PL220942B3 - Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni - Google Patents
Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchniInfo
- Publication number
- PL220942B3 PL220942B3 PL392364A PL39236410A PL220942B3 PL 220942 B3 PL220942 B3 PL 220942B3 PL 392364 A PL392364 A PL 392364A PL 39236410 A PL39236410 A PL 39236410A PL 220942 B3 PL220942 B3 PL 220942B3
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- electrode
- rest
- organic phase
- potential
- time
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims description 11
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 title claims description 7
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims abstract description 20
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 42
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 30
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 24
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- -1 ITO Chemical compound 0.000 claims description 6
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 238000000970 chrono-amperometry Methods 0.000 claims description 5
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M gold monochloride Chemical compound [Cl-].[Au+] FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910004042 HAuCl4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229940075397 calomel Drugs 0.000 claims description 3
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical compound Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 claims description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical group 0.000 claims description 3
- NUUDMTGMAZJCBY-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-3-methyl-2h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCN1CN(C)C=C1 NUUDMTGMAZJCBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- MURCDOXDAHPNRQ-ZJKZPDEISA-N L-685,458 Chemical compound C([C@@H]([C@H](O)C[C@H](C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(N)=O)CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)OC(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 MURCDOXDAHPNRQ-ZJKZPDEISA-N 0.000 claims 1
- 229910001914 chlorine tetroxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 claims 1
- 238000004416 surface enhanced Raman spectroscopy Methods 0.000 description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 16
- 238000000479 surface-enhanced Raman spectrum Methods 0.000 description 15
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 12
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Natural products NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 5
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 5
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 5
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 4
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 241001515965 unidentified phage Species 0.000 description 4
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 3
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 2
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000701959 Escherichia virus Lambda Species 0.000 description 1
- 241001077868 Joanna Species 0.000 description 1
- 229910021135 KPF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001278834 Rosa stellata Species 0.000 description 1
- 235000012253 Rosa stellata subsp abyssa Nutrition 0.000 description 1
- 235000007072 Rosa stellata subsp mirifica Nutrition 0.000 description 1
- 235000001634 Rosa stellata subsp stellata Nutrition 0.000 description 1
- 235000004483 Rosa stellata var. erlansoniae Nutrition 0.000 description 1
- 235000010976 Rosa stellata var. mirifica Nutrition 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- NJPJRMHLERWRNH-UHFFFAOYSA-J [Au](Cl)(Cl)(Cl)Cl.C(CCCCCCC)[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical compound [Au](Cl)(Cl)(Cl)Cl.C(CCCCCCC)[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC NJPJRMHLERWRNH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M tetraoctylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/65—Raman scattering
- G01N21/658—Raman scattering enhancement Raman, e.g. surface plasmons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/66—Electroplating: Baths therefor from melts
- C25D3/665—Electroplating: Baths therefor from melts from ionic liquids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/04—Electroplating with moving electrodes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Immunology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni poprzez reakcję elektroosadzania nanocząstek na powierzchni elektrody, który stanowi ulepszenie sposobu znanego z PL 219821.
Redukcja jonów metalu znajdujących się w roztworze wodnym lub fazie organicznej pod wpływem przyłożonego do elektrody potencjału prowadzi do osadzenia na jej powierzchni nanocząstek niektórych metali np. Au, Ag, Cu, Ni, Pt i Pd. Ich właściwości tj. rozmiar, kształt, ich gęstość i rozłożenie na powierzchni zależy od rodzaju stosowanego podłoża, stężenia soli metalu i rodzaju elektrolitu oraz stosowanej techniki elektrochemicznej, a co za tym idzie od przyłożonego napięcia, czasu eksperymentu, czy przy stosowaniu technik pulsowych ilości pulsów i czasu ich trwania, tworzenia emulsji, stosowania porowatych membran, zjawisk adsorpcji koloidalnych cząstek np. organicznych polimerów lub materiałów tlenkowych (Welch and Compton 2006, Analytical and Bioanalytical Chemistry 384(3): 601-619., Dryfe 2006, Physical Chemistry Chemical Physics 8(16): 1869-1883., Cheng and Schiffrin 1996, Journal of the Chemical Society-Faraday Transactions 92(20): 3865-3871.). Pojedyncze przykłady pokazują, że granica trzech faz elektroda|ciecz|ciecz może być również wykorzystana do generowania pierścieni (Davies, Wilkins et al. 2006, Journal of Electroanalytical Chemistry 586(2): 260-275.) i cząstek metalicznych (Kamińska, Niedziolka-Jonsson et al. 2010 submitted).
W stanie techniki stosowane jest zasadniczo jedno podejście do elektroosadzania nanocząstek na podłożach przewodzących. W podejściu ujawnionym w przykładowych zgłoszeniach wynalazków US 2008081388 (A1), US 7449757, US 20090101996 (A1) oraz zgłoszeniu wynalazku
W02009/137694 (PCT/US2009/043167) sól zawierająca jony metalu jest rozpuszczona w kwaśnym roztworze wodnym, a nanoczątki elektroosadzane są na podłożu zanurzanym do tego roztworu pod wpływem przyłożonego potencjału. Rozmiar elektroosadzanych cząstek oraz ich ilość ściśle zależy od wartości przyłożonego potencjału, ilości i szerokości pulsów, a także stosowanej substancj i dodatkowej przyspieszającej reakcję elektroosadzania metalu.
Patent główny nr PL219821 opisuje otrzymywanie nanocząstek na granicy trzech faz elektroda |faza wodna|faza organiczna, przy czym pokrywana powierzchnia stanowi elektrodę. W podejściu tym faza organiczna jest źródłem jonów metalu, zaś elektrolit zawiera przeciwjony. Metoda ta pozwala otrzymać powierzchnie pokryte w 40% nanocząstkami złota na złączu/styku trzech faz. Dodatkowo, okazało się, że stosując tę metodę można uzyskać o wiele lepszą adhezję nanocząstek do powierzchni elektrody. Sposób opisany w patencie głównym nr PL219821 został również wyjaśniony w artykule naukowym, przedstawionym do publikacji w czasopiśmie („Electrodeposition of welladhered Au nanoparticles at a solid | liquid | liquid three-phase junction Izabela Kamińska, Joanna Niedziółka-Jonsson, Agnieszka Kamińska, Martin Jonsson-Niedziółka, Marcin Pisarek, Robert Hołyst i Marcin Opałło, wysłano do Langmuir 03.09.2010, Manuscript ID: la-2010-03510x).
Metoda opisana w patencie głównym nr PL219821 i wyżej artykule naukowym jest metodą stacjonarną, to znaczy pokrywana powierzchnia (elektroda) pozostaje w spoczynku podczas pokrywania. Nieoczekiwanie okazało się, że dodając do niej etap powolnego wyciągania elektrody, ewentualnie z zastosowaniem odpowiedniej sekwencji przykładanych potencjałów, ich czasu trwania oraz prędkości wynurzania elektrody, można otrzymać pokrytą nanocząstkami powierzchnię o jeszcze lepszych własnościach, a ponadto można kontrolować stopień pokrycia i pokrywać powierzchnie o wiele większe niż we wspomnianej metodzie stacjonarnej.
Pierwsze badania nad wykorzystaniem nanocząstek osadzanych metodą elektrochemiczną jako platformy do badań powierzchniowo wzmocnionego efektu Ramana zostały wykonane dla nanocząstek złota i srebra (Plieth, Dietz, Anders, Sandmann, Meixner, Weber, Kneppe 2005, Surface Science 597(1-3): 119-126.). Opisane nanocząstki zostały osadzone metodą dwu-pulsową z fazy wodnej, na elektrodzie ITO oraz węglu szklistym. Innym przykładem wykorzystania nanocząstek jako platformy SERS jest elektroosadzanie nanocząstek na wcześniej przygotowanych podłożach, np.: zbiorze regularnie rozmieszczonych mikrootworów krzemowych (Luo, Chen, Zhang, He, Zhang, Yuan, Zhang, Lee 2009, Journal of Physical Chemistry C 113(21): 9191-9196) czy heksagonalnym wzorze na elektrodzie platynowej (Geun Hoi Gu, Jung Sang Suh 2010, Journal of Physical Chemistry C 114(16): 7258-7262.). W pierwszym przypadku nanocząstki złota i srebra zostały osadzone z fazy wodnej metodą chronopotencjometryczną dla stałej gęstości prądu. W drugim przypadku nanocząstki srebra zostały osadzone z fazy organicznej (alkohol etylowy) metodą woltametrii zmiennoprądowej.
PL 220 942 B3
Pomimo możliwości stosowania różnorodnych substratów, zwanych też podłożami lub platformami ciągle istnieje problem z otrzymaniem powierzchni dających silne wzmocnienie widma i jego powtarzalność w każdym punkcie powierzchni. Są to niezwykle istotne cechy aktywnych powierzchni do pomiarów SERS, szczególnie w aspekcie wykorzystania tej techniki w badaniach biomedycznych czy konstrukcji biosensorów [Liu, G. L, Lu., Y., Kim, J., Doll, J. C., and Lee, L. P. Adv. Mater. 2005 17 2683; Domke, K. F., Zhang, D., and Pettinger, B. J. Am. Chem. Soc. 2007 129 6708; Gunawidjaja, R., Peleshanko, S., Ko, H., and Tsukruk, V. V. Adv. Mater. 2008 20 1544].
Dzięki temu, że sposób według obecnego wynalazku umożliwia pokrywanie nanocząstkami dużych powierzchni, stało się możliwe otrzymanie platform SERS na tyle dużych, aby w różnych miejscach na tej samej platformie, umieścić dwa lub więcej rodzajów badanych cząsteczek/obiektów (np. biomolekuł, bakteriofagów itp.) i równocześnie zmierzyć ich widma SERS. Do tej pory, pomimo ogromnej liczby doniesień literaturowych i zgłoszeń patentowych, nie był znany sposób, który umożliwiałby taki pomiar, a przy tym gwarantowałby powtarzalność widm SERS przy danej morfologii powierzchni. Znane są powierzchnie do pomiarów SERS oparte na nanocząstkach, nanodrutach czy nanopryzmach, opisane np. w następujących zgłoszeniach wynalazków i patentach: US4005229, WO2009/035479, US20080096005, US20050147963, WO2008/09/4089.
Przedmiotem obecnego wynalazku jest sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni, w którym powierzchnia stanowi elektrodę i jest przynajmniej częściowo zanurzona w roztworze wodnym zawierającym aniony, zaś nanocząstki osadza się na powierzchni pod wpływem przyłożonego potencjału elektrycznego, gdzie powierzchnia będąca elektrodą pracującą i obejmującą tlenek indu domieszkowany tlenkiem cyny, ITO, tlenek cyny domieszkowany fluorem, FTO, węgiel szklisty, GC lub złoto, Au jest jednocześnie przynajmniej częściowo zanurzona w ciekłej fazie organicznej, niemieszającej się z roztworem wodnym, i zawierającej rozpuszczalną w fazie organicznej sól metalu, będącego metalem wybranym z grupy obejmującej Cu, Ag, Au Al i Pt, korzystnie Au, zaś sól metalu stanowi czwartorzędową sól amoniową o stężeniu od 0,1 mM do 100 mM, przy czym roztwór wodny zawiera sól nieorganiczną posiadającą anion wybrany z grupy obejmującej PF6-, CIO4-, BF4-, SCN-, Br-, NO3-, Cl-, F-, korzystnie anion PF6- zaś stężenie soli nieorganicznej w roztworze wodnym wynosi co najmniej 0,05 M, korzystnie od 0,1 M do 1 M zaś sposób osadzania prowadzi się metodą chronoamperometrii obejmującą etap przyłożenia do elektrody pracującej względem elektrody odniesienia potencjału E1 przez czas t1, oraz potencjału E2 przez czas t2, przy czym potencjał E1 wynosi od -30 mV do +50 mV, korzystniej od -30 mV do 0 mV, a najkorzystniej 0 mV zaś potencjał E2 wynosi od -200 mV do -100 mV, korzystniej od -200 mV do -150 mV, a najkorzystniej 200 mV, według patentu PAT.219826, który charakteryzuje się tym, że ciekła faza organiczna zawiera rozpuszczalny w fazie organicznej kwas chlorozłotowy HAuCl4 lub sól metalu, korzystnie alkiloamoniową, najkorzystniej TOAAuCl4, gdzie stężenie rozpuszczalnej w fazie organicznej soli metalu wynosi od 0,1 mM do 100 mM, korzystnie około 1 mM, przy czym sposób obejmuje etap przesuwania elektrody względem granicy faz roztworu wodnego i ciekłej fazy organicznej.
Korzystnie, przesuwanie polega na wyciąganiu elektrody z roztworu.
W takim przypadku, korzystnie prędkość wyciągania wynosi od 0,1 mm/min do 2,0 mm/min, korzystnie około 0,7 mm/min.
Zgodnie z wynalazkiem, wyciąganie może odbywać się za pomocą urządzenia typu dip-coater.
Korzystnie faza organiczna jest fazą wybraną spośród grupy obejmującej: toluen, ciecz jonowa bis(trifluorometylosulfonylo)imid 1-decylo-3-metyloimidazolu.
Korzystnie, dodatkowo stosuje się elektrodę odniesienia, korzystnie w postaci elektrody Ag|AgCI, kalomelowej lub drutu Ag, i przeciwelektrodę, korzystnie platynową lub złotą.
W jeszcze bardziej korzystnym przykładzie realizacji czas t1 wynosi od 50 ms do 150 ms, korzystniej od 50 ms do 75 ms, a najkorzystniej 50 ms.
Korzystnie, sposób według wynalazku obejmuje etap przyłożenia do elektrody pracującej względem elektrody odniesienia potencjału E2 przez czas t2+t3, przy czym przez czas t2 elektroda pracująca pozostaje w spoczynku, zaś przez czas t3 elektroda pracująca jest w ruchu, a potencjał E2 wynosi od -200 mV do -100 mV, korzystniej od -200 mV do -150 mV, a najkorzystniej -200 mV.
W takim przypadku, czas t2 wynosi od 100 s do 10000 s, korzystniej około 1000 s.
W bardziej korzystnym przykładzie realizacji czas t3 wynosi od 10 s do 400 s, korzystnie 60 s lub 100 s.
PL 220 942 B3
Korzystnie, sekwencja przykładanych potencjałów jest jedną z następujących sekwencji:
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 100 s (spoczynek), E2 dla t3 = 360 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 100 s (spoczynek), E2 dla t3 = 100 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 1000 s (spoczynek), E2 dla t3 = 240 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 500 s (spoczynek), E2 dla t3 = 60 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 700 s (spoczynek), E2 dla t3 = 60 s (wyciąganie).
Korzystnie, sposób według wynalazku dodatkowo obejmuje etap płukania powierzchni w wodzie lub etanolu.
Patent główny nr PL219821 przedstawia wytwarzanie stabilnych i odpornych na działanie czynników mechanicznych nanocząstek metali. Metoda według powyższego wynalazku pozwala otrzymywać nanocząstki o powtarzalnych wielkościach i stopniu pokrycia elektrody. Dodatkowo nie jest konieczna wstępna modyfikacja podłoża w celu zapewnienia lepszej adhezji nanocząstek, a otrzymane nanocząstki nie wymagają stabilizacji warstwami organicznymi.
Obecny wynalazek ujawnia dynamiczną metodę osadzania nanocząstek. Nowa metoda polega na zastosowaniu sekwencji ruchów: elektroda będąca w spoczynku, na przemian z powolnym jej wyciąganiem przy ściśle zdefiniowanej prędkości wynurzania. W każdym z tych etapów przykładane są odpowiednie napięcia, przez określony czas.
Dzięki zastosowaniu odpowiedniej - przedstawionej wyżej - sekwencji przykładanych potencjałów, ich czasu trwania oraz prędkości wynurzania elektrody, można otrzymać pokrytą nanocząstkami powierzchnię o jeszcze lepszych własnościach, a ponadto można kontrolować stopień pokrycia i pokrywać powierzchnie o wiele większe niż we wspomnianej metodzie stacjonarnej.
Elektroosadzanie nanocząstek złota na transparentnej dla światła elektrodzie ITO okazało się szczególnie przydatne w badaniu powierzchniowo wzmocnionego efektu Ramana tzw. SERS.
Obecny wynalazek zostanie bardziej szczegółowo przedstawiony w przykładach wykonania z odniesieniem do załączonego rysunku, na którym:
fig. 1 przedstawia schemat mikroreaktora powstającego na złączu trzech faz elektroda| faza wodna|faza organiczna w układzie dynamicznym;
fig. 2 przedstawia zdjęcie skaningowej mikroskopii elektronowej powierzchni ITO z elektroosadzonymi nanocząstkami złota według wynalazku z toluenowego roztworu TOAAuCI4;
fig. 3 przedstawia widma SERS zieleni malachitowej zaadsorbowanej z roztworu 10-7 M na powierzchni do pomiarów SERS według wynalazku i rejestrowane w różnych jej punktach (b,c,d) oraz samej platformy a;
fig. 4 widmo SERS aminokwasu - glicyny zaadsorbowanej z roztworu 10-3 M na powierzchni do pomiarów SERS według wynalazku, zaś fig. 5 przedstawia widmo SERS bakteriofaga λ zaadsorbowanego z roztworu buforowego (TRIS) o stężeniu 10-5 M na powierzchni do pomiarów SERS według wynalazku.
Poniżej podany zostanie szczegółowy opis zgodnego z wynalazkiem sposobu osadzania nanocząstek na powierzchni, na przykładzie osadzania nanocząstek złota.
Odczynniki i stosowane materiały.
Odczynniki: sole nieorganiczne, toluen, kwas chlorozłotowy, bromek tetraoktyloamoniowy oraz materiały elektrodowe: ITO (tlenek indu domieszkowany tlenkiem cyny), FTO (tlenek cyny domieszkowany fluorem), GC (węgiel szklisty), Au są handlowo dostępne.
Jak już wspomniano, niniejszy wynalazek polega na wykorzystaniu złącza trzech faz: elektrody|fazy organicznej|fazy wodnej do elektroosadzania nanocząstek metali. Źródłem jonów złota jest faza organiczna. W korzystnym przykładzie realizacji wynalazku, nanocząstki złota otrzymano wykorzystując technikę dwupulsowej chronoamperometrii (puls pierwszy zarodkowanie, puls drugi wzrost nanocząstki metalu). Jest to jednoetapowa metoda otrzymywania nanocząstek złota bezpośrednio i trwale osadzonych na podłożu elektrody.
Zgodnie z wynalazkiem, sposób polega na przygotowaniu mikroreaktora poprzez wytworzenie złącza trzech faz, w którym faza 1 to elektroda, faza 2 to faza organiczna, a faza 3 to faza wodna. Złącze trzech faz powstaje poprzez zanurzenie elektrody do naczynia zawierającego dwie niemieszające się fazy: wodną i organiczną (fig. 1). Szerokość tego złącza waha się od kilku nanometrów do kilkunastu mikrometrów. Faza organiczna zawiera sól organiczną metalu z grup IB (Cu, Ag, Au) lub IIIA (Al) lub VIII (Pt), korzystnie czwartorzędowa sól amoniowa, a szczególnie korzystnie alkiloamoniowa o stężeniu 1 mM. Faza wodna zawiera sól nieorganiczną, korzystnie z jednym z jednowartoPL 220 942 B3 ściowych anionów o różnej hydrofobowości tj. PF6-, CIO4-, BF4-, SCN-, Br-, NO3-, CI-, F- o stężeniu 0.1 M, przy czym najkorzystniej jest stosować PF6-. Przeniesienie elektronu pomiędzy elektrodą, a jonem chlorozłotowym prowadzi do elektroosadzania nanocząstek złota. Elektroobojętność układu zachowana jest dzięki przeniesieniu jonu przez granicę faz ciecz|ciecz.
Do elektroosadzania nanocząstek złota używa się dowolne, stosowane w stanie techniki potencjostaty, elektrody referencyjne: Ag|AgCI, kalomelowe, drut Ag oraz przeciwelektrody: platynowe, złote. Osadzanie przeprowadza się w typowym naczynku elektrochemicznym, gdzie elektrody referencyjna, przeciwelektroda oraz elektroda pracująca zanurzone są do roztworu wodnego, dodatkowo elektroda pracująca zanurzona jest do fazy organicznej tak jak to pokazano na fig. 1 i wynurzana za pomocą urządzenia typu dip-coater.
Do elektroosadzania nanocząstek złota według wynalazku użyto chronoamperometrii przy dwóch potencjałach E1 i t1 (zarodkowanie) oraz E2 i t2+t3 (wzrost). Potencjał E1 zmienia się w granicach od +50 mV do -30 mV, korzystnie proces zarodkowania przypada przy E1 = -30 mV, a najkorzystniej przy E1 = 0 mV względem elektrody referencyjnej - drut Ag. Czas procesu zarodkowania zmienia się w granicach od 50 ms do 150 ms, korzystnie przypada dla t1 = 75 ms, a najkorzystniej dla t1=50 ms. Proces wzrostu nanocząstek złota prowadzi się przy potencjale E2, który zmieniano w granicach od -100 mV do -200 mV, korzystnie proces wzrostu przypada przy potencjale E2 = -150 mV, a najkorzystniej przy E2 = -200 mV. Etap ten obejmuje wzrost nanocząstek na powierzchni elektrody pracującej oraz proces wyciągania elektrody. W takim przypadku, korzystnie czas t2+t3 wynosi od 200 s do 760 s, korzystniej około 760 s, przy czym t2 = 700 s przypada na etap wzrostu w metodzie stacjonarnej, a t3 = 60 s na etap wzrostu w metodzie dynamicznej. W przypadku, gdy t2+t3 wynosi 200 s, t2 = 100 s przypada na etap wzrostu w metodzie stacjonarnej, a t3 = 100 s na etap wzrostu w metodzie dynamicznej. Po zakończonym procesie elektroosadzania elektrody z nanocząstkami złota poddaje się procesowi płukania w wodzie, a następnie w etanolu.
Stosując metody elektroosadzania nanocząstek złota według wynalazku otrzymuje się nanocząstki charakteryzujące się tym, że ich średnica może wynosić od 50 nm do 200 nm. Kształt nanocząstek ściśle zależy od ich wielkości. Zmienia się od kulistego dla cząstek ok. 50 nm, poprzez mniejsze (100 nm-150 nm) i większe (do 200 nm) struktury kształtem przypominające róże pustyni o ostrych krawędziach. Stopień pokrycia elektrody poprzez nanocząstki może wynosić od 25 do 35%. Stosując metodę dynamicznego elektroosadzania nanocząstek na granicy trzech faz pokryć można dowolnie dużą powierzchnię elektrody.
W celu sprawdzenia przyczepności nanocząstek złota do podłoża elektrody zanurzane były naprzemiennie do wody i etanolu, a następnie pozostawione na działanie ultradźwięków przez 30 min.
Metoda pomiaru widm SERS
Widma Ramana były rejestrowane przy pomocy konfokalnego mikrospektrometru ramanowskiego o wysokiej zdolności rozdzielczej, typu InVia (Ranishaw). Długość fali światła wzbudzającego użytego w pomiarach wynosiła 785 nm. Analiza energii wiązki rozproszonej odbywa się w spektrometrze przy pomocy siatki dyfrakcyjnej, a intensywność dla poszczególnych energii rejestrowana jest w czułym detektorze CCD. Powiększenie obiektywu ogniskującego promień lasera na próbce wynosiło
x. Przestrzenna zdolność rozdzielcza była lepsza niż 1 μm, spektralna zdolność rozdzielcza około cm-1. Moc lasera stosowanego do pomiarów wynosiła od 1 mW do 3 mW dla pomiarów SERS i 150 mW w przypadku rejestracji normalnych widm Ramana.
Powtarzalność w obrębie jednej platformy - oznacza powtarzalność widm SERS rejestrowanych na tej platformie w różnych jej punktach (zgodność pod względem intensywności i położenia pasm widmach SERS rejestrowanych w tych samych warunkach pomiaru). Parametr ten został wyznaczony w następujący sposób: wyznaczono całki z pola różnicy pomiędzy dwoma porównywanymi widmami zarejestrowanymi na tej samej platformie, ale w różnych jej punktach. Za powtarzalne widma (100% zgodność) uznano te, dla których całki z pola różnicy nie różnią się o więcej niż 3%.
Powtarzalność w obrębie różnych platform - oznacza powtarzalność widm SERS rejestrowanych na różnych platformach (zgodność pod względem intensywności i położenia pasm w widmach SERS rejestrowanych w tych samych warunkach pomiaru). Parametr ten został wyznaczony w następujący sposób: wyznaczono całki z pola różnicy pomiędzy dwoma porównywanymi widmami zarejestrowanymi na różnych platformach. Za powtarzalne widma (100% zgodność) uznano te, dla których całki z pola różnicy nie różnią się o więcej niż 3%.
PL 220 942 B3
Korzystne przykłady wykonania wynalazku
P r z y k ł a d 1
Pracującą elektrodę ITO umieszczono w naczynku elektrochemicznym, tak aby pozostawała w kontakcie z fazą wodną i z fazą organiczną. Faza organiczna zawierała 1 mM roztwór tetraoktyloamoniowego czterochlorku złota (TOAAuCI4) w toluenie, zaś faza wodna 1M KPF6. Prowadzono chronoamperometrię przykładając potencjał E1 = 0 mV (zarodkowanie) w czasie t1 = 50 ms i E2 = -200 mV (wzrost) w czasie t2+t3=760 s. Etap wzrostu składa się z etapu stacjonarnego, który trwa t2 = 700 s oraz etapu dynamicznego, który trwa t3 = 60 s. Szybkość wyciągania elektrody wynosiła w tym przypadku 0,7 mm/min (fig. 1). Elektroosadzane nanocząstki złota według przykładu 1 przedstawione są na zdjęciu SEM (fig. 2). Analiza zdjęcia pozwala określić, że średnia wielkość cząstek wynosi 97 nm, 2 stopień pokrycia powierzchni 28%, a ich gęstość wynosi 2,9 cząstkom . Umieszczenie elektrody w wodzie i poddanie działaniu ultradźwiękom nie wpływa na stopień pokrycia elektrody przez nanocząstki.
P r z y k ł a d 2
Postępowano analogicznie jak w przykładzie 1 zmieniając jedynie skład fazy organicznej na 1mM roztwór kwasu chlorozłotowego (HAuCl4) w cieczy jonowej bis(trifluorometylosulfonylo)imid-1-decylo-3-metyloimidazolu.
P r z y k ł a d 3 - przygotowanie powierzchni do pomiarów SERS
Metoda postępowania identyczna jak w przykładzie 1. Otrzymaną tym sposobem płytkę oczyszczono przemywając wodą i etanolem. Tak przygotowaną powierzchnię umieszczano na 24 godziny w roztworze analitu o określonym stężeniu. Po wyjęciu z roztworu powierzchnia z zaadsorbowanym analitem gotowa była do pomiarów SERS.
P r z y k ł a d 4
Powierzchnię SERS według przykładów 1 i 3 zanurzono do roztworu zieleni malachitowej o stężeniu 10-7 M. Następnie platformę wysuszono i zarejestrowano 30 widm ramanowskich z różnych punktów powierzchni. Fig. 3 przedstawia trzy wybrane losowo widma zaadsorbowanej na powierzchni SERS kwasu zieleni malachitowej (b,c,d) oraz widmo samej platformy (a). Widma rejestrowano w czasie 10 s, stosując linię wzbudzającą 785 nm o mocy 2,5 mW.
W korzystnym przykładzie, widma zarejestrowane w różnych punktach platformy są identyczne.
Pojawiają się w nich silne pasma przy częstościach: 421, 441, 785, 919, 1177, 1365, 1586 i 1618 cm-1, których względne intensywności w każdym z zarejestrowanych widm są praktycznie takie same.
Następnie oszacowano współczynnik wzmocnienia EF dla zaadsorbowanego na powierzchni SERS zieleni malachitowej używając wyrażenia:
EF = (ISERS/IRaman) (NSERS/NRaman) gdzie:
ISERS i IRaman są zmierzonymi intensywnościami integralnymi pasm w widmach molekuł zieleni malachitowej zaadsorbowanej na powierzchni SERS (ISERS) oraz w czystym roztworze zieleni malachitowej (IRaman);
NSERS i NRaman określają liczbę zaadsorbowanych molekuł zieleni malachitowej „oświetlonych” światłem lasera w celu otrzymania odpowiednio widma SERS i widma Ramana.
<V =V — N NR 'in A gdzie: NA - liczba Avogadro, 6,02 x 1023, P - gęstość badanego analitu, Virr - objętość wzbudzoną światłem lasera, M - masa molowa badanego analitu.
ISERS i IRaman były mierzone dla pasma o częstości 1177 cm-1. NSERS zostało oszacowane na
2 podstawie powierzchniowego pokrycia zieleni malachitowej (1,6 x 1014 molekuł/cm2) [Kikteva, T.; Star, D.; Zhao, Z.; Baisley, T. L.; Leach, G. W., The Journal of Physical Chemistry B 1999]. Natomiast NRaman oznacza liczbę molekuł zieleni malachitowej w badanym roztworze obliczona według definicji podanych wyżej.
W korzystnym przykładzie realizacji powierzchni SERS według wynalazku oszacowany współczynnik wzmocnienia (EF) dla zieleni malachitowej wynosi 2,6 x 10-6.
PL 220 942 B3
P r z y k ł a d 5 Widma SERS aminokwasu glicyny
W kolejnym korzystnym przykładzie realizacji wynalazku sprawdzono skuteczność otrzymanych powierzchni SERS do badań biologicznych. Na powierzchni do pomiarów SERS zaadsorbowano mole-3 kuły glicyny z roztworów o stężeniu 10-3 M (fig. 4). Długość światła wzbudzającego użytego w pomiarach wynosiła 785 nm, moc lasera na próbce wynosiła 3 mW a czas akumulacji widma wynosił około 50 s.
Korzystnie, powierzchnia do pomiarów SERS daje silne wzmocnienie widma SERS molekuł glicyny zaadsorbowanych na z ich wodnego roztworu o stężeniu nawet 10-6 M.
P r z y k ł a d 6 Widma SERS bakteriofagów
W innym korzystnym przykładzie realizacji wykazano możliwości użycia uzyskanej platformy do badań całych organizmów jak wirusy czy bakteriofagi. Na platformę SERS według przykładu 1 nanie-5 siono 2 μΐ bakteriofagów λ z roztworu w buforowego o stężeniu 10- M i po wysuszeniu powierzchni zarejestrowano widma SERS (fig. 5). Widma rejestrowano stosując linię wzbudzającą o długości 785 nm, moc lasera wynosiła 10 mW, a czas akumulacji widma 6 minut (fig. 5). Otrzymane wyniki wskazują, że uzyskana według wynalazku powierzchnia SERS jest użyteczna do badań biologicznych i medycznych.
Claims (12)
1. Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni, w którym powierzchnia stanowi elektrodę i jest przynajmniej częściowo zanurzona w roztworze wodnym zawierającym aniony, zaś nanocząstki osadza się na powierzchni pod wpływem przyłożonego potencjału elektrycznego, gdzie powierzchnia będąca elektrodą pracującą i obejmującą tlenek indu domieszkowany tlenkiem cyny, ITO, tlenek cyny domieszkowany fluorem, FTO, węgiel szklisty, GC lub złoto, Au jest jednocześnie przynajmniej częściowo zanurzona w ciekłej fazie organicznej, niemieszającej się z roztworem wodnym, i zawierającej rozpuszczalną w fazie organicznej sól metalu, będącego metalem wybranym z grupy obejmującej Cu, Ag, Au Al i Pt, korzystnie Au, zaś sól metalu stanowi czwartorzędową sól amoniową o stężeniu od 0,1 mM do 100 mM, przy czym roztwór wodny zawiera sól nieorganiczną posiadającą anion wybrany z grupy obejmującej PF6-, CIO4-, BF4-, SCN-, Br-, NO3-, Cl-, F-, korzystnie anion PF6- zaś stężenie soli nieorganicznej w roztworze wodnym wynosi co najmniej 0,05 M, korzystnie od 0,1 M do 1 M zaś sposób osadzania prowadzi się metodą chronoamperometrii obejmującą etap przyłożenia do elektrody pracującej względem elektrody odniesienia potencjału E1 przez czas t1, oraz potencjału E2 przez czas t2, przy czym potencjał E1 wynosi od -30 mV do +50 mV, korzystniej od - 30 mV do 0 mV, a najkorzystniej 0 mV, zaś potencjał E2 wynosi od -200 mV do -100 mV, korzystniej od -200 mV do -150 mV, a najkorzystniej -200 mV, według patentu nr PL219821, znamienny tym, że ciekła faza organiczna zawiera rozpuszczalny w fazie organicznej kwas chlorozłotowy HAuCl4 lub sól metalu, korzystnie sól alkiloamoniową, najkorzystniej TOAAuCl4, gdzie stężenie rozpuszczalnej w fazie organicznej soli metalu wynosi od 0,1 mM do 100 mM, korzystnie około 1 mM, przy czym sposób obejmuje etap przesuwania elektrody względem granicy faz roztworu wodnego i ciekłej fazy organicznej.
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że przesuwanie polega na wyciąganiu elektrody z roztworu.
3. Sposób według zastrz. 2, znamienny tym, że prędkość wyciągania wynosi od 0,1 mm/min do 2,0 mm/min, korzystnie około 0,7 mm/min.
4. Sposób według zastrz. 2 albo 3, znamienny tym, że wyciąganie odbywa się za pomocą urządzenia typu dip-coater.
5. Sposób według dowolnego z poprzedzających zastrzeżeń od 1 do 4, znamienny tym, że faza organiczna jest fazą wybraną spośród grupy obejmującej: toluen, ciecz jonowa bis(trifluorometylosulfonylo)mid 1-decylo-3-metyloimidazolu.
6. Sposób według dowolnego z poprzedzających zastrzeżeń od 1 do 5, znamienny tym, że dodatkowo stosuje się elektrodę odniesienia, korzystnie w postaci elektrody Ag|AgCI, kalomelowej lub drutu Ag, i przeciwelektrodę, korzystnie platynową lub złotą.
7. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że czas t1 wynosi od 50 ms do 150 ms, korzystniej od 50 ms do 75 ms, a najkorzystniej 50 ms.
8. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że obejmuje etap przyłożenia do elektrody pracującej względem elektrody odniesienia potencjału E2 przez czas t2+t3, przy czym przez czas t2 elektroda
PL 220 942 B3 pracująca pozostaje w spoczynku, zaś przez czas t3 elektroda pracująca jest w ruchu, a potencjał E2 wynosi od -200 mV do -100 mV, korzystniej od -200 mV do -150 mV, a najkorzystniej -200 mV.
9. Sposób według zastrz. 8, znamienny tym, że czas t2 wynosi od 100 s do 10000 s, korzystniej około 1000 s.
10. Sposób według zastrz. 8, znamienny tym, że czas t3 wynosi od 10 s do 400 s, korzystnie 60 s lub 100 s.
11. Sposób według dowolnego z zastrzeżeń od 8 do 10, znamienny tym, że sekwencja przykładanych potencjałów jest jedną z następujących sekwencji:
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 100 s (spoczynek), E2 dla t3 = 360 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 100 s (spoczynek), E2 dla t3 = 100 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = 1000 s (spoczynek), E2 dla t3 = 240 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2 = S00 s (spoczynek), E2 dla t3 = 60 s (wyciąganie);
E1 dla t1 = 50 ms (spoczynek), E2 dla t2= 700 s (spoczynek), E2 dla t3 = 60 s (wyciąganie).
12. Sposób według dowolnego z poprzedzających zastrzeżeń od 1 do 11, znamienny tym, że dodatkowo obejmuje etap płukania powierzchni w wodzie lub etanolu.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL392364A PL220942B3 (pl) | 2010-09-14 | 2010-09-14 | Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni |
| CH15152011A CH703728B1 (de) | 2010-09-14 | 2011-09-14 | Verfahren zur Abscheidung von Metall-Nanopartikeln auf einer Oberfläche und nach dem Verfahren hergestellte Oberfläche sowie deren Anwendung. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL392364A PL220942B3 (pl) | 2010-09-14 | 2010-09-14 | Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL392364A3 PL392364A3 (pl) | 2012-03-26 |
| PL220942B3 true PL220942B3 (pl) | 2016-01-29 |
Family
ID=45819315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL392364A PL220942B3 (pl) | 2010-09-14 | 2010-09-14 | Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH703728B1 (pl) |
| PL (1) | PL220942B3 (pl) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103409734A (zh) * | 2013-07-25 | 2013-11-27 | 苏州大学 | 一种用作sers基底的贵金属纳米粒子组装体的制备方法及所制得产品在检测中的应用 |
| PL238322B1 (pl) * | 2017-03-31 | 2021-08-09 | Inst Chemii Fizycznej Polskiej Akademii Nauk | Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni w procesie elektrochemicznym, powierzchnia otrzymana tym sposobem i jej zastosowanie |
| CN107262168B (zh) * | 2017-06-12 | 2019-04-30 | 重庆大学 | 一种pdms自吸进样的微流控sers芯片及其制备方法 |
| CN113295667B (zh) * | 2021-04-30 | 2022-12-06 | 华东师范大学 | 一种同时检测Cu+和Cu2+的表面增强拉曼光谱探针及其制备方法和应用 |
| CN113522321B (zh) * | 2021-07-07 | 2022-07-01 | 浙江大学 | 一种表面/体相结可见光催化剂及其制备方法 |
-
2010
- 2010-09-14 PL PL392364A patent/PL220942B3/pl unknown
-
2011
- 2011-09-14 CH CH15152011A patent/CH703728B1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH703728B1 (de) | 2014-01-15 |
| PL392364A3 (pl) | 2012-03-26 |
| CH703728A2 (de) | 2012-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Honesty et al. | Shell‐isolated nanoparticle enhanced Raman spectroscopy (SHINERS) investigation of benzotriazole film formation on Cu (100), Cu (111), and Cu (poly) | |
| Kudelski et al. | Surface‐enhanced Raman scattering investigations on silver nanoparticles deposited on alumina and titania nanotubes: influence of the substrate material on surface‐enhanced Raman scattering activity of Ag nanoparticles | |
| PL220942B3 (pl) | Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni | |
| Bian et al. | Reproducible and recyclable SERS substrates: Flower-like Ag structures with concave surfaces formed by electrodeposition | |
| PL219706B1 (pl) | Platforma do pomiarów powierzchniowo wzmocnionego efektu Ramana | |
| PL238322B1 (pl) | Sposób osadzania nanocząstek metalu na powierzchni w procesie elektrochemicznym, powierzchnia otrzymana tym sposobem i jej zastosowanie | |
| Bankowska et al. | Au–Cu alloyed plasmonic layer on nanostructured GaN for SERS application | |
| Nasretdinova et al. | Electrochemical mediated synthesis of silver nanoparticles in solution | |
| Kaminska et al. | Electrodeposition of well-adhered multifarious Au particles at a solid| toluene| aqueous electrolyte three-phase junction | |
| Vezvaie et al. | Electrochemical SERS study of a biomimetic membrane supported at a nanocavity patterned Ag electrode | |
| Liu et al. | Efficient SERS substrates made by electroless silver deposition into patterned silicon structures | |
| Chen et al. | Innovative fabrication of a Au nanoparticle-decorated SiO 2 mask and its activity on surface-enhanced Raman scattering | |
| Cho et al. | Electrochemically fabricated gold dendrites with high-index facets for use as surface-enhanced Raman-scattering-active substrates | |
| US10048211B2 (en) | Analytic device including nanostructures | |
| Shamsipur et al. | Impedimetric sensing of cesium ion based on a thiacalix [4] arene self-assembled gold electrode | |
| He et al. | Chemical deposition of Ag nanostructures on polypyrrole films as active SERS substrates | |
| Boccorh et al. | A universal polymer shell-isolated nanoparticle (SHIN) design for single particle spectro-electrochemical SERS sensing using different core shapes | |
| Ou et al. | Silver overlayer-modified surface-enhanced Raman scattering-active gold substrates for potential applications in trace detection of biochemical species | |
| Wu et al. | Surface sol–gel growth of ultrathin SiO2 films on roughened Au electrodes: Extending borrowed SERS to a SERS inactive material | |
| Wang et al. | Facile in situ characterization of gold nanoparticles on electrode surfaces by electrochemical techniques: average size, number density and morphology determination | |
| Chang et al. | Surface-enhanced Raman scattering-active silver nanostructures with two domains | |
| NL2009442C2 (en) | Method for depositing metal nanoparticles on a surface, surface fabricated with the method, and the application thereof. | |
| Cheng et al. | Formation and characterization of heteropolyacid/polycation multilayer films on gold electrode | |
| Krajczewski et al. | Tape of the truth: Ta2O5 nanopore array formed under broad potential range and SERS potential after silver sputtering | |
| Chang et al. | Surface-enhanced Raman scattering-active gold nanoparticles modified with a monolayer of silver film |