PL206283B1 - Sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynku - Google Patents
Sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynkuInfo
- Publication number
- PL206283B1 PL206283B1 PL372068A PL37206803A PL206283B1 PL 206283 B1 PL206283 B1 PL 206283B1 PL 372068 A PL372068 A PL 372068A PL 37206803 A PL37206803 A PL 37206803A PL 206283 B1 PL206283 B1 PL 206283B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- zinc
- gas
- nitrogen
- sulphur
- hot dip
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title abstract description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000001273 butane Substances 0.000 claims abstract description 4
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000001294 propane Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 abstract description 2
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 abstract 1
- WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N hexafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)F WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 abstract 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical compound FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 abstract 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N sulfur tetrafluoride Chemical compound FS(F)(F)F QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000004291 sulphur dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000010269 sulphur dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical compound FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H tungsten hexafluoride Chemical compound F[W](F)(F)(F)(F)F NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H 0.000 abstract 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 4
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 4
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052704 radon Inorganic materials 0.000 description 1
- SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N radon atom Chemical compound [Rn] SYUHGPGVQRZVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0034—Details related to elements immersed in bath
- C23C2/00342—Moving elements, e.g. pumps or mixers
- C23C2/00344—Means for moving substrates, e.g. immersed rollers or immersed bearings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0038—Apparatus characterised by the pre-treatment chambers located immediately upstream of the bath or occurring locally before the dipping process
- C23C2/004—Snouts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Description
Opis wynalazku
Sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynku
Przedmiotem wynalazku jest sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynku.
Przy ciągłym uszlachetnianiu zanurzeniowym, zwłaszcza zaś cynkowaniu ogniowym taśm metalowych, występuje zjawisko sublimacji metalu powłoki. Jest to szczególnie krytyczne, ponieważ sublimacja zachodzi także w komorze pieca na usytuowanym wcześniej stanowisku wyżarzania taśmy i uaktywniania powierzchni. W agregacie tym wystę puje zazwyczaj atmosfera wodorowo-azotowa. Sublimat cofa się przeciwnie do ruchu taśmy i osadza się na zimniejszych miejscach w piecu. Zjawisko to jest spowodowane obecnością wodoru. Jest ono znane i prowadzi wraz z tworzeniem się sublimatu do wad powierzchni powlekanej taśmy metalowej.
Ze stanu techniki wiadomo, że dodanie wilgoci względnie tlenku/dwutlenku węgla może trwale spowolnić, a nawet powstrzymać zjawisko sublimacji.
W dokumencie DE 44 00 886 C2 opisany jest sposób powstrzymywania parowania cynku przy powlekaniu zanurzeniowym taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynku, przy czym taśma stalowa w obszarze wejś ciowym znajduje się w atmosferze ochronnej zł o ż onej z mieszaniny gazu oboję tnego z wodorem i/lub tlenkiem węgla, jako gazami redukującymi oraz dodatkowo dwutlenkiem węgla. Atmosfera gazu ochronnego powinna zawierać do 20 procent objętościowych wodoru i do 10 procent objętościowych tlenku węgla, lub też do atmosfery gazu ochronnego należy dodać 0,05 do 8 procent objętościowych CO2.
W dokumencie EP 0 172 681 B1 opisano sposób powstrzymywania tworzenia się par cynku w sposobie cią g ł ego zanurzeniowego powlekania na gorąco taś my metalowej na bazie ż elaza cynkiem lub stopami cynku, w którym to sposobie taśma jest zamknięta w obszarze wejściowym. W ten obszar wejściowy wprowadza się przy tym parę wodną, aby utrzymać atmosferę, która utlenia pary cynku, natomiast nie utlenia taśmy stalowej, oraz która zawiera, co najmniej 264 ppm pary wodnej i co najmniej 1 procent objętościowy wodoru. Korzystnie atmosfera w obszarze wejściowym powinna zawierać 1 do 8 procent objętościowych wodoru i 300 - 4500 objętościowych ppm pary wodnej, przy czym wyrównywanie odbywa się za pomocą gazu obojętnego, na przykład azotu.
Gazy lub mieszaniny gazów, stosowane w stanie techniki, powodują jednak także utlenianie powierzchni metalowej taśmy, która utrudnia prawidłowe nakładanie powłoki. Również ta problematyka, występująca zwłaszcza w obecności wilgoci, jest od dawna znana w związku z produkcją cynkowanych ogniowo taśm metalowych.
W japoń skim opisie zgł oszeniowym JP 07180014A ujawniono sposób powstrzymywania parowania cynku na powierzchni cynkowej kąpieli zanurzeniowej do cynkowania taśmy metalowej. W tym celu przewidziano chłodzenie powierzchni kąpieli zanurzeniowej do temperatury 420°C do 440°C poprzez doprowadzanie gazowego azotu. Korzystnie uzyskuje się to, że cynk na powierzchni kąpieli zanurzeniowej nie odparowuje już i taśma metalowa po przejściu przez kąpiel cynkowa ma powłokę cynkową o bardzo dobrej powierzchni.
Z kolei japoński opis zgłoszeniowy JP-11279730Adotyczy sposobu zanurzeniowego cynkowania taśmy metalowej z zahamowanym utlenianiem kąpieli cynkowej w obszarze wejścia do kąpieli. Utlenianie cynku powstrzymuje się poprzez to, że do koryta pieca, przez które przeprowadza się taśmę metalową do kąpieli cynkowej, wprowadza się gaz obojętny o gęstości > 2 kg/m3. W odniesieniu do gazu obojętnego chodzi tu o jeden lub co najmniej dwa z następujących gazów obojętnych: ksenon, krypton, radon lub heksafluorek siarki. Te gazy obojętne służą głównie do tego, aby uniknąć utleniania cynku. Zmniejszenie parowania cynku stanowi jedynie efekt uboczny. Ksenon jest bardzo drogim gazem i dlatego nie znajduje zastosowania na masową skalę przemysłową.
Wychodząc z przedstawionego stanu techniki u podstaw wynalazku leży zadanie zaproponowania alternatywnego gazu rozdzielczego do powstrzymywania parowania cynku przy powlekaniu zanurzeniowym taśmy metalowej cynkiem lub stopem cynku.
Sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynku, w którym stalową taśmę przeprowadza się przez zanurzone w kąpieli metalowej koryto pieca, zmienia się jej kierunek w kąpieli metalowej na rolce zwrotnej, a następnie wyprowadza się ją z kąpieli metalowej do góry, przy czym w korycie pieca nad kąpielą metalową znajduje
PL 206 283 B1 się gaz lub mieszanina gazów, jako gaz rozdzielczy, polega na tym, że jako mieszaninę gazów stosuje się argon z domieszką butanu i/lub propanu.
Zastosowanie mieszaniny gazów, składającej się z argonu z domieszką butanu i/lub propanu, jako gazu rozdzielczego powoduje korzystnie powstrzymanie powstawania sublimatu cynku przy małych w porównaniu z innymi znanymi gazami rozdzielczymi kosztach i bez promieniowania radioaktywnego.
Przedmiot wynalazku jest przedstawiony schematycznie na figurze rys. Na rysunku widać, że zgodnie z wynalazkiem mieszaninę gazów, stosuje się w ten sposób, że przy normalnej pracy nie są potrzebne duże ilości gazu do wprowadzenia w koryto 1 pieca. W znajdującej się w zbiorniku 6 kąpieli metalowej 2 zanurza się ukośnie koryto 1 pieca, przez które prowadzona jest przeznaczona do powlekania taśma metalowa 3. Taśma metalowa 3, zanurza się w kąpieli metalowej 2 względnie kąpieli do powlekania, ma zmieniany kierunek na rolce zwrotnej 7 i wychodzi w miejscu 8 z kąpieli metalowej. Nad miejscem wyjścia rozmieszczone są dysze zgarniające 9. W korycie 1 pieca znajduje się warstwa gazu rozdzielczego, w postaci zgodnej z wynalazkiem mieszaniny gazów pomiędzy powierzchnią kąpieli metalowej 2 i stosowaną zazwyczaj w korycie pieca mieszaniną 5 gazów, składającą się z azotu i wodoru. Zastosowanie gazu rozdzielczego powoduje, co najmniej daleko idącą redukcję, a nawet całkowite wyeliminowanie sublimacji cynku przy ciągłym uszlachetnianiu zanurzeniowym.
Claims (1)
- Sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej (3) cynkiem lub stopami cynku, w którym stalową taśmę (3) przeprowadza się przez zanurzone w kąpieli metalowej (2) koryto (1) pieca, zmienia się jej kierunek w kąpieli metalowej (2) na rolce zwrotnej (7), a następnie wyprowadza się ją z kąpieli metalowej (2) do góry, przy czym w korycie (1) pieca nad kąpielą metalową (2) znajduje się gaz lub mieszanina gazów, jako gaz rozdzielczy (4), znamienny tym, że jako mieszaninę gazów stosuje się argon z domieszką butanu i/lub propanu.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10229203 | 2002-06-28 | ||
| DE10233343A DE10233343A1 (de) | 2002-06-28 | 2002-07-23 | Trenngaseinsatz bei der kontinuierlichen Schmelztauchveredelung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL372068A1 PL372068A1 (pl) | 2005-07-11 |
| PL206283B1 true PL206283B1 (pl) | 2010-07-30 |
Family
ID=30001492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL372068A PL206283B1 (pl) | 2002-06-28 | 2003-03-28 | Sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynku |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20050233088A1 (pl) |
| EP (1) | EP1518004B1 (pl) |
| JP (1) | JP2005539136A (pl) |
| CN (1) | CN100422378C (pl) |
| AT (1) | ATE382104T1 (pl) |
| AU (1) | AU2003219109B2 (pl) |
| BR (1) | BR0311470A (pl) |
| DE (1) | DE50308889D1 (pl) |
| ES (1) | ES2297143T3 (pl) |
| MX (1) | MXPA04012328A (pl) |
| PL (1) | PL206283B1 (pl) |
| RU (1) | RU2319786C2 (pl) |
| WO (1) | WO2004003250A1 (pl) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102013101131A1 (de) * | 2013-02-05 | 2014-08-07 | Thyssenkrupp Steel Europe Ag | Vorrichtung zum Schmelztauchbeschichten von Metallband |
| US9956576B2 (en) | 2014-04-22 | 2018-05-01 | Metokote Corporation | Zinc rich coating process |
| CN110639233B (zh) * | 2019-08-20 | 2021-12-07 | 中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司 | 一种去除三氟化氮中二氟二氮、四氟二氮的方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE617024C (de) * | 1929-06-12 | 1935-08-10 | Karl Daeves Dr Ing | Verfahren zur Verhinderung der Bildung weissen Rostes bei verzinkten Waren |
| AU421751B2 (en) * | 1968-03-08 | 1972-02-25 | Australian Wire Industries Pty, Ltd | Improved method of and apparatus for wiping galvanised wire or strip |
| NZ188953A (en) * | 1977-12-15 | 1982-12-21 | Australian Wire Ind Pty | Coating control of wire emerging from metal bath |
| GB2050432B (en) * | 1979-05-09 | 1983-12-21 | Boc Ltd | Use of liquefied gas in hot dip metal coating |
| US4339480A (en) * | 1980-04-11 | 1982-07-13 | Bethlehem Steel Corporation | Gas wiping apparatus and method of using |
| US4557953A (en) * | 1984-07-30 | 1985-12-10 | Armco Inc. | Process for controlling snout zinc vapor in a hot dip zinc based coating on a ferrous base metal strip |
| SU1289910A1 (ru) * | 1985-09-09 | 1987-02-15 | Гомельский политехнический институт | Устройство дл нанесени покрытий на длинномерные издели |
| DE3631893A1 (de) * | 1986-09-19 | 1988-03-31 | Paul Fontaine | Verfahren und vorrichtung zum abstreifen von mit schmelzfluessigem material beschichtetem blech |
| CN1054622A (zh) * | 1991-04-24 | 1991-09-18 | 文联煜 | 氮基保护气氛制气剂 |
| DE4208578A1 (de) * | 1992-03-13 | 1993-09-16 | Mannesmann Ag | Verfahren zum beschichten der oberflaeche von strangfoermigem gut |
| JPH07180014A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-18 | Nippon Steel Corp | 溶融金属めっきのスナウト内浴面からのZn蒸発抑制方法 |
| JPH11279730A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-12 | Nisshin Steel Co Ltd | Znの酸化を抑制した溶融めっき方法 |
| FR2782326B1 (fr) * | 1998-08-13 | 2000-09-15 | Air Liquide | Procede de galvanisation d'une bande metallique |
| US7129311B2 (en) * | 2002-09-18 | 2006-10-31 | Arch Specialty Chemicals, Inc. | Additives to prevent degradation of alkyl-hydrogen siloxanes |
| JP4243209B2 (ja) * | 2003-03-28 | 2009-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁膜形成材料及びそれを用いた絶縁膜 |
-
2003
- 2003-03-28 DE DE50308889T patent/DE50308889D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-28 WO PCT/EP2003/003219 patent/WO2004003250A1/de not_active Ceased
- 2003-03-28 CN CNB038153661A patent/CN100422378C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-28 AU AU2003219109A patent/AU2003219109B2/en not_active Ceased
- 2003-03-28 BR BR0311470-8A patent/BR0311470A/pt not_active Application Discontinuation
- 2003-03-28 US US10/519,579 patent/US20050233088A1/en not_active Abandoned
- 2003-03-28 AT AT03714895T patent/ATE382104T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-03-28 EP EP03714895A patent/EP1518004B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-28 RU RU2005102086/02A patent/RU2319786C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2003-03-28 PL PL372068A patent/PL206283B1/pl not_active IP Right Cessation
- 2003-03-28 ES ES03714895T patent/ES2297143T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-28 MX MXPA04012328A patent/MXPA04012328A/es active IP Right Grant
- 2003-03-28 JP JP2004516548A patent/JP2005539136A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE50308889D1 (de) | 2008-02-07 |
| US20050233088A1 (en) | 2005-10-20 |
| AU2003219109A1 (en) | 2004-01-19 |
| BR0311470A (pt) | 2005-03-15 |
| CN100422378C (zh) | 2008-10-01 |
| ATE382104T1 (de) | 2008-01-15 |
| MXPA04012328A (es) | 2005-04-08 |
| JP2005539136A (ja) | 2005-12-22 |
| ES2297143T3 (es) | 2008-05-01 |
| CN1665954A (zh) | 2005-09-07 |
| EP1518004A1 (de) | 2005-03-30 |
| AU2003219109B2 (en) | 2009-01-22 |
| PL372068A1 (pl) | 2005-07-11 |
| RU2319786C2 (ru) | 2008-03-20 |
| WO2004003250A1 (de) | 2004-01-08 |
| RU2005102086A (ru) | 2005-07-20 |
| EP1518004B1 (de) | 2007-12-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101406789B1 (ko) | 용융 아연 도금을 위해 고강도 강철 스트립을 연속적으로 어닐링 및 제조하는 방법 | |
| JP5986185B2 (ja) | 外観が改善された被覆金属ストリップを製造する方法 | |
| KR101011897B1 (ko) | Si를 함유하는 강판의 연속 어닐링 용융 도금 방법 및연속 어닐링 용융 도금 장치 | |
| KR20070093415A (ko) | 고강도 강 스트립의 용융 도금 방법 | |
| JP2000064006A (ja) | 金属ストリップを亜鉛メッキするための方法 | |
| PL206283B1 (pl) | Sposób powstrzymywania parowania cynku przy zanurzeniowym powlekaniu taśmy stalowej cynkiem lub stopami cynku | |
| Sohn et al. | Effect of dew point and gas flow rate on the surface oxidation of advanced high strength steels | |
| US2437528A (en) | High-temperature cleaning of steel strip, including removing ferrous chloride therefrom | |
| WO1980000977A1 (en) | Process of producing one-side alloyed galvanized steel strip | |
| KR20040080377A (ko) | 연속적인 아연도금 이전에 스트립을 제어하여 산화시키는방법 및 아연도금 라인 | |
| US4282273A (en) | Process and apparatus for galvanizing a wire | |
| WO2001011099A3 (de) | Verfahren und anlage zum feuerverzinken von warmgewalztem stahlband | |
| KR20050020992A (ko) | 연속 용융 도금 마감 처리에 분리 가스를 사용하는 방법 | |
| KR100399226B1 (ko) | 용융금속 도금설비의 스나우트내 금속분진 생성 억제방법 | |
| KR100627478B1 (ko) | 용융도금장치와 용융도금방법 | |
| CA1083437A (en) | Mehtod of treating ferrous strand by hot dip coating procedure | |
| KR102498652B1 (ko) | 진행하는 철 합금 시트의 처리 방법 및 이를 실시하기 위한 처리 라인 | |
| KR101568512B1 (ko) | 도금성이 우수한 용융아연강판의 제조방법 | |
| KR20030053834A (ko) | 도금 부착성이 우수한 고강도 용융아연 도금강판의 제조방법 | |
| Tahara et al. | Effect of BN surface segregation on coatability in hot-dip galvanizing of B-added steel | |
| MY125355A (en) | Method and installation for hot dip galvanizing hot rolled steel strip | |
| ES2258572T3 (es) | Procedimiento para enfriar bruscamente piezas metalicas. | |
| RU2403315C2 (ru) | Способ покрытия стального плоского проката из высокопрочной стали | |
| GB1598570A (en) | Method of treating ferrous strand by hot dip coating procedure | |
| DE10233343A1 (de) | Trenngaseinsatz bei der kontinuierlichen Schmelztauchveredelung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20110328 |