kg/m3, zwłaszcza 2,7 kg/m3.
Przedmiotem wynalazku jest również kompozycja szkła przeznaczona do wytwarzania termicznie stabilnych podłoży lub płyt, charakteryzująca się tym, że zawiera następujące składniki w następujących ilościach wagowych:
SiO2 55 - 70%, korzystnie 55 - 60%
ZrO2 0 - 5%, korzystnie 1 - 4%
Al2O3 5 - 10%, korzystnie 6 - 9%
B2O3 0 - 3%, korzystnie 0 - 1%
Na2O 2 - 6%, korzystnie 3 - 5%
K2O 5 - 11%, korzystnie 5 - 9%
MgO 0 - 6%, korzystnie 1 - 6%
CaO 2 - 11%, korzystnie 7 - 11%
SrO 4 - 12%, korzystnie 6 - 10%
BaO 0 - 2%, korzystnie 0 - 1% lub 1 - 2%
SO3 więcej niż 0% i co najwyżej 0,5%, korzystnie 0,005 - 0,15%, przy czym występują następujące zależności:
Na2O + K2O > 8%, zwłaszcza 10 - 15%
MgO + CaO + SrO + BaO > 10%, zwłaszcza > 15% i kompozycja ma temperaturę zanikania naprężeń powyżej 570°C, korzystnie powyżej 580°C lub 600°C.
Podłoża lub płyty z kompozycji tego typu mogą podlegać obróbce cieplnej koniecznej do ich stosowania, np. jako ekrany plazmowe, bez degradacji optycznej. Najpierw twórcom udało się stwierdzić, co powoduje te defekty: podczas obróbek cieplnych podłoża spoczywają na urządzeniach nośnych, zwłaszcza na rolkach, blokach lub na ciągłych powierzchniach. Zaobserwowano, że pod wpływem ciepła istnieje możliwość rozwoju kryształów, zwłaszcza rozpoczynającego się w regionach, gdzie występuje punkt zetknięcia płyty/podłoża z urządzeniem nośnym. Kryształy te miejscowo nadają tym płytom/podłożom dużą tendencję do zabarwiania się na żółto i składają się głównie z siarczanu baru BaSO4; bar, pochodzący z BaO i siarczan migrujący ku powierzchni szkła krystalizują w pewnych warunkach w postaci BaSO4.
Pierwszą próbą rozwiązania tego problemu mogła być próba pominięcia siarki w składzie szkła. Siarka jest jednak zawsze obecna w postaci zanieczyszczeń wprowadzanych przez surowce i inne składniki szkła, w ilościach, które są zwykle rzędu setek do tysięcy ppm i/lub jako środek rafinujący
PL 190 793 B1 i/lub jako siarka znajdująca się w atmosferze, która zostaje włączona w skład szkła, zwłaszcza przy wylocie z narzędzia formującego. Stosowanie surowców wystarczająco czystych, aby dawać szkło wolne od siarki wymagałoby bardzo dużych kosztów. Co więcej, obecność siarki w szkle może ułatwiać rafinację podczas formowania.
Podejściem przyjętym w kontekście wynalazku było kontrolowanie poziomu BaO w szkle, a zwłaszcza utrzymywanie go na bardzo niskim poziomie, a nawet jego zawartość równa 0. Jeś li w szkle w ogóle nie stosuje się BaO, problem zostaje w duż ej mierze rozwią zany. Jak to jednak wyjaśniono niżej, tlenek baru jest tlenkiem metalu ziem alkalicznych, który może być korzystny ze względu na nadawanie szkłu specyficznych właściwości. Dlatego celowe może być utrzymywanie w szkle do 1 lub 2% BaO, nawet gdy wymagałoby to pewnej modyfikacji warunków obróbek cieplnych w celu tłumienia powstawania kryształów BaSO4, które nawet w śladowych ilościach okazują się mieć bardzo zły wpływ na właściwości optyczne szkła. Może to zwłaszcza wymagać dodatkowej operacji przemywania po jednej lub większej liczbie obróbek cieplnych.
Należy podkreślić, że tego tłumienia wad optycznych powodowanych tworzeniem się kryształów BaSO4 nie osiąga się kosztem innych pożądanych właściwości szkła.
Tak więc ogólnie przyjmuje się, że szkło nie wykazuje już właściwości lepkości poniżej charakterystycznej temperatury, określanej jako temperatura zanikania naprężeń, która odpowiada lepkości rzędu 1013,5Pa-s. Dlatego temperatura ta jest korzystnym punktem odniesienia dla oceny trwałości termicznej szkła. Dzięki kombinacji składników, jak to wynika z definicji wynalazku, szkła zgodne z tą definicją mają temperaturę zanikania naprężeń powyżej 600°C, a więc o co najmniej 90°C wyższą od tej temperatury dla konwencjonalnego szkła krzemionkowo-sodowo-wapniowego. Kompozycje według wynalazku osiągają wartości temperatury zanikania naprężeń w pełni porównywalne z uzyskiwanymi przez inne kompozycje, przeznaczone do wytwarzania ekranów plazmowych, i w których stosuje się znaczne ilości BaO, opisane we wspomnianej publikacji WO 96/11887.
Ta kombinacja składników umożliwia także uzyskiwanie szkła o współczynniku rozszerzalności ciągle tego samego rzędu wielkości, co współczynnik rozszerzalności tradycyjnego szkła krzemionkowo-sodowo-wapniowego, to znaczy współczynników mierzonych w znany sposób przez różnicę rozszerzalności w temperaturze od 25 do 300°C, wynoszących zwykle od 80 do 90-10-7°C-1, zwłaszcza 82 do 86-10 '°C'\
Szkła według wynalazku mają tę zaletę, że nadają się dobrze do stosowania w technice topienia związanej z procesem, w którym szkło pływa na kąpieli stopionego metalu. Rzeczywiście stwierdzono, że szkła te powodują bardzo małą korozję materiałów ogniotrwałych typu AZS (tlenek glinutlenek cyrkonu-tlenek krzemu), zwykle stosowanych w tego typu piecach. Tak więc szkła te optymalizują czas pracy pieca.
Szkła według wynalazku mają także tę zaletę, że można je topić i przekształcać we wstęgę szkła w temperaturze bliskiej temperaturze stosowanej do wytwarzania konwencjonalnego szkła krzemionkowo-sodowo-wapniowego.
I tak, mają one zwykle temperaturę krzepnięcia Tliq co najwyżej 1180°C, zwłaszcza 1150°C do 1170°C, i osiągają lepkość υ w Pa-s odpowiadającą log υ = 2,5 (w puazach odpowiadającą log υ = 3,5) w temperaturze Tlog3,5 wynoszącej co najmniej 1160°C, zwłaszcza od 1160°C do 1200°C; te wartości temperatury krzepnięcia wskazują, że surowce szkłotwórcze topią się w temperaturze „akceptowanej” przemysłowo. Ta temperatura Tlog3,5 wskazuje fachowcowi temperaturę, powyżej której lepkość jest zbyt mała, aby prowadzić formowanie szkła.
We wspomnianych zakresach wartości temperatury Tliq i Tlog3,5 kompozycje według wynalazku korzystnie mają „przedział roboczy” zdefiniowany jako różnica Tlog3,5 - Tliq (odpowiadający temperaturze obszaru, w którym można prowadzić to-pienie i formowanie szkła) który ma wartość dodatnią, i zwłaszcza wynosi 10°C do 30°C. Przedziały te, które mogą wydawać się „wąskie” dla standardowego szkła krzemionkowo-sodowo-wapniowego przeznaczonego do wytwarzania oszkleń, są tu wystarczające dla zapewnienia wysokiej jakości formowania bez stosowania nadmiernie ekstremalnych warunków pracy pieca. Szkła według wynalazku są w rzeczywistości dość specjalnymi szkłami do zastosowań w cennych wysoce przetworzonych wyrobach, takich jak ekrany plazmowe, przy wytwarzaniu których bardzo precyzyjna kontrola i regulacja pracy pieca może być uznana za „dopuszczalną”: pracuje się w „dostępnych” przedziałach roboczych bez przerwania pracy lub ryzyka dla pracy pieca.
Kompozycje zmodyfikowane według wynalazku umożliwiają utrzymywanie dużej izolacyjności szkła w kategoriach elektrycznych. I tak, szkła według wynalazku mają zwykle oporność właściwą p (om-cm) odpowiadającą w temperaturze 250°C log p o wartości co najmniej 9, zwłaszcza od 9 do 11:
PL 190 793 B1 chociaż wynalazek zmniejsza zawartość w szkle BaO lub nawet go eliminuje, co byłoby jednak korzystne ze względu na właściwości elektryczne, gdyż jest on wysoce izolacyjny, to stwierdzono, że ten brak lub zmniejszenie zawartości BaO jest kompensowany zwiększoną zawartością innych składników, zwłaszcza tlenków z rodziny metali ziem alkalicznych, mających podobne do BaO właściwości elektryczne.
Szkło według wynalazku ma zwykle gęstość w temperaturze 25°C mniejszą niż 3 kg/m3, zwłaszcza około 2,7 kg/m3. Aby wyrobić sobie na to pogląd warto wspomnieć, że szkło o podobnym składzie lecz zawierające co najmniej 6 do 7% BaO ma gęstość co najmniej 3 kg/m3. Nie jest to właściwość dowolna: gdy zamierza się stosować to szkło jako ekrany plazmowe zwłaszcza w odbiornikach telewizyjnych, ciężar szkła stanowi istotny problem, i wszystko co może mieć udział w jego zmniejszeniu jest bardzo korzystne, zakładając, że odbiorniki telewizyjne z tymi ekranami są przeznaczone do montowania na ścianach.
Dalej omówiono i uzasadniono korzystną zawartość każdego ze składników w szkle według wynalazku. W szczególności, brak lub zmniejszenie zawartości BaO musi być skompensowane obecnością, lub zwiększoną obecnością, innych tlenków, których łączne działanie pozwala im „zastępować” BaO jeśli chodzi o jego zasadnicze właściwości.
Przy doborze składników szkła według wynalazku utrzymuje się w przybliżeniu tę samą sumę zawartości tlenków metali ziem alkalicznych jak w kompozycjach szkłotwórczych, w których stosuje się więcej niż 2% BaO, np. stosując znaczną zawartość SrO, który pod względem chemicznym jest najbliższym BaO tlenkiem metalu ziem alkalicznych, i który dlatego ma bardzo podobny wpływ na właściwości szkła, zwłaszcza jeśli chodzi o temperaturę zanikania naprężeń, współczynnik rozszerzalności i topliwość. Mimo to, należy wprowadzić maksymalny próg wprowadzanego SrO, 10%, ze względu na koszty i ryzyko odszklenia.
Korzystnie jest także nie poszukiwać „kompensacji” zawartości BaO w nadmiernie dużej zawartości CaO lub MgO. Powodem tego jest to, że gdy zwiększa się zawartość tlenków metali ziem alkalicznych w szkle jako środków upłynniających w celu podwyższenia temperatury zanikania naprężeń, wówczas z jednej strony nadmierna zawartość CaO i MgO może wywoływać tendencję do przedwczesnego zużywania się materiałów ogniotrwałych pieca, a z drugiej strony może prowadzić do ich wspólnej krystalizacji w postaci diopsydu i powodować niebezpieczeństwo odszklenia szkła.
Korzystne okazało się także zmniejszenie zawartości tlenków metali ziem alkalicznych w celu zminimalizowania ryzyka pękania szkła, wywołanego obróbkami cieplnymi, a także nie uczynienia szkła kruchym z punktu widzenia jego właściwości mechanicznych. Unikanie „stłuczek pod wpływem ciepła” jest ważnym zadaniem w przypadku szkła przeznaczonego do oszkleń ognioodpornych.
Korzystnie, suma zawartości w % wagowych MgO + CaO + SrO +BaO wynosi co najmniej 10%, korzystnie 10 do 25% lub 15 do 25%, lub nawet 18 do 24%.
Zgodnie z wynalazkiem, istnieje dlatego tendencja tylko „częściowej” kompensacji zawartości BaO przez inne tlenki metali ziem alkalicznych, i przewiduje się korzystnie łączny wzrost zawartości innych składników, również działających w szkle jak topnik, zwłaszcza tlenków metali alkalicznych, przy czym K2O jest korzystniejszy niż Na2O. Jest to spowodowane tym, że chociaż te dwa rodzaje tlenków metali alkalicznych, Na2O i K2O są konieczne, to mimo wszystko, jeśli nie jest pożądane zwiększenie całkowitej ich zawartości, korzystne jest zwiększenie zawartości K2O, który ma tę zaletę, że ułatwia topienie bez obniżania temperatury zanikania naprężeń, i dla tego nie jest zbyt szkodliwy z punktu widzenia właś ciwoś ci twardoś ci szkła po formowaniu. Dlatego korzystnie zapewnia się stosunek wagowej procentowej zawartości K2O/Na2O wynoszący co najmniej 1,5, a zwłaszcza około 2.
W zakresie wynalazku istnieje takż e tendencja do stosowania w tego typu szkle stosunkowo dużej zawartości SiO2. Dzieje się tak dlatego, że SiO2 spełnia istotną rolę w szkle: zawartość co najmniej 55% wagowych ma swój udział w uzyskiwaniu wysokiej temperatury zanikania naprężeń. Mimo to, należy zapewnić rozsądną maksymalną zawartość SiO2, zwykle 60%, gdyż powyżej tej zawartości topienie mieszaniny szkłotwórczej zaczyna wymagać wysokiej temperatury, co jest drogie ze względu na zużycie energii i przyspiesza zużywanie się materiałów ogniotrwałych pieca: dlatego regulowanie zawartości krzemionki ma swój udział w utrzymywaniu wystarczającej topliwości przy utrzymaniu twardości szkła według wynalazku na poziomie porównywalnym ze szkłem zawierającym BaO.
Tlenek glinu Al2O3 jest składnikiem ewentualnym. Jeśli się go stosuje, to korzystnie jego zawartość utrzymuje się na niskim poziomie, powyżej którego szkło staje się wysoce korozyjne w stosunku do materiałów ogniotrwałych pieca, a lepkość szkła zaczyna zbyt znacząco wzrastać w wysokiej tem6
PL 190 793 B1 peraturze. Jego obecność w niewielkiej ilości może być korzystna, zwłaszcza ze względu na zwiększenie chemicznej trwałości szkła.
Tlenek cyrkonu ZrO2 spełnia rolę stabilizującą. Tlenek ten w pewnym stopniu zwiększa chemiczną odporność szkła i przyspiesza wzrost temperatury zanikania naprężeń. Przy zbyt dużej procentowej zawartości ZrO2 istnieje tendencja do czynienia topienia trudnym. Chociaż tlenek ten jest trudnotopliwy, ma on tę zaletę, że w porównaniu z innymi tlenkami, takimi jak krzemionka lub tlenek glinu, tylko umiarkowanie zwiększa lepkość szkła według wynalazku w wysokiej temperaturze. Pozwala to unikać wprowadzania do takiego szkła tlenków takich jak B2O3, czego jednym z efektów jest zmniejszenie lepkości szkła bądź unikanie nadmiernego wzrostu zawartości tlenków metali alkalicznych, które mają ten sam wpływ.
Rzeczywiście, tlenek glinu i tlenek cyrkonu pełnią zasadniczo podobną rolę, i dlatego można zapewnić sumę zawartości Al2O3 + ZrO2 większą niż 8%, zwłaszcza od 9% do 15%, przy zmiennych ich wzajemnych proporcjach.
Zgodnie z pierwszym wariantem wynalazku, przy stałej sumie Al2O3 + ZrO2, można dobrać niską zawartość tlenku glinu, od 0 do 5%, i wyższą zawartość tlenku cyrkonu, od 5 do 10%.
Zgodnie z drugim wariantem wynalazku, przy ciągle stałej sumie Al2O3 + ZrO2, można wybrać inne podejście, z małą zawartością tlenku cyrkonu i wyższą zawartością tlenku glinu, od 5% do 10%. W tym drugim wariancie, na konto problemów zwią zanych z korozją , co jest zwią zane ze wspomnianą poprzednio zawartością tlenku glinu, korzystnie jest dobrać materiały ogniotrwałe pieca, zwłaszcza dobierając materiały ogniotrwałe bardziej odporne na korozję niż zwykle stosowane materiały ogniotrwałe typu „AZS” (tlenek glinu-tlenek cyrkonu-krzemionka).
Jak wspomniano poprzednio, tlenki Na2O i K2O umożliwiają utrzymywanie temperatury topienia szkła według wynalazku i jego lepkości w wysokiej temperaturze we wspomnianych wyżej granicach. Dotychczas suma zawartości tych tlenków była większa niż około 10%, a zwłaszcza 10% do 15%.
Tlenki metali ziem alkalicznych, wprowadzane do szkła według wynalazku, wykazują ogólne działanie podwyższające temperaturę zanikania naprężeń, i jest to powód, dla którego suma zawartości wagowych MgO + CaO + SrO +BaO musi być większa niż 10%, a zwłaszcza większa niż lub równa 18%. Sumę tę korzystnie utrzymuje się w granicach 15 - 25% lub 18 - 24%.
Powyżej zawartości około 24 do 25% może nastąpić zwiększenie zdolności szkła do odszklania w stopniu, który nie da się pogodzi ć z procesem formowania szkła na powierzchni ką pieli metalu.
Tlenek boru B2O3 jest składnikiem ewentualnym. Można zapewnić niewielką jego ilość w celu nastawienia lepkości szkła w wysokiej temperaturze.
Niżej podano korzystne zawartości w % wagowych, składników szkła według wynalazku: zawartość SiO2 korzystnie wynosi 57% do 59%, zawartość B2O3 korzystnie wynosi 0 do 1%, zawartość Na2O korzystnie wynosi 3% do 5%, zawartość K2O korzystnie wynosi 6% do 8%, lub 7% do 9%, zawartość MgO korzystnie wynosi 0% do 5%, lub 1% do 5%, zawartość CaO korzystnie wynosi 8% do 10%, lub 2% do 6%, zawartość SrO korzystnie wynosi 6% do 10%, lub 8% do 12%, zawartość BaO korzystnie wynosi 0% do 1%, lub 1% do 2% zawartość SO3 wynosi zwykle 0,005% do 0,15%.
Szkło według pierwszego wariantu wynalazku, o niskiej zawartości tlenku glinu i dużej zawartości tlenku cyrkonu, ma:
zawartość Al2O3 wynoszącą 1% do 4%, zawartość ZrO2 wynoszącą 6% do 9%.
Szkło według drugiego wariantu wynalazku korzystnie ma: zawartość Al2O3 wynoszącą 6% do 9%, zawartość ZrO2 wynoszącą 1% do 4%.
Można wskazać, że szkło według wynalazku może być całkowicie wolne od BaO lub zawierać BaO tylko jako zanieczyszczenie, włączone w skład szkła w sposób niezamierzony, w ilości bliskiej 0%. W takim przypadku nie ma już ryzyka tworzenia się BaSO4, i dlatego nie ma już też ryzyka występowania defektów optycznych, powodowanych obecnością kryształów tego rodzaju.
Szkło według wynalazku może jednak zawierać 1% do 2% tej substancji: ta zawartość pozostaje „do przyjęcia” jeśli chodzi o uniknięcie lub prawie uniknięcie tworzenia się BaSO4 podczas obróbek
PL 190 793 B1 cieplnych, ale ewentualnie kosztem podjęcia dodatkowych środków ostrożności jeśli chodzi o warunki, w których prowadzi się te obróbki cieplne, np. jedną lub wię ksz ą liczbę operacji przemywania.
Dlatego kompozycja szkła według wynalazku może być stosowana do wytwarzania podłoży zasadniczo wolnych od kryształów opartych na siarczanie baru, i są zwłaszcza przeznaczone na ekrany emisyjne typu ekranów plazmowych, ekrany elektroluminescencyjne lub ekrany lamp elektronowych o zimnej katodzie. Podłoż a te moż na otrzymywać przez cię cie arkuszy szkła z cią głej wstę gi szkła wytwarzanej przez formowanie szkła na kąpiel stopionego metalu.
Można je także stosować do wytwarzania oszkleń ognioodpornych, zwłaszcza także otrzymywanych przez cięcie pływającej wstęgi szkła, lub w układach przekształcania energii słonecznej typu ogniw fotoelektrycznych.
Wynalazek opisano bardziej szczegółowo niżej z powołaniem się na następujące przykłady, nie ograniczające zakresu wynalazku.
Pierwszą serię szkieł według przykładów I do IV wytworzono w postaci płyt uzyskanych przez cięcie po uformowaniu materiałów szkłotwórczych na łaźni cyny, zgodnie z dobrze znanym procesem formowania szkła na kąpieli stopionego metalu.
Drugą serię szkieł według przykładów V do VII modelowano matematycznie.
Trzecia seria według przykładów VIII i IX ilustruje kompozycje o małej zawartości MgO i CaO.
Dla każdego z tych przykładów w następującej tabeli podano składy chemiczne z zawartościami wyrażonymi w % wagowych, wartość temperatury zanikania naprężeń Tsp szkła, współczynnik rozszerzalności cieplnej α(25 - 300°C) szkła w °C-1, logarytm log p ich oporności właściwej w om«cm, ich temperaturę krzepnięcia Tlq, ich temperatury przy lepkości w Pa«s odpowiadającej, odpowiednio, log 0,6 i log 2,5 (w puazach odpowiadającej, odpowiednio, log 1,6 i log 3,5) Tlog1,6 i TIog3,5, ich gęstość d mierzoną w temperaturze 25°C. Wszystkie wartości temperatury wyrażono w °C.
Należy zauważyć, że w składzie chemicznym wskazano tylko składniki obecne w znaczącej i dającej się zmierzyć ilości: zrozumiałe jest, że szkła te mogą zawierać zanieczyszczenia inne niż SO3, w mniejszych ilościach, zazwyczaj mniejszych niż 0,2 do 0,1%. Zawartość SO3 mierzono tylko w przykładach I, III i IV.
PL 190 793 B1
| Przykład IX | 60,5 | tn | 00 | tn | cn | o | LD | 8,5 | o | 1 | 602 | CM 00 | 1 | 1140 | 1725 | 1250 | 2,714 |
| Przykład' VIII | lO K OO tn | CO | co | sr | co | CM | tn | 12 | O | 1 | 601 | r— 1 O <—1 • CM i—1 oo | cn cn | 1120 | 1615 | 1217 | 2,78 |
| Przykład VII | 55 | 3,5 | co | tn | tn p·* | LD | tn P~ | CO | 0,5 | 1 | 610,8 | r- 1 O I—1 • co CM CO | 10,13 | 1 | 1525 | 1164 | 1 |
| Przykład VI | 55,5 | 3,5 | co | m | tn p- | 8,5 | LC) P- | τ—1 | 1 | 611,5 | r- ł O ł—1 • CM CO 00 | 10,16 | 1 | 1535 | 1169 | 1 | |
| Przykład V | 57,5 | m K. | tn P~ | LO i-1 | cn | 10 | o | 1 | 615,2 | r- O i—1 • LO CO co | 10,3 | 1 | 1589 | 1196 | 1 | ||
| Przykład IV | m LT) | cc | cn | lO | co | CN | 8,5 | P- | o | ł—1 o | 609 | r- o <—1 • LO 00 | 9,83 | 1150 | 1556 | 1181 | 2,763 |
| Przykład III | 57,2 | co | cn | 00 | co | Lf) K v—1 | 8,5 | so | CM | 0,04 | 609 | r~ O rH • co | 9, 97 | 1160 | 1566 | 1190 | 2,785 |
| Przykład II | 57,5 | co | p- | 3,5 | co | co | Cn | cn | o | 1 | 603 | r- 1 O rH • to CM co | 10,5 | 1170 | 1153 | 1183 | 2,775 |
| Przykład I | 58 | co | co | tn ’χΤ | lO P* | «1» τ—l | 8,5 | cn | o | 0,07-0,1 | 609 | O t—1 • to co co | 10,1 | 1160 | 1562 | 1187 | 2,778 |
| OJ O -H ω | co O Cs] i—l < | CN O H N | O CM oj 52 | o OJ | MgO | CaO | SrO | BaO | m O CO | Tsp | a | Cl o o °° CM i—1 — | σ -H i—l | CD τ—1 tn o »—1 | tn CO cn o r—ł H | *3 |
PL 190 793 B1
Dane te potwierdzają, że szkło według wynalazku, o zawartości BaO wynoszącej 0% do 2%, ciągle ma dużą twardość w wysokiej temperaturze (temperatura zaniku naprężeń ponad 600°C), dużą oporność właściwą, małą rozszerzalność cieplną i niższą gęstość niż szkło o dużej zawartości tlenku baru.
Co więcej, wytwarzanie szkła według wynalazku, czy to podczas topienia w piecu czy też podczas formowania na kąpieli cynowej, nie stwarza trudności nie do pokonania. Jest to potwierdzone zwłaszcza przez fakt, że różnica temperatury Tlog3,5 i temperatury krzepnięcia Tliq pozostaje wysoce dodatnia.
Ponadto, niektóre próbki szkła w pierwszej serii poddano procesom odprężania tego rodzaju, jaki stosuje się w przypadku szkieł przeznaczonych do stosowania jako ekrany plazmowe, i których celem jest stabilizowanie szkła: żadne z tych szkieł nie wykazywało defektów optycznych, związanych z obecno ś cią kryształów typu BaSO4 w punktach styku szkło/urzą dzenie noś ne.
Należy także zauważyć, że w skład kompozycji szkła można wprowadzać tlenek litu Li2O, zwłaszcza jako topnik, korzystnie w ilości, w % wagowych, od 0 do 3%, zwłaszcza od 0 do 1%.
W konkluzji, wynalazek zapewnia szkło co najmniej tak dobre jak szkło dotychczas opisane do zastosowań w ekranach typu emisyjnego, które jednak jeszcze bardziej eliminuje przypadkowe występowanie defektów optycznych typu lokalnych zabarwień. Rzeczywiście, wynalazek umożliwił znalezienie powodów tych niefortunnych zabarwień, występujących podczas obróbek cieplnych, chociaż dalekie od oczywistości było to, że uwikłane są w to kryształy BaSO4, gdyż zawartość siarki w szkle jest zwykle bardzo niewielka. Zmniejszenie zawartości baru lub jego wyeliminowanie pozwala osiągnąć także inne korzyści, jeśli chodzi o koszty, gdyż surowce zawierające bar są znacznie droższe w porównaniu z innymi surowcami, a takż e jeś li chodzi o uczynienie szkła lż ejszym.
Claims (18)
- Zastrzeżenia patentowe1. Kompozycja szkła, przeznaczona do wytwarzania termicznie stabilnych podłoży lub płyt, zasadniczo wolnych od kryształów opartych na siarczanie baru, do ekranów typu emisyjnego ekranu plazmowego, ekranu elektroluminescencyjnego lub ekranu lamp elektronowych o zimnej katodzie, do wytwarzania układów do konwersji energii słonecznej typu ogniwa fotoelektrycznego, znamienna tym, że zawiera następujące składniki w następujących ilościach wagowych:SiO2 55 - 70%, korzystnie 55 - 60%Al2O3 0 - 5%, korzystnie 1 - 4%ZrO2 5 - 10%, korzystnie 6 - 9%B2O3 0 - 3%, korzystnie 0 - 1%Na2O 2 - 6%, korzystnie 3 - 5%K2O 5 - 11%, korzystnie 5 - 9%MgO 0 - 6%, korzystnie 1 - 6%CaO 2 - 11%, korzystnie 7 - 11%SrO 4 - 12%, korzystnie 6 - 10%BaO 0 - 2%, korzystnie 0 - 1% lub 1 - 2%SO3 więcej niż 0% i co najwyżej 0,5%, korzystnie 0,005 - 0,15%, przy czym występują następujące zależności:Na2O + K2O > 8%, zwłaszcza 10 - 15%MgO + CaO + SrO + BaO > 10%, zwłaszcza > 15% i kompozycja ma temperaturę zanikania naprężeń powyżej 600°C.
- 2. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:MgO + CaO + SrO + BaO > 10 - 25%, zwłaszcza 15 - 25%.
- 3. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:K2O/Na2O > 1,5, zwłaszcza 2.
- 4. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:Al2O3 + ZrO2 > 8%, zwłaszcza 9 - 15%.PL 190 793 B1
- 5. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że ma współczynnik rozszerzalności cieplnej α(25 - 300°C), wynoszący 80 - 90«10-7°C-1, zwłaszcza 82 - 86«10-7°C-1.
- 6. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że ma temperaturę krzepnięcia Tliq co najwyżej 1180°C, zwłaszcza 1150 - 1170°C.
- 7. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że ma lepkość υ w Pa«s odpowiadającą log υ = 2,5 w temperaturze wynoszącej co najmniej 1160°C, zwłaszcza 1160°C do 1200°C.
- 8. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że ma oporność właściwą p wyrażoną w om«cm w temperaturze 250°C odpowiadającą log p o wartości co najmniej 9, zwłaszcza 9 - 11.
- 9. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że ma gęstość w temperaturze 25°C mniejszą niż 3 kg/m3, zwłaszcza 2,7 kg/m3.
- 10. Kompozycja szkła przeznaczona do wytwarzania termicznie stabilnych podłoży lub płyt, znamienna tym, że zawiera następujące składniki w następujących ilościach wagowych:SiO2 55 -70 %, korzystnie 55 - 60%ZrO2 0 - 5%, korzystnie 1 - 4%Al2O3 5 - 10%, korzystnie 6 - 9%B2O3 0 - 3%, korzystnie 0 - 1%Na2O 2 - 6%, korzystnie 3 - 5%K2O 5 - 11%, korzystnie 5 - 9%MgO 0 - 6%, korzystnie 1 - 6%CaO 2 - 11%, korzystnie 7 - 11%SrO 4 - 12%, korzystnie 6 - 10%BaO 0 - 2%, korzystnie 0 - 1% lub 1 - 2%SO3 więcej niż 0% i co najwyżej 0,5%, korzystnie 0,005 - 0,15%, przy czym występują następujące zależności:Na2O + K2O > 8%, zwłaszcza 10 - 15%MgO + CaO + SrO + BaO > 10%, zwłaszcza > 15% i kompozycja ma temperaturę zanikania naprężeń powyżej 570°C, korzystnie powyżej 580°C lub 600°C.
- 11. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:MgO + CaO + SrO + BaO > 10 - 25%, zwłaszcza 15 - 25%.
- 12. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:K2O/Na2O > 1,5, zwłaszcza 2.
- 13. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że w proporcjach wagowych spełnia następującą zależność:Al2O3 + ZrO2 > 8%, zwłaszcza 9 - 15%.
- 14. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że ma współczynnik rozszerzalności cieplnej α(25 - 300°C) wynoszący 80 - 90·10- °C-1, zwłaszcza 82 - 86«10-7°C-1.
- 15. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że ma temperaturę krzepnięcia Tliq co najwyżej 1180°C, zwłaszcza 1150 - 1170°C.
- 16. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że ma lepkość υ w Pa«s odpowiadającą log υ = 2,5 w temperaturze wynoszącej co najmniej 1160°C, zwłaszcza 1160°C do 1200°C.
- 17. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że ma oporność właściwą p wyrażoną w om«cm w temperaturze 250°C odpowiadającą log p o wartości co najmniej 9, zwłaszcza 9 - 11.
- 18. Kompozycja według zastrz. 10, znamienna tym, że ma gęstość w temperaturze 25°C mniejszą niż 3 kg/m3, zwłaszcza 2,7 kg/m3.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9700498A FR2758550B1 (fr) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL324278A1 PL324278A1 (en) | 1998-07-20 |
| PL190793B1 true PL190793B1 (pl) | 2006-01-31 |
Family
ID=9502727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL324278A PL190793B1 (pl) | 1997-01-17 | 1998-01-14 | Kompozycja szkła |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6063718A (pl) |
| EP (1) | EP0854117B1 (pl) |
| JP (2) | JP4083852B2 (pl) |
| KR (1) | KR100575477B1 (pl) |
| CN (1) | CN1113824C (pl) |
| BR (1) | BR9800344A (pl) |
| FR (1) | FR2758550B1 (pl) |
| ID (1) | ID19586A (pl) |
| MY (1) | MY115575A (pl) |
| PL (1) | PL190793B1 (pl) |
| TW (1) | TW416936B (pl) |
Families Citing this family (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69806714T2 (de) * | 1997-03-13 | 2003-04-03 | Saint-Gobain Glass France, Courbevoie | Kalknatron-silikatglaszusammensetzungen und deren anwendungen |
| FR2775280B1 (fr) | 1998-02-23 | 2000-04-14 | Saint Gobain Vitrage | Procede de gravure d'une couche conductrice |
| FR2775476B1 (fr) * | 1998-03-02 | 2000-04-14 | Saint Gobain Vitrage | Feuille de verre destinee a etre trempee thermiquement |
| FR2775914B1 (fr) | 1998-03-13 | 2000-04-21 | Saint Gobain Vitrage | Procede de depot de couches a base d'oxyde(s) metallique(s) |
| TW565539B (en) * | 1998-08-11 | 2003-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | Glass for a substrate |
| US6753280B2 (en) * | 2001-06-21 | 2004-06-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Ultraviolet/infrared absorbent green glass |
| JP2003112942A (ja) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 電界放射型ディスプレイ用ガラス基板 |
| US6753279B2 (en) | 2001-10-30 | 2004-06-22 | Corning Incorporated | Glass composition for display panels |
| FR2854627B1 (fr) * | 2003-05-07 | 2006-05-26 | Saint Gobain | Composition de verre silico-sodo-calcique, notamment pour la realisation de substrats |
| JP5029014B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2012-09-19 | 日本電気硝子株式会社 | 半導体封止用ガラス及び半導体封止用外套管並びに半導体電子部品 |
| KR100750990B1 (ko) * | 2005-06-22 | 2007-08-22 | 주식회사 케이씨씨 | 기판용 고 변형점 유리 조성물 |
| US7593154B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-09-22 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices having improved ion conducting layers |
| JP5013304B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-08-29 | 日本電気硝子株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板 |
| FR2911335B1 (fr) * | 2007-01-12 | 2009-09-04 | Saint Gobain | Composition de verre silico-sodo-calcique pour ecran de visualisation |
| EP2065347A1 (en) * | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Corning Incorporated | Durable frit composition and composites and devices comprised thereof |
| KR100824591B1 (ko) * | 2007-05-02 | 2008-04-23 | 삼성유리공업 주식회사 | 수평강화로를 이용한 장식용 판유리 제조방법 |
| KR101231520B1 (ko) * | 2007-10-25 | 2013-02-07 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 기판용 유리 조성물 및 그 제조 방법 |
| JP5392096B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2014-01-22 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラス組成物 |
| US9782949B2 (en) * | 2008-05-30 | 2017-10-10 | Corning Incorporated | Glass laminated articles and layered articles |
| US8445394B2 (en) | 2008-10-06 | 2013-05-21 | Corning Incorporated | Intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US8975199B2 (en) | 2011-08-12 | 2015-03-10 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US9637408B2 (en) * | 2009-05-29 | 2017-05-02 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium containing glass |
| US9371247B2 (en) * | 2009-05-29 | 2016-06-21 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium free glass |
| US8419965B1 (en) | 2009-06-16 | 2013-04-16 | Rockwell Collins, Inc. | System and method for texturing glass |
| FR2948356B1 (fr) | 2009-07-22 | 2011-08-19 | Saint Gobain | Dispositif electrochrome |
| US8647995B2 (en) | 2009-07-24 | 2014-02-11 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable silica and sodium containing glasses |
| US8815380B1 (en) * | 2009-11-02 | 2014-08-26 | Rockwell Collins, Inc. | System and method for texturing glass |
| US8492297B2 (en) * | 2010-08-25 | 2013-07-23 | Sage Electrochromics, Inc. | Silica soda lime glass composition and use thereof |
| KR101305592B1 (ko) * | 2011-07-20 | 2013-09-09 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 플로트 유리의 제조 방법 |
| MY189206A (en) | 2013-02-19 | 2022-01-31 | Council Scient Ind Res | Energy efficient soda lime silicate glass compositions using borax pentahydrate |
| WO2014179140A2 (en) | 2013-04-29 | 2014-11-06 | Corning Incorporated | Photovoltaic module package |
| JP5831850B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2015-12-09 | 日本電気硝子株式会社 | 太陽電池用ガラス基板 |
| JP5947364B2 (ja) * | 2014-12-17 | 2016-07-06 | Hoya株式会社 | ガラス基板 |
| GB201505096D0 (en) * | 2015-03-26 | 2015-05-06 | Pilkington Group Ltd | Glass |
| CN106093010A (zh) * | 2016-06-12 | 2016-11-09 | 蚌埠玻璃工业设计研究院 | 一种快速分析钠钙硅玻璃中氧化钾与氧化钠含量的方法 |
| WO2018116731A1 (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| TWI826432B (zh) * | 2018-04-06 | 2023-12-21 | 美商康寧公司 | 玻璃熔融系統的排放導管 |
| CN109250905A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-01-22 | 国家电网有限公司 | 220kv高压输电用高强度盘形悬式玻璃绝缘子及其制造方法 |
| CN111268906A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-06-12 | 杨德宁 | 一种低氧化镁含量的玻璃组合物的应用 |
| WO2025239392A1 (ja) * | 2024-05-17 | 2025-11-20 | 日本電気硝子株式会社 | 支持ガラス基板、積層体、積層体の製造方法、半導体パッケージの製造方法及びガラス基板 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4015966A (en) * | 1976-06-01 | 1977-04-05 | Owens-Illinois, Inc. | Manufacture of X-ray absorbing glass composition by a float glass process |
| JPS61106437A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-24 | Asahi Glass Co Ltd | 多孔質ガラス用組成物及び多孔質ガラスの製造法 |
| JP2738036B2 (ja) * | 1989-07-06 | 1998-04-08 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラス組成物 |
| US5292690A (en) * | 1991-03-29 | 1994-03-08 | Nippon Electric Glass Company, Ltd. | Glass composition for glass bubbles with increased compressive strength |
| US5215944A (en) * | 1991-07-29 | 1993-06-01 | Ppg Industries, Inc. | X-ray absorbing glass compositions |
| GB9221227D0 (en) * | 1992-10-09 | 1992-11-25 | Pilkington Plc | Ctv batches |
| US5631195A (en) * | 1994-09-14 | 1997-05-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition and substrate for plasma display |
| JP3831957B2 (ja) * | 1994-09-14 | 2006-10-11 | 旭硝子株式会社 | ガラス組成物及びプラズマディスプレー用基板 |
| FR2727399B1 (fr) * | 1994-10-13 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications |
| AU3656495A (en) * | 1994-10-13 | 1996-05-06 | Saint-Gobain Vitrage S.A. | Reinforced glass substrates |
| JP3669022B2 (ja) * | 1994-10-14 | 2005-07-06 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラス組成物とそれを用いたプラズマディスプレイ用基板 |
| US5599754A (en) * | 1994-10-14 | 1997-02-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof |
| WO1998001400A1 (en) * | 1995-04-14 | 1998-01-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrate glass and plasma display made by using the same |
| GB2299991B (en) * | 1995-04-20 | 1998-09-09 | Ag Technology Corp | Glass substrate for magnetic disk |
| EP0795522B1 (en) * | 1996-03-14 | 1999-08-18 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
-
1997
- 1997-01-17 FR FR9700498A patent/FR2758550B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-01-13 EP EP98400053A patent/EP0854117B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-14 ID IDP980038A patent/ID19586A/id unknown
- 1998-01-14 PL PL324278A patent/PL190793B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1998-01-16 CN CN98104163A patent/CN1113824C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-01-16 US US09/008,075 patent/US6063718A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-16 MY MYPI98000183A patent/MY115575A/en unknown
- 1998-01-16 BR BR9800344A patent/BR9800344A/pt not_active IP Right Cessation
- 1998-01-17 KR KR1019980001314A patent/KR100575477B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1998-01-19 JP JP00754998A patent/JP4083852B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-04 TW TW087100601A patent/TW416936B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-05-12 JP JP2003133030A patent/JP2003335546A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6063718A (en) | 2000-05-16 |
| KR19980070580A (ko) | 1998-10-26 |
| JPH10291833A (ja) | 1998-11-04 |
| CN1199713A (zh) | 1998-11-25 |
| BR9800344A (pt) | 1999-05-25 |
| KR100575477B1 (ko) | 2006-08-03 |
| TW416936B (en) | 2001-01-01 |
| CN1113824C (zh) | 2003-07-09 |
| MY115575A (en) | 2003-07-31 |
| FR2758550A1 (fr) | 1998-07-24 |
| JP4083852B2 (ja) | 2008-04-30 |
| PL324278A1 (en) | 1998-07-20 |
| EP0854117B1 (fr) | 2011-08-24 |
| JP2003335546A (ja) | 2003-11-25 |
| FR2758550B1 (fr) | 1999-02-12 |
| ID19586A (id) | 1998-07-23 |
| EP0854117A1 (fr) | 1998-07-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL190793B1 (pl) | Kompozycja szkła | |
| KR100404028B1 (ko) | 기판또는열안정성플레이트제조용유리시트,및이로부터방출스크린용기판또는내열성창유리를제조하는방법 | |
| US8377834B2 (en) | Glass composition for substrates and process for its production | |
| US6905991B1 (en) | Soda-lime-silica glass compositions and applications | |
| HK1000861B (en) | Soda-lime-silica glass compositions and uses thereof | |
| US20090325777A1 (en) | Silico-sodo-calcic glass composition for the production of substrates | |
| AU689278B2 (en) | High-zirconia fused refractories | |
| AU659272B2 (en) | Alkali-free glass compositions | |
| WO1998049111A1 (en) | Glass compositions used in plasma displays | |
| JP2009155148A (ja) | ガラス組成物 | |
| JP4391321B2 (ja) | ディスプレイ装置用基板ガラス | |
| WO2006137683A1 (en) | High strain-point glass composition for substrate | |
| JP2025125249A (ja) | 無鉛無ホウ素艶消し黒色系瓦用釉薬 | |
| JP2005324992A (ja) | ディスプレイ装置用基板ガラス | |
| RU2270177C2 (ru) | Силикат-карбонат-известковая композиция стекла (варианты) | |
| JP4183697B2 (ja) | 表示装置用基板ガラスの製法 | |
| NO325623B1 (no) | Glassblanding for fremstilling av termisk stabile substrater eller plater | |
| HU226934B1 (en) | Soda-lime-silica glass compositions and applications | |
| KR100274375B1 (ko) | 영상표시판넬용기판유리조성물 | |
| KR20050038931A (ko) | 실리카 소다 석회 유리 조성물과 그 사용 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20140114 |