PL208667B1 - Element zmienny optycznie z ciągiem warstw cienkopowłokowych - Google Patents

Description

Opis wynalazku

Przedmiotem wynalazku jest element zmienny optycznie, zwłaszcza zmienny optycznie element zabezpieczający do zabezpieczania banknotów, kart kredytowych i temu podobnych, który to element zawiera warstwę cienkopowłokową do wytwarzania zmiany barw za pomocą interferencji. Wynalazek dotyczy ponadto produktu zabezpieczanego oraz folii, zwłaszcza folii przetłaczanej lub folii laminowanej, która zawiera tego rodzaju element zmienny optycznie.

Zmienne optycznie elementy wykorzystuje się często do tego, aby utrudnić kopiowanie i niewłaściwe użytkowanie dokumentów lub produktów, a jeśli to możliwe, całkowicie temu zapobiec. Zmienne optycznie elementy znajdują, zatem często zastosowanie do zabezpieczania dokumentów, banknotów, kart kredytowych, kart płatniczych i temu podobnych.

Aby utrudnić kopiowanie zmiennych optycznie elementów, znane jest rozwiązanie polegające na wyposażeniu zmiennego optycznie elementu w ciąg warstw cienkopowłokowych, które zależnie od kąta patrzenia wytwarzają przesunięcia barw w wyniku interferencji.

W WO 01/03945 A1 opisany jest zabezpieczony produkt z przezroczystym podł o ż em, na którego jednej stronie umieszczona jest cienka powłoka, wytwarzająca dostrzegalne przesunięcie barw zależnie od zmiany kąta patrzenia. Cienka powłoka składa się z warstwy absorpcyjnej, umieszczonej na przezroczystym podłożu i z warstwy dielektrycznej, umieszczonej na warstwie absorpcyjnej. Warstwa absorpcyjna zawiera materiał, złożony z jednego z następujących materiałów lub kombinacji tych materiałów: chrom, nikiel, pallad, tytan, kobalt, żelazo, wolfram, molibden, tlenek żelaza lub węgiel. Warstwa dielektryczna składa się z jednego z następujących materiałów lub kombinacji tych materiałów: tlenek krzemu, tlenek glinu, fluorek magnezu, fluorek glinu, fluorek baru, fluorek wapnia lub fluorek litu.

Celem dalszego zwiększenia pewności zabezpieczenia przed kopiowaniem na leżącej naprzeciw ciągu warstw cienko-powłokowych stronie przezroczystego podłoża przetłoczony jest wzór dyfrakcyjny. Ten wzór dyfrakcyjny działa jak siatka dyfrakcyjna, dzięki czemu za pomocą tego dwuwymiarowego wzoru można przykładowo stworzyć obserwatorowi iluzję trójwymiarowego obrazu.

Ponadto zaproponowano, aby wzór dyfrakcyjny był przetłoczony na tej stronie przezroczystego podłoża, na której nałożone są warstwy cienkopowłokowe.

Obie te postaci wykonania zmiennego optycznie elementu sprawiają, że z każdej strony zmiennego optycznie elementu efekty optyczne, wytwarzane przez warstwy cienkopowłokowe, i efekty optyczne, wytwarzane przez wzór dyfrakcyjny, nakładają się na siebie, tworząc wspólnie efekt optyczny, który jest trudny do naśladowania i kopiowania.

Wynalazek oparty jest na zmiennym optycznie elemencie, jaki opisano w WO 02/00445 A1.

Zmienny optycznie element składa się z kilku warstw, umieszczonych jedna na drugiej. Zmienny optycznie element ma po pierwsze cienką powłokę, która wytwarza wspomniany już efekt optyczny, polegający na zmianie barwy w zależności od kąta patrzenia. Ponadto zmienny optycznie element zawiera warstwę replikową, w której wytłoczona jest struktura reliefowa. Ta struktura reliefowa wytwarza kolejny efekt optyczny, mianowicie opisany powyżej efekt dyfrakcyjny, za pomocą, którego można przedstawiać hologramy i temu podobne. Od strony technologicznej nakłada się przy tym najpierw warstwy cienkopowłokowe na warstwę replikową, a następnie wytłacza się warstwę reliefową.

Alternatywnie do powyższego w WO 02/00445 A1 przedstawiono rozwiązanie, w którym rozdzielono efekt optyczny, wytwarzany przez strukturę cienkopowłokową, i efekt optyczny uzyskany w wyniku obecności struktury reliefowej. W tym celu zaproponowano dwa sposoby postępowania.

Po pierwsze zaproponowano, aby pomiędzy strukturą reliefową, która za pomocą ugięcia wytwarza obraz holograficzny, i cienką powłoką, która wytwarza efekt przesunięcia barw, umieścić warstwę nieprzezroczystą. Za pomocą tej warstwy nieprzezroczystej oddziela się warstwę reliefową od struktury cienkopowłokowej. Druga możliwość polega na tym, by umieścić dwie lub więcej warstw w zasadzie przezroczystego materiału pomiędzy strukturą reliefową, wytwarzając ą obraz holograficzny w drodze ugięcia, i warstwami cienkopowłokowymi. Warstwy te mogą zawierać jedną lub więcej warstw o wysokim współczynniku załamania i warstwę klejącą. Za pomocą tych warstw zwiększa się odbicie, a co za tym idzie, natężenie światła w obszarze struktury reliefowej, wytwarzającej obraz holograficzny.

Taki zmienny element optyczny można przy tym wykonać w sposób następujący: najpierw wytłacza się wzór w folii holograficznej. Folię tę pokrywa się następnie lokalnie warstwą metaliczną, po

PL 208 667 B1 czym naparowuje się kolejno warstwy cienkopowłokowe. Jako ostatnią nakłada się na całą powierzchnię warstwę metaliczną.

Kolejna możliwość polega na pokryciu prefabrykowanego ciągu warstw cienkopowłokowych przetłaczalnym lakierem i wytłoczeniu w tym lakierze struktury reliefowej. Ponadto zaproponowano sklejanie takich prefabrykowanych warstw cienkopowłokowych z prefabrykowanymi mikrostrukturami.

W WO 02/00445 A1 opisane jest zatem zastosowanie albo elementów zabezpieczających, w których efekt optyczny, wytworzony przez struktury dyfrakcyjne, i efekt optyczny, wytworzony przez struktury cienkopowłokowe, są sprzężone ze sobą, albo elementów zabezpieczających, w których efekt optyczny, wytworzony przez struktury dyfrakcyjne, i efekt optyczny, wytworzony przez struktury cienkopowłokowe, są oddzielone od siebie.

Celem wynalazku jest utrudnienie naśladownictwa i kopiowania zmiennych optycznie elementów, a co za tym idzie, poprawa skuteczności zabezpieczenia zaopatrzonych w nie produktów przed fałszerstwem.

Element zmienny optycznie, zwłaszcza zmienny optycznie element zabezpieczający do zabezpieczania banknotów, kart kredytowych i tym podobnych, przy czym element zmienny optycznie zawiera warstwę cienkopowłokową do wytwarzania zmiany barw za pomocą interferencji oraz następną warstwę, przy czym cienka powłoka ma warstwową strukturę interferencyjną zdolną do wytwarzania przesunięć barw zależnych od kąta obserwacji, według wynalazku charakteryzuje się tym, że cienka powłoka ma postać częściowego elementu cienkopowłokowego, który pokrywa obszar powierzchni następnej warstwy jedynie lokalnie i w kształcie wzoru, przy czym ograniczony przez częściowy element cienkopowłokowy obszar powierzchni elementu zmiennego optycznie zawiera warstwę absorpcyjną i nie zawiera warstwy dystansowej, względnie zawiera warstwę dystansową i nie zawiera warstwy absorpcyjnej, lub zawiera, co najmniej jedną warstwę zastępczą, która w tym obszarze powierzchni zastępuje ciąg warstw cienkopowłokowych częściowego elementu cienkopowłokowego.

Korzystnie częściowy element cienkopowłokowy zawiera warstwę absorpcyjną i warstwę dystansową i/lub kilka warstw o różnym współczynniku załamania i/lub warstwę odbijającą, korzystnie warstwę metaliczną i/lub strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych i/lub częściową warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni częściowego elementu cienkopowłokowego, i/lub częściową strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni częściowego elementu cienkopowłokowego.

Korzystnie ograniczony przez częściowy element cienkopowłokowy obszar powierzchni jest otoczony przez częściowy element cienkopowłokowy lub otacza częściowy element cienkopowłokowy.

Korzystnie jedna lub więcej warstw zastępczych ma całkowitą grubość, która odpowiada w przybliżeniu grubości częściowego elementu cienkopowłokowego.

Korzystnie jedna lub więcej warstw zastępczych zawiera strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych.

Korzystnie jedna lub więcej warstw zastępczych jest utworzona przez warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, i warstwę nośną, i/lub przez pojedynczą warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, i/lub przez jedną lub więcej warstw przezroczystych.

Korzystnie jedna lub więcej warstw zastępczych zawiera częściową warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni jednej lub więcej warstw zastępczych, i/lub zawiera częściową strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni jednej lub więcej warstw zastępczych.

Korzystnie następną warstwę stanowi pokrywająca całą powierzchnię warstwa przezroczysta, zwłaszcza warstwa lakieru ochronnego, i/lub pokrywająca całą powierzchnię warstwa odbijająca, zwłaszcza warstwa metaliczna, i/lub pokrywająca całą powierzchnię warstwa klejąca.

Element zmienny optycznie według wynalazku stosuje się w produkcie zabezpieczonym.

Element zmienny optycznie według wynalazku stosuje się również w folii, zwłaszcza folii do tłoczenia lub folii do laminowania.

Wynalazek ma tę zaletę, że zmienny optycznie element według wynalazku jest znacznie trudniejszy do skopiowania niż zmienne optycznie elementy, znane ze stanu techniki. Zwiększa to znacznie skuteczność zabezpieczenia przed fałszerstwem produktów, zaopatrzonych w ukształtowany według wynalazku, optycznie zmienny element. W szczególności lepsze zabezpieczenie przed fałszerstwem osiąga się w przypadku zbudowanych warstwowo, płaskich elementów.

PL 208 667 B1

Tak na przykład opisany w WO 02/00445 A1, zmienny optycznie element - co przedstawiono w WO 02/00445 A1 jako moż liwość wytwarzania - moż na imitować w ten sposób, że prefabrykowaną folię cienkopowłokową obrabia się przy użyciu stempla do tłoczenia, za pomocą, którego w folii wytłacza się strukturę dyfrakcyjną. W zmiennym optycznie elemencie według wynalazku nie jest to już możliwe. Częściowe nakładanie ciągu warstw cienkopowłokowych, które wytwarzają przesunięcie barw za pomocą interferencji, wymaga wysokich nakładów technologicznych. Tak wytworzony częściowy element cienkopowło-kowy stanowi w porównaniu do prefabrykowanej folii cienkopowłokowej element zindywidualizowany, w związku, z czym zmienny optycznie element nie może być kopiowany na podstawie prefabrykowanego ciągu warstw cienkopowłokowych.

Inne zalety w odniesieniu do dotychczasowych pojedynczych obrazów lub leżących jeden na drugim, płaskich elementów polegają na lepszej integracji optycznej z całym, podlegającym ochronie elementem, celowym rozmieszczeniu geometrycznym okienek funkcyjnych (możliwość odczytu maszynowego, dane osobiste i inne) oraz lepiej dostosowanym wyborze własności fizyczno-chemicznych poszczególnych elementów częściowych (korozja, przyczepność międzywarstwowa i inne).

Następną warstwę stanowi korzystnie ciągła warstwa lakieru ochronnego, ciągła warstwa odbijająca lub ciągła warstwa klejąca. Nie jest jednak wymagane, aby następna warstwa pokrywała cały obszar powierzchni zmiennego optycznie elementu. Poza jedną następną warstwą można zastosować dodatkowe następne warstwy, których obszary powierzchni są jedynie lokalnie i w kształcie wzoru pokryte częściowym elementem cienkopowłokowym. Element zmienny optycznie może przykładowo mieć ciągłą warstwę lakieru ochronnego, ciągłą warstwę odbijającą i ciągłą warstwę klejącą.

Skuteczność zabezpieczenia przed fałszerstwem można dodatkowo zwiększyć w ten sposób, że częściowy element cienko-powłokowy zawiera warstwę odbijającą, korzystnie warstwę metaliczną. Poprawia to rozpoznawalność częściowego elementu cienkopowłokowego.

Alternatywnie istnieje możliwość zaopatrzenia częściowego elementu cienkopowłokowego w warstwę prześ wituj ą c ą . W tym przypadku szczególnie korzystne jest zabarwienie tej warstwy prześwitującej i stworzenie w ten sposób dodatkowej cechy zabezpieczającej.

Ponadto możliwe jest stworzenie dodatkowego elementu zabezpieczającego poprzez zaopatrzenie częściowego elementu cienkopowłokowego w strukturę dyfrakcyjną. Taka struktura dyfrakcyjna pozwala uzyskać efekty dyfrakcyjne, za pomocą, których można na przykład wytwarzać hologramy lub uzyskiwać określone barwne efekty.

Naśladownictwo zmiennego optycznie elementu ulega dalszemu utrudnieniu, jeżeli częściowy element cienkopowłokowy jest zaopatrzony w częściową warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni częściowego elementu cienkopowłokowego. Poza związanym z tym zwiększeniem skuteczności zabezpieczenia przed fałszerstwem można w ten sposób uzyskać interesujące efekty dekoracyjne. Poszerza się tym samym paleta postaci, jakie można nadać zmiennemu optycznie elementowi.

Powyższe korzyści można osiągnąć również wówczas, gdy częściowy element cienkopowłokowy zawiera częściową strukturę dyfrakcyjną, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni częściowego elementu cienkopowłokowego.

Oba powyższe środki, mianowicie częściową warstwę odbijającą i częściową strukturę dyfrakcyjną, można także stosować równolegle.

Korzystna pod względem technologicznym możliwość ukształtowania obszaru powierzchni zmiennego optycznie elementu, ograniczonego przez częściowy element cienkopowłokowy, polega na umieszczeniu w tym obszarze warstwy absorpcyjnej i nieumieszczaniu warstwy dystansowej. Korzyści te można osiągnąć także wówczas, gdy na ograniczony przez częściowy element cienkopowłokowy obszar powierzchni elementu zmiennego optycznie nałożona jest warstwa dystansowa, natomiast nie jest nałożona warstwa absorpcyjna.

Ponadto istnieje możliwość, polegająca na tym, że w ograniczonym przez częściowy element cienkopowłokowy obszarze powierzchni zmiennego optycznie elementu umieszczona jest jedna lub więcej warstw zastępczych, które w tym obszarze powierzchni zastępują ciąg warstw cienkopowłokowych częściowego elementu cienkopowłokowego. Korzystnie ograniczony przez częściowy element cienkopowłokowy obszar powierzchni jest otoczony przez częściowy element cienkopowłokowy lub otacza częściowy element cienkopowłokowy. To rozwiązanie stawia szczególnie wysokie wymagania przed procesem produkcyjnym. Odpowiedniemu utrudnieniu podlega także naśladownictwo tak wykonanego elementu zmiennego optycznie, co zwiększa skuteczność zabezpieczenia przed fałszerstwem.

PL 208 667 B1

Zalety opisanej budowy warstwowej mogą być bardziej wyraźne, gdy jedna lub więcej warstw zastępczych ma całkowitą grubość, która odpowiada w przybliżeniu grubości częściowego elementu cienkopowłokowego.

Naśladownictwo zmiennego optycznie elementu ulega dodatkowemu utrudnieniu, gdy jedna lub więcej warstw zastępczych zawiera strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych. Korzyść tę można osiągnąć także wówczas, gdy jedna lub więcej warstw zastępczych jest utworzona przez warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, i warstwę nośną. Alternatywnie możliwe jest rozwiązanie, w którym nałożona jest pojedyncza warstwa zastępcza, którą stanowi przykładowo warstwa odbijająca. Taki sposób postępowania, jak objaśniono poniżej, może być związany z korzyś ciami technologicznymi.

Jak już wspomniano w związku z częściowym elementem cienkopowłokowym, również w odniesieniu do ukształtowania jednej lub więcej warstw zastępczych korzystne jest, jeżeli zawiera ona częściową warstwę odbijającą, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni jednej lub więcej warstw zastępczych. Poza związanym z tym zwiększeniem skuteczności zabezpieczenia przed fałszerstwem można dzięki temu osiągnąć interesujące efekty dekoracyjne, wkomponowane w zabezpieczany produkt. Poszerza się tym samym paleta postaci, jakie można nadać zmiennemu optycznie elementowi. Korzyści te można ponadto osiągnąć w ten sposób, że jedna lub więcej warstw zastępczych zawiera częściową strukturę dyfrakcyjną, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni jednej lub więcej warstw zastępczych.

Poszczególne cechy zmiennego optycznie elementu, mianowicie „częściowy element cienkopowłokowy z częściową warstwą odbijającą”, „częściowy element cienkopowłokowy z częściową strukturą dyfrakcyjną”, „warstwa zastępcza z częściową warstwą odbijającą” i „warstwa zastępcza z częściową strukturą dyfrakcyjną można łączyć ze sobą w dowolne kombinacje. Zmienny optycznie element według wynalazku może, zatem zawierać dużą liczbę kombinacji efektywnych cech zabezpieczających i stwarza liczne możliwości doboru cech.

Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia zmienny optycznie element w przekroju, fig. 2a - pierwszy przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, fig. 2b - drugi przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, fig. 2c - trzeci przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, fig. 3 - następny przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, fig. 4 - kolejny przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, fig. 5a - nastę pny przykł ad wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, fig. 5b - następny przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, fig. 5c - kolejny przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, fig. 6a - następny przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, fig. 6b - kolejny przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, fig. 7 - następny przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju, oraz fig. 8 - dalszy przykład wykonania zmiennego optycznie elementu, w przekroju.

Na fig. 1 ukazana jest zasadnicza budowa zmiennego optycznie elementu 0.

Zmienny optycznie element 0 jest przeznaczony do umieszczania na zabezpieczanym produkcie, na przykład na banknocie, karcie kredytowej, karcie płatniczej lub dokumencie. Ponadto istnieje możliwość dostosowania zmiennego optycznie elementu do nakładania go na przedmioty, na przykład CD, lub na opakowania, jako oznakowania zabezpieczającego lub potwierdzającego oryginalność.

Zmienny optycznie element 0 może przyjmować wiele postaci. Zmienny optycznie element 0 może przykładowo mieć postać nici zabezpieczającej, przeznaczonej do umieszczania na jednym z wymienionych powyżej przedmiotów.

Na fig. 1 ukazany jest nośnik 1 i pięć warstw 2 do 6. Zmienny optycznie element 0 jest utworzony z warstw 2 do 6. Warstwę 2 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna, warstwę 3 warstwa absorpcyjna, zaś warstwę 4 warstwa dystansowa. Warstwa 5 jest warstwą metaliczną lub warstwą typu HRI (HRI = High Refraction Index). Warstwa 6 jest warstwą klejącą.

Nośnik 1 jest przykładowo wykonany z PET. Nośnik służy ze względów technologicznych do wykonania zmiennego optycznie elementu. Przy nakładaniu lub po nałożeniu zmiennego optycznie elementu na zabezpieczany obiekt następuje usunięcie nośnika 1. Na fig. 1 zmienny optycznie element jest, zatem ukazany w stadium, w którym stanowi on część folii, na przykład folii do tłoczenia lub folii do laminowania.

W przypadku, gdy zmienny optycznie element 0 stanowi część folii do laminowania, warstwa 2 zawiera warstwę nadającą przyczepność.

PL 208 667 B1

Cienka powłoka charakteryzuje się w zasadzie interferencyjnym układem warstw, który wytwarza przesunięcia barw, zależne od kąta obserwacji. Może on mieć postać elementu odbijającego, zaopatrzonego przykładowo w warstwy metaliczne o wysokim współczynniku odbicia, lub elementu prześwitującego z przezroczystą optyczną warstwą rozdzielczą (wyższy współczynnik załamania (HRI) lub niższy współczynnik załamania (LRI)) względem graniczących z nim warstw. Zasadnicza budowa cienkiej powłoki obejmuje warstwę absorpcyjną (korzystnie od 30 do 65% transmisji), przezroczystą warstwę dystansową, jako warstwę powodującą zmianę barwy (na przykład warstwę o grubości jednej czwartej lub połowy długości fali λ) i warstwę metaliczną, jako warstwę odbijającą lub optyczną warstwę rozdzielczą, jako warstwę prześwitującą.

Warstwy 3, 4 i 5, czyli warstwa absorpcyjna, warstwa dystansowa i warstwa metaliczna lub warstwa HRI tworzą cienką powłokę, która w drodze interferencji wytwarza przesunięcia barw, zależne od kąta obserwacji. Wytwarzane przez cienką powłokę przesunięcia barw leżą przy tym korzystnie w zakresie światła widzialnego dla ludzi. Ponadto cienka powłoka ma postać częściowego elementu cienkopowłokowego, który pokrywa powierzchnię zmiennego optycznie elementu 0 tylko lokalnie i na kształt wzoru.

Jeżeli warstwę 5 stanowi warstwa odbijająca, na przykład z aluminium, wówczas grubość warstwy dystansowej 4 należy dobrać tak, aby był spełniony warunek λ/4. Jeżeli warstwę 5 stanowi warstwa prześwitujące, wówczas warstwa dystansowa 4 musi spełniać warunek λ/2.

Częściowy element cienkopowłokowy może składać się z ciągu warstw o wysokim i niskim współczynniku załamania.

Przykładowo częściowy element cienkopowłokowy może być zbudowany z 3 do 9 takich warstw (nieparzysta liczba warstw cienkopowłokowych) lub z 2 do 10 takich warstw (parzysta liczba warstw cienkopowłokowych). Im większa jest liczba warstw, tym ostrzej można ustawić długość fali dla uzyskania efektu zmiany barw.

Przykłady typowych grubości poszczególnych warstw częściowego elementu cienkopowłokowego i przykłady materiałów, nadających się w zasadzie do zastosowania na warstwy częściowego elementu cienkopowłokowego, są ujawnione w WO 01/03945, strona 5/wiersz 30 do strony 8/wiersz 5.

Warstwa 5 może mieć postać nałożonej na całą lub na część powierzchni warstwy metalicznej lub warstwy HRI. Jako materiały na warstwę 5 w grę wchodzą przykładowo Al, Ag, Cr, Ni, Cu, Au lub kombinacje metali o własnościach odbijających.

Ponadto warstwa 5 może mieć strukturyzowaną powierzchnię. Może ona zatem zawierać strukturę dyfrakcyjną, strukturę refrakcyjną (soczewki) lub struktury makroskopowe (większe niż 30 μ). Ponadto może ona mieć niestrukturyzowaną powierzchnię lustrzaną lub powierzchnię rozpraszającą.

W zasadzie można zrezygnować z jednej lub kilku warstw ukazanych na fig. 1. Ponadto zmienny optycznie element 0 może zawierać dodatkowo jedną lub więcej następnych warstw.

Na fig. 2a do 2c ukazane są trzy zmienne optycznie elementy 10, 20 względnie 30. Zmienny optycznie element 10 ma trzy obszary 11 do 13 powierzchni, zmienny optycznie element 20 ma trzy obszary 21 do 23 powierzchni, zaś zmienny optycznie element 30 ma trzy obszary 31 do 33 powierzchni.

Każdy z obszarów 12, 23 i 31 powierzchni zmiennych optycznie elementów 10, 20 względnie 30 jest pokryty częściowym elementem cienkopowłokowym. Jak widać na fig. 2a do 2c, każdy z częściowych elementów cienkopowłokowych ma postać lokalnie uformowanego wzoru.

Każdy z częściowych elementów cienkopowłokowych może być przy tym prześwitujący lub odbijający. Częściowe ukształtowanie elementu w postaci wzoru, zarówno prześwitującego jak też odbijającego, w obrębie danego obszaru powierzchni pozwala osiągnąć inne interesujące efekty. Ponadto obszary 12, 23 i 31 powierzchni mogą być także zaopatrzone w strukturę dyfrakcyjną.

Obszary 11, 22 i 33 powierzchni zmiennych optycznie elementów 10, 20 względnie 30 są pokryte częściową metalizacją. Również te obszary powierzchni mogą być zaopatrzone w strukturę dyfrakcyjną.

W każdym z obszarów 13, 21 i 32 powierzchni zmiennych optycznie elementów 10, 20 względnie 30 widoczne jest przezroczyste okienko. Przezroczyste okienka zawierają po jednym częściowym przezroczystym elemencie. Element ten jest przezroczysty lub prześwitujący (kompozycje prześwitujących lakierów, kompozycje tlenkowe, częściowo metalizowane, rozpraszające, prześwitujące, organiczne i nieorganiczne). Także te obszary powierzchni mogą być zaopatrzone w strukturę dyfrakcyjną.

Należy podkreślić, że wszystkie przedstawione schematycznie układy elementów z fig. 2a do 2c mogą być wykonane we wzajemnej zgodności i bez ograniczania ich ogólnej postaci mogą zawierać

PL 208 667 B1 zarówno graficzne elementy obrazowe, jak też znaki alfanumeryczne i geometryczne, kody paskowe i przypadkowe wzory oraz ich kombinacje.

Na fig. 3 uwidoczniona jest możliwa budowa zmiennego optycznie elementu, zaopatrzonego w częściowy element cienkopowłokowy.

Na fig. 3 ukazany jest nośnik 1, pięć warstw 32 do 37 i dwa obszary 39a i 39b powierzchni.

Warstwę 32 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna, warstwę 33 warstwa replikowa, wykonana z lakieru replikacyjnego. Warstwę 35 stanowi warstwa metaliczna lub warstwa HRI (HRI = High Refraction Index). Warstwę 36 tworzy materiał odporny na trawienie. Warstwa 37 jest warstwą klejącą.

Celem wykonania takiej struktury warstwowej na całą powierzchnię nośnika 31 nakłada się warstwę lakieru ochronnego i warstwę odrywalna 32, warstwę replikowa 33 i warstwę metaliczną 35. Następnie przy użyciu narzędzia do tłoczenia zaopatruje się częściowo warstwę 35 w struktury dyfrakcyjne. W następnym etapie warstwę metaliczną 35 zadrukowuje się materiałem odpornym na trawienie, formując w ten sposób jedynie częściową warstwę 36.

Następnie powierzchnię niepokrytą materiałem odpornym na trawienie usuwa się w drodze trawienia.

Alternatywnie można również usunąć lub pozbawić własności metalicznych warstwę metaliczną 35 przy użyciu techniki zmywania, na przykład zmywania laserowego, erozji iskrowej, obróbki plazmowej lub jonowej. Takie techniki zmywania pozwalają na przenoszenie obrazów, tekstów i kodów, zapamiętanych w postaci cyfrowej.

Powstałe w ten sposób pomiędzy częściowymi warstwami 35 i 36 przestrzenie tworzą częściowy element cienkopowłokowy. Warstwy częściowego elementu cienkopowłokowego mogą być przy tym nakładane w drodze naparowywania przy użyciu odpowiednio ukształtowanych masek lub w drodze drukowania warstw w obszarze przestrzeni pomiędzy warstwami.

Ponadto możliwe jest rozwiązanie, ukazane na fig. 3, w którym częściowe obszary przestrzeni między warstwami nie są pokryte częściowym elementem cienkopowłokowym, w związku z czym powstaje przezroczyste okienko. Przy nakładaniu warstwy klejącej nadaje się jej w tych miejscach odpowiednio większą grubość, jak widać na fig. 3.

Na fig. 4 ukazany jest zmienny optycznie element, w którym obszar powierzchni ograniczony częściowym elementem cienkopowłokowym zawiera warstwę dystansową, natomiast nie zawiera warstwy absorpcyjnej.

Na fig. 4 ukazany jest nośnik 41, pięć warstw 42 do 47 i kilka obszarów powierzchniowych 49a i 49b.

Warstwę 42 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna, warstwę 43 warstwa absorpcyjna. Warstwę 44 stanowi warstwa dystansowa. Warstwę 46 stanowi warstwa metaliczna lub warstwa HRI (HRI = High Refraction Index). Warstwa 47 jest warstwą klejącą.

Celem wykonania takiej struktury warstwowej na całą powierzchnię nośnika 41 nakłada się warstwę lakieru ochronnego/warstwę odrywalna 42 i warstwę absorpcyjną 43. Warstwa absorpcyjna 43 może być przy tym nakładana poprzez naparowywanie lub metodą drukarską.

Następnie usuwa się częściowo warstwę absorpcyjną w obszarach 49b powierzchni.

To częściowe usunięcie warstwy absorpcyjnej odbywa się poprzez trawienie pozytywne lub negatywne. W przypadku trawienia bezpośredniego środek trawiący można nanosić w postaci wzoru metodą drukarską, na przykład za pomocą wałka lub przy zastosowaniu sitodruku. Ponadto można nałożyć maskę do trawienia, którą po trawieniu usuwa się poprzez zmywanie.

Ponadto warstwę absorpcyjną można również usunąć przy użyciu techniki zmywania, na przykład zmywania laserowego, erozji iskrowej, obróbki plazmowej lub jonowej. Takie techniki zmywania pozwalają na przenoszenie obrazów, tekstów i kodów, zapamiętanych w postaci cyfrowej.

Zamiast nakładania warstwy absorpcyjnej na całą powierzchnię można również nakładać ją na warstwę 42 jedynie częściowo. Może się to odbywać poprzez naparowywanie przy użyciu ukształtowanych w postaci wzoru masek do naparowywania lub w drodze odpowiedniego drukowania warstwy absorpcyjnej 43 w postaci wzoru na warstwie 42.

Na całą powierzchnię częściowo uformowanej warstwy absorpcyjnej 43 nakłada się teraz warstwę dystansową 44. Nakładanie warstwy dystansowej może odbywać się w drodze naparowywania lub poprzez nadruk na całej powierzchni warstwy absorpcyjnej.

Obszary 49a powierzchni są po tej operacji pokrywane cienką powłoką, składającą się z warstwy absorpcyjnej 43 i warstwy dystansowej 44. Ta cienka powłoka wytwarza (po nałożeniu następnych warstw, które działają jak optyczne warstwy rozdzielcze) przy odpowiednim padaniu światła

PL 208 667 B1 zależne od kąta obserwacji przesunięcia barw w drodze interferencji. W obszarach 49b powierzchni brakuje warstwy absorpcyjnej 43, w związku z czym nie mogą tam powstawać takie przesunięcia barw.

Ponadto możliwe jest rozwiązanie, w którym nie tylko warstwę absorpcyjną 43, lecz także warstwę dystansową 44 nakłada się jedynie częściowo na warstwę absorpcyjną 43 lub częściowo się ją usuwa.

Istnieje po pierwsze możliwość, aby na całą powierzchnię częściowo uformowanej warstwy absorpcyjnej 43 nałożyć warstwę dystansową 44, a następnie przy użyciu jednej z wymienionych metod (trawienie pozytywne, trawienie negatywne, zmywanie) usunąć warstwę dystansową w zgodności z częściowo uformowaną warstwą absorpcyjną.

Ponadto istnieje możliwość nałożenia warstwy absorpcyjnej 43 i warstwy dystansowej 44 na całą powierzchnię, po czym usunięcia obu warstw wspólnie przy użyciu jednej z wymienionych wyżej technik (trawienie pozytywne, trawienie negatywne, zmywanie).

Poza tym istnieje możliwość nadrukowania warstwy dystansowej w zgodności z częściowo uformowaną warstwą absorpcyjną przy użyciu techniki drukarskiej.

Alternatywnie obszary powierzchni ograniczone przez częściowy element cienkopowłokowy mogą zawierać warstwę absorpcyjną, natomiast nie zawierać warstwy dystansowej.

Można to osiągnąć w ten sposób, że warstwę absorpcyjną nakłada się na całą powierzchnię, na przykład poprzez naparowywanie lub nadrukowywanie. Następnie nakłada się warstwę dystansową jedynie częściowo przy użyciu techniki drukarskiej. Również tutaj istnieje możliwość nałożenia warstwy dystansowej na całą powierzchnię i następnego jej usunięcia przy użyciu jednego z wymienionych wyżej sposobów (trawienie pozytywne, trawienie negatywne, zmywanie).

Ponadto istnieje możliwość dokonania takiej zmiany grubości warstwy dystansowej lub warstwy absorpcyjnej poprzez dodatkowe naparowanie lub dodatkowy nadruk, aby nie mogła ona już pełnić swojej funkcji, jako warstwa interferencyjna i tym samym została „wygaszona”.

Na tak nałożone i uformowane warstwy 43 i 44 nakłada się teraz warstwę 46.

Jeżeli warstwa 46 jest warstwą odbijającą, wówczas jest ona korzystnie z metalu. Metal ten może być również barwiony. Jako materiały w grę wchodzi w zasadzie chrom, aluminium, miedź, żelazo, nikiel, srebro, złoto lub stop tych materiałów.

Ponadto w tym przypadku można nanosić pigmenty metaliczne o wysokim połysku lub pigmenty odbijające, które tworzą następnie warstwę odbijającą.

Warstwę odbijającą 46 można ponadto wykonać w postaci częściowej warstwy metalicznej. Również tutaj istnieje możliwość początkowego nałożenia warstwy 46 na całą powierzchnię, na przykład poprzez naparowanie, a następnie usunięcia jej przy użyciu jednej z opisanych powyżej technik (trawienie pozytywne, trawienie negatywne, zmywanie). Jeżeli jako warstwę odbijającą zastosuje się pigmenty metaliczne, wówczas warstwę tę można częściowo nadrukować, tworząc częściową warstwę odbijającą.

Jeżeli warstwa 46 jest warstwą prześwitującą, wówczas w grę wchodzą zwłaszcza takie materiały, jak tlenki, siarczki lub związki tlenowców niewykazujących własności metalicznych. Decydujące dla doboru materiału jest to, aby w porównaniu do materiałów zastosowanych w warstwie dystansowej 44 istniała różnica we współczynniku załamania. Różnica ta powinna być nie mniejsza niż 0,2. Zależnie od materiału użytego na warstwę dystansową 44, na warstwę 46 stosuje się, zatem materiał HRI lub LRI. Warstwę prześwitującą może również stanowić warstwa klejąca, która spełnia powyższy warunek w odniesieniu do współczynnika załamania.

W wyniku częściowego nakładania warstwy prześwitującej można osiągnąć opisany powyżej „efekt wygaszenia”. Jeżeli z warstwą dystansową styka się warstwa (na przykład warstwa klejąca), która nie spełnia opisanego wyżej warunku odnośnie do współczynnika załamania, wówczas ma miejsce zwiększenie optycznej grubości warstwy dystansowej i nie występuje już widoczny efekt interferencji.

Na podstawie fig. 5a do 5c objaśnione są poniżej możliwości nakładania w obszarze powierzchni zmiennego optycznie elementu, ograniczonym częściowym elementem cienkopowłokowym, jednej lub więcej warstw zastępczych, zaopatrzonych w strukturę dyfrakcyjną.

Na fig. 5a ukazany jest nośnik 51, osiem warstw 52 do 59 i kilka obszarów 59a i 59b powierzchni. Warstwę 52 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna. Warstwę 53 stanowi warstwa replikowa. Warstwę 54 stanowi warstwa absorpcyjna. Warstwy 56 i 57 są warstwami zastępczymi. Warstwa 58 jest warstwą metaliczną lub warstwą HRI (HRI = High Refraction Index).

Warstwa 59 jest warstwą klejąca.

PL 208 667 B1

Warstwy 52, 53, 54, 55, 58 i 59 są ukształtowane analogicznie, jak to opisano w przykładach wykonania dotyczących fig. 3 i 4, i są nakładane na nośnik 51 w sposób również tam opisany.

Warstwę 53 stanowi lakier replikowy lub formowalne termicznie tworzywo sztuczne. W warstwie 53 wytłacza się teraz struktury dyfrakcyjne, usytuowane w obszarach powierzchni pomiędzy częściową warstwą cienkopowłokową. Ten proces tłoczenia przeprowadza się korzystnie, zanim nałożone zostaną warstwy 54 i 55.

Zamiast tłoczenia do wykonania struktury dyfrakcyjnej na powierzchni warstwy 53 można także zastosować laser.

Następnie w obszarach 59b powierzchni nakłada się warstwę 57, którą korzystnie stanowi warstwa metaliczna.

Metalizację tę można przeprowadzić w drodze naparowania przy użyciu maski, przed lub po utworzeniu częściowego elementu cienkopowłokowego.

Ponadto metalizację można przeprowadzić na całej powierzchni warstwy 53, po czym usunąć ją częściowo za pomocą jednej z opisanych powyżej metod (trawienie pozytywne, trawienie negatywne, zmywanie) w obszarach 59a powierzchni, czyli w obszarze częściowego elementu cienkopowłokowego. Operację tę przeprowadza się przy tym przed utworzeniem częściowego elementu cienkopowłokowego.

Proces tłoczenia można także przeprowadzić dopiero po nałożeniu warstwy 57.

Warstwa zastępcza 56 może być wykonana z tego samego materiału, co warstwa dystansowa 55, co jest o tyle korzystne, że pozwala zrezygnować z częściowego nakładania warstwy dystansowej 55 i warstwy zastępczej 56.

Na fig. 5b ukazany jest nośnik 61, osiem warstw 62 do 69 i kilka obszarów 69a i 69b powierzchni. Warstwę 62 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna. Warstwę 63 stanowi warstwa replikowa. Warstwę 64 stanowi warstwa absorpcyjna. Warstwy 66 i 67 są warstwami zastępczymi. Warstwa 68 jest warstwą metaliczną lub warstwą HRI (HRI = High Refraction Index). Warstwa 69 jest warstwą klejącą.

Warstwy 62, 63, 64, 65, 68 i 69 są ukształtowane analogicznie, jak to opisano w przykładach wykonania dotyczących fig. 3 i 4, i są nakładane na nośnik 61 w sposób również tam opisany.

Warstwę 63 stanowi lakier replikowy lub formowalne termicznie tworzywo sztuczne. Warstwę 63 zaopatruje się, jak podano w opisie fig. 5a, w strukturę dyfrakcyjną, zaś w obszarach 69a powierzchni pokrywa się ją warstwą 67.

W przeciwieństwie do przykładu wykonania przedstawionego na fig. 5a warstwa 68 jest ukształtowana tylko częściowo. Można to osiągnąć poprzez opisane powyżej, częściowe nakładanie warstwy 68. Ponadto przy naparowywaniu warstwy 68 można równolegle naparowywać warstwę 67, a następnie częściowo nałożyć warstwę 66. Warstwa 66 może jednak również stanowić część warstwy klejącej 69 (patrz także opis fig. 3).

Na fig. 5c ukazany jest nośnik 71, osiem warstw 72 do 79 i kilka obszarów 79a i 79b powierzchni. Warstwę 72 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna. Warstwę 73 stanowi warstwa replikowa. Warstwę 74 stanowi warstwa absorpcyjna. Warstwy 76 i 77 są warstwami zastępczymi.

Warstwa 78 jest warstwą metaliczną lub warstwą HRI (HRI = High Refraction Index). Warstwa 79 jest warstwą klejącą.

Warstwy 72, 73, 74, 75, 78 i 79 są ukształtowane analogicznie, jak to opisano w przykładach wykonania dotyczących fig. 3 i 4, i są nakładane na nośnik 71 w sposób również tam opisany.

Warstwę 73 stanowi lakier replikowy lub formowalne termicznie tworzywo sztuczne. Warstwę 73 zaopatruje się, jak podano w opisie fig. 5a, w strukturę dyfrakcyjną, zaś w obszarach 79a powierzchni pokrywa się ją warstwą 77.

W przeciwieństwie do przykładów wykonania przedstawionego na fig. 5a i 5b obie warstwy 77 i 76 są warstwami metalicznymi. Przykładowo nakłada się, zatem, jak opisano w związku z fig. 5a, warstwę metaliczną 77 i zaopatruje w strukturę dyfrakcyjną. Dzięki odpowiedniemu doborowi materiału warstwy dystansowej 75 można sprawić, aby miała ona w obszarach 79b powierzchni własności metaliczne. Następnie na całą powierzchnię nakłada się warstwę metaliczną 79.

Można oczywiście nałożyć warstwy 77 i 76 w postaci jednej warstwy metalicznej, tylko o większej grubości widocznej na fig. 5c, jak opisano w odniesieniu do fig. 5a.

PL 208 667 B1

Na podstawie fig. 6a i 6b objaśnione są poniżej możliwości nakładania w obszarze powierzchni zmiennego optycznie elementu, ograniczonym częściowym elementem cienkopowłokowym, jednej lub więcej przezroczystych warstw zastępczych.

Na fig. 6a ukazany jest nośnik 81, siedem warstw 82 do 89 i kilka obszarów 89a i 89b powierzchni. Warstwę 82 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna. Warstwę 83 stanowi warstwa replikowa. Z tej warstwy można również zrezygnować. Warstwę 84 stanowi warstwa absorpcyjna. Warstwa 86 jest warstwą zastępczą. Warstwa 88 jest warstwą metaliczną. Warstwa 89 jest warstwą klejącą.

Warstwy 82, 83, 84, 85, 88 i 89 są ukształtowane analogicznie, jak to opisano w przykładach wykonania dotyczących fig. 3 i 4, i są nakładane na nośnik 81 w sposób również tam opisany.

Warstwa zastępcza 86 jest wykonana z materiału prześwitującego. W przypadku tego materiału może chodzić o ten sam materiał, jaki użyto na warstwę dystansową 85. Pozwala to, jak już wspomniano w odniesieniu do fig. 5a, zrezygnować z częściowego nakładania warstw 85 i 86.

Na fig. 6b ukazany jest nośnik 91, siedem warstw 92, 93, 94, 95, 96, 98 i 99, dyfrakcyjne struktury 97 i kilka obszarów 99a do 99d powierzchni. Warstwę 92 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna. Warstwę 93 stanowi warstwa replikowa. Warstwę 94 stanowi warstwa absorpcyjna. Warstwa 96 jest warstwą zastępczą. Warstwa 98 jest warstwą metaliczną. Warstwa 99 jest warstwą klejącą.

Warstwy 92, 93, 94, 95, 98 i 99 są ukształtowane analogicznie, jak to opisano w przykładach wykonania dotyczących fig. 3 i 4, i są nakładane na nośnik 91 w sposób również tam opisany. Warstwa 96 jest ukształtowana analogicznie do fig. 6a.

Przed nałożeniem warstwy 94 i/lub warstwy 96 nakłada się na powierzchnię warstwy 93 struktury dyfrakcyjne 97 za pomocą narzędzia do tłoczenia lub jednej z pozostałych opisanych powyżej metod. Jak widać na fig. 6b, struktury dyfrakcyjne 97 można przy tym umieścić zarówno w obszarach powierzchni, pokrytych częściowym elementem cienkopowłokowym, jak też w takich obszarach powierzchni, które nie są pokryte częściowym elementem cienkopowłokowym.

Na fig. 7 i 8 ukazane są niektóre możliwości łączenia częściowego elementu cienkopowłokowego z częściowymi strukturami dyfrakcyjnymi i częściową metalizacją.

Na fig. 7 ukazany jest nośnik 101, dziewięć warstw 102 do 109 i kilka obszarów 109a do 109d powierzchni. Warstwę 102 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna. Warstwę 103 stanowi warstwa replikowa. Warstwę 104 stanowi warstwa absorpcyjna. Warstwy 106, 107 i 107a stanowią warstwy zastępcze. Warstwa 108 jest warstwą metaliczną. Warstwa 109 jest warstwą klejącą.

Warstwy 102, 103, 104, 105, 108 i 109 są ukształtowane analogicznie, jak to opisano w przykładach wykonania dotyczących fig. 3 i 4, i są nakładane na nośnik 101 w sposób również tam opisany.

Warstwę 107 stanowi warstwa metaliczna, której budowa może odpowiadać opisanej w odniesieniu do przykładów wykonania z fig. 5a i 5b. Warstwy zastępcze 106 i 107a są utworzone z materiału prześwitującego. Są one zbudowane analogicznie do przykładów wykonania z fig. 6a i 6b.

Jak widać na fig. 7, w obszarach 109b, 109d i 109e powierzchni na warstwę 103 nałożona jest ponadto struktura dyfrakcyjna.

Na fig. 8 ukazany jest nośnik 111, osiem warstw 112 do 119 i kilka obszarów 119a i 119b powierzchni. Warstwę 112 stanowi warstwa lakieru ochronnego i/lub warstwa odrywalna. Warstwę 113 stanowi warstwa replikowa. Warstwę 114 stanowi warstwa absorpcyjna. Warstwę 117 stanowi warstwa dystansowa. Warstwy 116 i 115 są warstwami zastępczymi. Warstwa 118 jest warstwą metaliczną. Warstwa 119 jest warstwą klejącą.

Warstwy 112, 113, 114, 117, 118 i 119 są ukształtowane analogicznie, jak to opisano w przykładach wykonania dotyczących fig. 3 i 4, i są nakładane na nośnik 111 w sposób również tam opisany.

Warstwa zastępcza 115 jest warstwą metaliczną, która może być zbudowana tak, jak to opisano w przykładach wykonania z fig. 5a i 5b. Warstwa zastępcza 116 jest utworzona z materiału odpornego na trawienie (patrz także opis przykładu wykonania z fig. 3).

Jak widać na fig. 8, w obszarach 119c i 119d powierzchni na warstwę 113 jest nałożona ponadto struktura dyfrakcyjna 115a względnie 114a.

Opisane powyżej możliwości realizacji sposobu pozwalają na wytwarzanie poszczególnych elementów, wpasowanych w element zmienny optycznie, jak na przykład częściowy element cienkopowłokowy, częściowa strukturyzacja (na przykład struktury dyfrakcyjne), częściowa metalizacja i częściowe przezroczyste okienko, z dokładnością do 0,2 mm w każdej kombinacji miejsc obsadzenia tych elementów, tworzących związany lub ciągły wzór graficzny.

Claims (20)

1. Element zmienny optycznie, zwłaszcza zmienny optycznie element zabezpieczają cy do zabezpieczania banknotów, kart kredytowych i tym podobnych, przy czym element zmienny optycznie zawiera warstwę cienkopowłokową do wytwarzania zmiany barw za pomocą interferencji oraz następną warstwę, przy czym cienka powłoka ma warstwową strukturę interferencyjną zdolną do wytwarzania przesunięć barw zależnych od kąta obserwacji, znamienny tym, że cienka powłoka ma postać częściowego elementu cienkopowłokowego, który pokrywa obszar powierzchni następnej warstwy jedynie lokalnie i w kształcie wzoru, przy czym ograniczony przez częściowy element cienkopowłokowy obszar powierzchni elementu zmiennego optycznie zawiera warstwę absorpcyjną i nie zawiera warstwy dystansowej, względnie zawiera warstwę dystansową i nie zawiera warstwy absorpcyjnej, lub zawiera, co najmniej jedną warstwę zastępczą, która w tym obszarze powierzchni zastępuje ciąg warstw cienkopowłokowych częściowego elementu cienkopowłokowego.

2. Element zmienny optycznie wedł ug zastrz. 1, znamienny tym, ż e częściowy element cienkopowłokowy zawiera warstwę absorpcyjną i warstwę dystansową.

3. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, ż e częściowy element cienkopowłokowy zawiera kilka warstw o różnym współczynniku załamania.

4. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, ż e częściowy element cienkopowłokowy zawiera warstwę odbijającą, korzystnie warstwę metaliczną.

5. Element zmienny optycznie wedł ug zastrz. 1, znamienny tym, ż e częściowy element cienkopowłokowy zawiera strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych.

6. Element zmienny optycznie wedł ug zastrz. 1 albo 5, znamienny tym, ż e częściowy element cienkopowłokowy zawiera częściową warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni częściowego elementu cienkopowłokowego.

7. Element zmienny optycznie wedł ug zastrz. 1 albo 4, albo 6, znamienny tym, ż e częściowy element cienkopowłokowy zawiera częściową strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni częściowego elementu cienkopowłokowego.

8. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że ograniczony przez częściowy element cienkopowłokowy obszar powierzchni jest otoczony przez częściowy element cienkopowłokowy lub otacza częściowy element cienkopowłokowy.

9. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że jedna lub więcej warstw zastępczych ma całkowitą grubość, która odpowiada w przybliżeniu grubości częściowego elementu cienkopowłokowego.

10. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że jedna lub więcej warstw zastępczych zawiera strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych .

11. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że jedna lub więcej warstw zastępczych jest utworzona przez warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, i warstwę nośną.

12. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że jedna lub więcej warstw zastępczych jest utworzona przez pojedynczą warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną.

13. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że jedna lub więcej warstw zastępczych jest utworzona przez jedną lub więcej warstw przezroczystych.

14. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że jedna lub więcej warstw zastępczych zawiera częściową warstwę odbijającą, zwłaszcza warstwę metaliczną, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni jednej lub więcej warstw zastępczych.

15. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że jedna lub więcej warstw zastępczych zawiera częściową strukturę dyfrakcyjną, zwłaszcza do wytwarzania efektów dyfrakcyjnych, która pokrywa jedynie częściowo obszar powierzchni jednej lub więcej warstw zastępczych.

16. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że następną warstwę stanowi pokrywająca całą powierzchnię warstwa przezroczysta, zwłaszcza warstwa lakieru ochronnego.

17. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że następną warstwę stanowi pokrywająca całą powierzchnię warstwa odbijająca, zwłaszcza warstwa metaliczna.

18. Element zmienny optycznie według zastrz. 1, znamienny tym, że następną warstwę stanowi pokrywająca całą powierzchnię warstwa klejąca.

PL 208 667 B1

19. Zastosowanie elementu zmiennego optycznie określonego zastrz. 1 do 18 w produkcie zabezpieczonym.

20. Zastosowanie elementu zmiennego optycznie określonego zastrz. 1 do 18 w folii, zwłaszcza folii do tłoczenia lub folii do laminowania.