PL20182B1 - Kapiel do oczyszczania powierzchni przedmiotów zelaznych z tlenków i zendry. - Google Patents

Description

Wynalazek niniejszy dotyczy kapieli do oczyszczania powierzchni przedmiotów ze¬ laznych z tlenków i zendry. Kapiel wedlug wynalazku rozpuszcza tlenki i zendre, przy- czem nie nagryza zbytnio czystej po¬ wierzchni zelaza. Kapiele wedlug wyna¬ lazku posiadaja równiez wlasnosc wytwa¬ rzania piany na swej powierzchni podczas ich stosowania, co jest pozadane w pewnych przypadkach, poniewaz piana powstrzymu¬ je drobna mgle kwasów lub wypryskiwanie kapieli, mogace zachodzic podczas jej sto¬ sowania.Wynalazek niniejszy polega na tern, ze do zwyklej kapieli oczyszczajacej, stano¬ wiacej roztwór kwasu, dodaje sie pewna ilosc zwiazku, stanowiacego pochodna czwartorzedowych zasad amonowych lub zasad pirydyniowych i zawierajacego rod¬ nik alkylowy o dlugim lancuchu, t. j. rod¬ nik alkylowy, posiadajacy nie mniej niz szesc atomów wegla. Zwiazek ten przed do¬ daniem go do kapieli oczyszczajacej moze byc rozpuszczony w kwasie siarkowym lub solnym.Ponizej podaje sie przyklady przyrza¬ dzania kapieli wedlug wynalazku, które to przyklady nie ograniczaja jednak istoty wynalazku.Przyklad I. Przygotowuje sie kapiel o- czyszczajaca przez zmieszanie 1,75 czesci wagowych bromku okta-decylopirydynio- wego ze 100 000 czesci wagowych 1% -owe¬ go roztworu kwasu siarkowego w wodzie iogrzanie do temperatury okolo 90°C. Jesli blache zelazna o powierzchni utlenionej lub zendrowatej zanurzyc do tej kapieli, to za¬ nieczyszczenia latwo zostaja usuniete, dzie¬ ki czemu otrzymuje sie czysta powierzch¬ nie metalowa. Podczas tego procesu wytra¬ wiania na powierzchni kapieli wytwarza sie piana, W doswiadczeniach porównawczych blache zelazna, uprzednio pozbawiona zen- dry i oczyszczona, zanurzono na 5 minut w podobnej kapieli; strata na wadze wynio¬ sla 0,31%, podczas gdy podobna obróbka w kapieli z samego kwasu, niezawierajacego bromku oktadecylo-pirydyniowego, dala strate na wadze, wynoszaca 2,53% wago¬ wych.Przyklad II. 2 czesci wagowe bromku cetylo-trój-metylo-amonowego rozpuszczo¬ no w 100 000 czesci wagowych 7% -owego kwasu siarkowego w temperaturze 60°C. W doswiadczeniach porównawczych blache zelazna, pozbawiona zendry, zanurzono na 5 minut w takiej kapieli, przyczem strata metalu wyniosla 0,195%, podczas gdy po¬ dobna obróbka tej samej zelaznej blachy bez dodania do kapieli srodka ochronnego wyniosla okolo 1,16%.Przyklad III. Postepowanie zupelnie takie samo, jak w przykladzie I, z zastoso¬ waniem jednak w tym przypadku bromku okta-decylo-trójmetylo-amonowego. Strata metalu w kapieli wyniosla 0,122% w po¬ równaniu ze strata 1,16% w nieobecnosci srodka ochronnego.Przyklad IV. 1 czesc wagowa bromku dodecylo-pirydyniowego rozpuszczono w 8000 czesci wagowych 4,8%-owego kwasu solnego w temperaturze 20 — 24°C. Jesli, jak opisano powyzej, wolna od zendry bla¬ che zelazna zanurzyc na 16 godzin w tej kapieli, to strata metalu wynosi 0,0665%, podczas gdy podobna obróbka tej samej blachy zelaznej bez zastosowania srodka ochronnego daje strate metalu 2,14%. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe. Kapiel do oczyszczania powierzchni przedmiotów zelaznych z tlenków i zendry, stanowiaca roztwór kwasu, znamienna tern, ze zawiera pewna ilosc czwartorzedowego zwiazku amonowego lub pirydyniowego o dlugim lancuchu, np. bromku cetylopirydy- niowego, który dziala jako srodek ochronny przeciw zbytniemu nagryzaniu powierzch¬ ni czystego zelaza kwasem. Imperial Chemical Industries Limited. Zastepca: M. Skrzypkowski, rzecznik patentowy. Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL