PL222477B1 - Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni - Google Patents

Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni

Info

Publication number
PL222477B1
PL222477B1 PL407070A PL40707014A PL222477B1 PL 222477 B1 PL222477 B1 PL 222477B1 PL 407070 A PL407070 A PL 407070A PL 40707014 A PL40707014 A PL 40707014A PL 222477 B1 PL222477 B1 PL 222477B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
electrodes
surface treatment
distance
adjustable distance
adjustable
Prior art date
Application number
PL407070A
Other languages
English (en)
Other versions
PL407070A1 (pl
Inventor
Jarosław Diatczyk
Joanna Pawłat
Henryka Danuta Stryczewska
Piotr Krupski
Piotr Terebun
Michał Kwiatkowski
Original Assignee
Lubelska Polt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lubelska Polt filed Critical Lubelska Polt
Priority to PL407070A priority Critical patent/PL222477B1/pl
Publication of PL407070A1 publication Critical patent/PL407070A1/pl
Publication of PL222477B1 publication Critical patent/PL222477B1/pl

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

(21) Numer zgłoszenia: 407070 (51) Int.Cl.
H05H 1/24 (2006.01) B01J 19/08 (2006.01)
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 04.02.2014
Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni (73) Uprawniony z patentu:
POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL (43) Zgłoszenie ogłoszono:
24.11.2014 BUP 24/14 (45) O udzieleniu patentu ogłoszono:
29.07.2016 WUP 07/16 (72) Twórca(y) wynalazku:
JAROSŁAW DIATCZYK, Lublin, PL JOANNA PAWŁAT, Zemborzyce Podleśne, PL HENRYKA DANUTA STRYCZEWSKA,
Lublin, PL
PIOTR KRUPSKI, Świerże, PL
PIOTR TEREBUN, Lublin, PL
MICHAŁ KWIATKOWSKI, Sosnowica Dwór, PL (74) Pełnomocnik:
rzecz. pat. Tomasz Milczek
PL 222 477 B1
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni za pomocą nierównowagowej plazmy niskotemperaturowej generowanej przy ciśnieniu atmosferycznym w ślizgającym się wyładowaniu łukowym.
Dotychczas znane i stosowane są rozwiązania w postaci reaktorów niskotemperaturowej plazmy nierównowagowej wytwarzanej z wykorzystaniem warstwy dielektrycznej opisanej przez Massines F. w 2005 roku w artykule Glow and Townsend dielectric barrier discharge in various atmosphere opublikowanym w czasopiśmie Plasma Physics and Controlled Fusion numer 47 strony B577-B588 lub generowanej w wyładowaniach koronowych tak jak to przedstawił w 2006 roku Coulombe S. w artykule Miniature atmospheric pressure glow discharge torch for local biomedical applications opublikowanym w czasopiśmie Pure and Applied Chemistry numer 78 na stronach 1147-1156. Takie rozwiązania wymagają zazwyczaj zastosowania wysokich napięć doprowadzonych do urządzenia oraz elektrody uziemionej najczęściej umieszczonej pod obrabianym materiałem, co sprawia, że parametry generowanej plazmy w dużym stopniu zależą od rodzaju i cech fizykochemicznych materiału poddawanego obróbce. Znane są również reaktory plazmy nietermicznej generowanej w ślizgającym się wyładowaniu łukowym.
Obecnie stosowane są trzy konstrukcje reaktora ze ślizgającym się wyładowaniem łukowym: GlidArc typu I, GlidArc typu II oraz GlidArc typu Tornado opisane przez Lesueura H., Czernichowskiego A. oraz Chapelle'a J. we Francji w zgłoszeniu patentowym Apparatus for generation of low temperature plasmas by the formation of gliding arc discharges. France, zarejestrowanym w 1990 roku pod numerem 8814932. W prezentowanych reaktorach zastosowano elektrody robocze w kształcie noży, a ich głównym zastosowaniem była obróbka zanieczyszczonych gazów. Proces przebiegał w temperaturze kilkuset stopni Celsjusza. Reaktory ze ślizgającym się wyładowaniem łukowym dotychczas zas ilane były głownie za pomocą układów transformatorowych opisanych w patencie polskim nr 180063 z roku 2000. Wadą takich rozwiązań jest duży rozmiar i ciężar układu zasilania.
Istotą reaktora mikroplazmowego z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni posiadającego układ zasilania, dwie elektrody robocze oraz dyszę jest to, że składa się z obudowy w kształcie pionowego walca z podstawą prostokątną, w której umieszczone są uchwyty, w których zamocowane są wymienne metalowe lub grafitowe elektrody cylindryczne, przy czym odległość między uchwytami regulowana jest za pomocą przekładni, zaś w podstawie obudowy centralnie zamontowana jest dysza o regulowanej średnicy i wysokości przez którą podawany jest gaz proces owy, natomiast elektrody robocze zasilane są z generatora prądu zmiennego.
Korzystnym skutkiem wynalazku jest realizacja zapłonu wyładowania w gazach procesowych o różnym składzie chemicznym bez konieczności zmiany kształtu elektrod i/lub parametrów układu zasilania.
Wynalazek został przedstawiony w przykładzie wykonania na rysunku w przekroju poprzecznym.
Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni składa się z obudowy 1 w kształcie pionowego walca z prostokątną podstawą 2, w której umieszczone są uchwyty 3, w których zamocowane są wymienne metalowe lub grafitowe elektrody 4 cylindryczne, przy czym odległość między uchwytami 3 regulowana jest za pomocą przekładni 5. W podstawie 2 obudowy 1 centralnie zamontowana jest dysza 6 o regulowanej średnicy i wysokości przez którą podawany jest gaz procesowy, natomiast elektrody robocze 4 zasilane są z generatora prądu zmiennego 7.
Przez dyszę 6 podawany jest gaz procesowy. Z generatora 7 zasilane są metalowe elektrody 4 zamocowane w uchwytach 3. Jeżeli po załączeniu napięcia zasilającego reaktor plazmowy nie następuje zapłon wyładowania, za pomocą przekładni 5 zmniejszany jest odstęp między uchwytami 3, co skutkuje zmniejszeniem odstępu między elektrodami 4 i doprowadza do zapłonu wyładowania.

Claims (1)

  1. Zastrzeżenie patentowe
    Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni posiadający układ zasilania, dwie elektrody robocze oraz dyszę, znamienny tym, że składa się z obudowy (1) w kształcie pionowego walca z prostokątną podstawą (2), w której umieszczone są uchwyty (3), w których zamocowane są wymienne metalowe lub grafitowe elektrody (4) cylindryczne, przy czym odległość między uchwytami (3) regulowana jest za pomocą przekładni (5), zaś w podst aPL 222 477 B1 wie (2) obudowy (1) centralnie zamontowana jest dysza (6) o regulowanej średnicy i wysokości przez którą podawany jest gaz procesowy, natomiast elektrody robocze (4) zasilane są z generatora prądu zmiennego (7).
PL407070A 2014-02-04 2014-02-04 Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni PL222477B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL407070A PL222477B1 (pl) 2014-02-04 2014-02-04 Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL407070A PL222477B1 (pl) 2014-02-04 2014-02-04 Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL407070A1 PL407070A1 (pl) 2014-11-24
PL222477B1 true PL222477B1 (pl) 2016-07-29

Family

ID=51902561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL407070A PL222477B1 (pl) 2014-02-04 2014-02-04 Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL222477B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL407070A1 (pl) 2014-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7615933B2 (en) Pulsed dielectric barrier discharge
EP2721628B1 (en) System and method to generate a self-confined high density air plasma
JP5913745B2 (ja) 粉末プラズマ処理装置
Tochikubo et al. Review of numerical simulation of atmospheric-pressure non-equilibrium plasmas: streamer discharges and glow discharges
Bruggeman et al. DC-excited discharges in vapour bubbles in capillaries
KR20150002350A (ko) 전기폭발에 의한 금속 나노분말의 제조방법 및 제조장치
KR102029474B1 (ko) 전기폭발에 의한 금속 나노분말의 제조방법 및 제조장치
CN115605972A (zh) 一种等离子体发生器
Jiang et al. Comparison of AC and nanosecond-pulsed DBDs in atmospheric air
Wang et al. DC-driven plasma gun: Self-oscillatory operation mode of atmospheric–pressure helium plasma jet comprised of repetitive streamer breakdowns
Asimakoulas et al. Fast framing imaging and modelling of vapour formation and discharge initiation in electrolyte solutions
Moon et al. Effective corona discharge and ozone generation from a wire-plate discharge system with a slit dielectric barrier
CN103220874A (zh) 一种基于介质阻挡放电的等离子体阵列
PL222477B1 (pl) Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni
Liu et al. Sub-60 C atmospheric helium–water plasma jets: modes, electron heating and downstream reaction chemistry
Fulcheri et al. Experimental electrical characterization of a low-current tip–tip arc discharge in helium atmosphere at very high pressure
Bruggeman et al. Electrical discharges in the vapour phase in liquid-filled capillaries
SA118390599B1 (ar) طريقة وجهاز نفاث لتخليق وتوليد شعلة من البلازما الحرارية
PL222480B1 (pl) Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym
Shkurenkov et al. Two-dimensional simulation of an atmospheric-pressure RF DBD in a H2: O2 mixture: discharge structures and plasma chemistry
Rajch et al. Comparative studies of dc corona and back discharges in different gases
US20210077822A1 (en) Reconfigurable Cold Plasma Therapy Device with Enhanced Safety
RU2011128767A (ru) Способ получения нанопорошков из различных электропроводящих материалов
EP3122161B1 (en) Method for plasma generation in liquids using a jet system
Nikiforov et al. Breakdown process and corona to spark transition between metal and liquid electrodes