PL222480B1 - Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym - Google Patents
Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowymInfo
- Publication number
- PL222480B1 PL222480B1 PL409000A PL40900014A PL222480B1 PL 222480 B1 PL222480 B1 PL 222480B1 PL 409000 A PL409000 A PL 409000A PL 40900014 A PL40900014 A PL 40900014A PL 222480 B1 PL222480 B1 PL 222480B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- reactor
- ignition voltage
- reducing
- discharge ignition
- nozzle
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 241001077868 Joanna Species 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
(21) Numer zgłoszenia: 409000 (51) Int.Cl.
H05H 1/46 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 28.07.2014 (54) Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym
| (73) Uprawniony z patentu: | |
| POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL | |
| (43) Zgłoszenie ogłoszono: | |
| 03.08.2015 BUP 16/15 | (72) Twórca(y) wynalazku: |
| JOANNA PAWŁAT, Zemborzyce Podleśne, PL JAROSŁAW DIATCZYK, Lublin, PL | |
| (45) O udzieleniu patentu ogłoszono: | |
| 29.07.2016 WUP 07/16 | (74) Pełnomocnik: |
| rzecz. pat. Tomasz Milczek |
PL 222 480 B1
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym.
Dotychczas znane są i stosowane rozwiązania polegające na umieszczeniu w przestrzeni międzyelektrodowej dodatkowej elektrody zapłonowej zasilanej napięciem o wysokiej częstotliwości, op isane w patencie polskim nr 180063 z roku 2000. Innym sposobem zapewniania pewnego zapłonu jest wykorzystanie większego napięcia dostarczanego z układu zasiania, tak jak przedstawili to A. Czernichowski, T. Janowski, H.D. Stryczewska w artykule Electrical Supplying Systems for Plasma Reactors opublikowanym w 1994 roku w Acta Physica Universitatis Comenianae, vol. XXXV(1), strony 95-102. Innym spotykanym rozwiązaniem jest wykorzystanie wyższych harmonicznych napięcia zasilającego elektrody robocze do zasilania elektrody zapłonowej za pomocą odpowiedniej konfiguracji transform atorowego układu zasilania. Rozwiązania takie zaprezentował G. Komarzyniec, H.D. Stryczewska, W. Janowski, J. Diatczyk w artykule pod tytułem „Wpływ elektrycznych parametrów układu zasilania na charakterystyki reaktorów plazmy łukowej”, opublikowanym w Zeszytach Naukowych Politechniki Śląskiej - Nauki Techniczne - Elektryka, 2007, strony 37-44.
Istotą sposobu obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym jest to, że przez dyszę do komory wyładowczej reaktora plazmowego podaje się gaz procesowy pod ciśnieniem 1 atm. Ze źródła promieniowania UV o względnej mocy odniesionej do warunków geometrycznych reaktora powyżej 150 mW na 1 mm odstępu między elektrodami reaktora, umieszczonego w pobliżu dyszy i emituje się promieniowanie o długości fali od 115 nm do 400 nm, korzystnie 160 nm, jonizując przestrzeń międzyelektrodową - przez co obniża się wartości napięcia zapłonu wyładowania co najmniej o 20%. Gazami procesowymi są: powietrze i/albo azot i/albo tlen lub ich mieszaniny, k orzystnie z dodatkiem gazów szlachetnych: argon lub hel.
Korzystnym skutkiem sposobu według wynalazku jest obniżenie napięcia zasilania reaktora plazmowego co powoduje obniżenie kosztów eksploatacji oraz wzrost niezawodności działania reaktora.
Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym polega na tym, że przez dyszę do komory wyładowczej reaktora plazmowego podaje się gaz procesowy: powietrze i/albo azot i/albo tlen lub ich mieszaniny, korzystnie z dodatkiem gazów szlachetnych: argonu lub helu pod ciśnieniem 1 atm. Ze źródła promieniowania UV o względnej mocy odniesionej do warunków geometrycznych reaktora powyżej 150 mW na 1 mm odstępu między elektrodami reaktora, umieszczonego w pobliżu dyszy emitowane jest promieniowanie o długości fali od 115 nm do 400 nm, k orzystnie 160 nm, które zapewnia wstępną jonizację przestrzeni międzyelektrodowej oraz obniżenie wartości napięcia zasilającego wymaganego do zapłonu wyładowania co najmniej o 20%.
P r z y k ł a d 1. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glid-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono powietrze. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 870 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 400 nm i mocy 525 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 696 V.
P r z y k ł a d 2. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glide-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono azot. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 843 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 115 nm i mocy 450 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 656 V.
P r z y k ł a d 3. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glid-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono mieszaninę tlenu - objętościowo 10% i helu - objętościowo 90%. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 315 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 160 nm i mocy 480 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 239 V.
P r z y k ł a d 4. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glid-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono mieszaninę powietrza - objętościowo 20% i argonu - objętościowo 80%. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 238 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 160 nm i mocy 480 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 170 V.
PL 222 480 B1
Claims (2)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym, znamienny tym, że przez dyszę do komory wyładowczej reaktora plazmowego podaje się gaz procesowy pod ciśnieniem 1 atm. Ze źródła promieniowania UV o względnej mocy odniesionej do warunków geometrycznych reaktora powyżej 150 mW na 1 mm odstępu między elektrodami reaktora, umieszczonego w pobliżu dyszy i emituje się promieniowanie o długości fali od 115 nm do 400 nm, korzystnie 160 nm, jonizując przestrzeń międzyelektrodową przez co obniża się wartości napięcia zapłonu wyładowania co najmniej o 20%.
- 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że gazami procesowymi są: powietrze i/albo azot i/albo, tlen lub ich mieszaniny, korzystnie z dodatkiem gazów szlachetnych: argon lub hel.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL409000A PL222480B1 (pl) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL409000A PL222480B1 (pl) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL409000A1 PL409000A1 (pl) | 2015-08-03 |
| PL222480B1 true PL222480B1 (pl) | 2016-07-29 |
Family
ID=53723664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL409000A PL222480B1 (pl) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL222480B1 (pl) |
-
2014
- 2014-07-28 PL PL409000A patent/PL222480B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL409000A1 (pl) | 2015-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10385463B2 (en) | Gas generator | |
| Korolev et al. | Low-current “gliding arc” in an air flow | |
| CN203167413U (zh) | 大气压弥散型冷等离子体发生装置 | |
| MX2018001259A (es) | Aparato y método de diseño de energía eléctrica para soplete de plasma cc. | |
| CN104981270B (zh) | 采用低压等离子体处理生物组织的设备和方法 | |
| JP6340670B2 (ja) | ガス発生器 | |
| Kim et al. | Plasma apparatuses for biomedical applications | |
| US20080056934A1 (en) | Diffusive plasma air treatment and material processing | |
| US20220217833A1 (en) | Plasma surface sanitizer and associated method | |
| CN101925246B (zh) | 一种人体可直接触摸的低温等离子体的产生方法 | |
| PL222480B1 (pl) | Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym | |
| CN103052250A (zh) | 大气压弥散型冷等离子体发生装置 | |
| US20190287763A1 (en) | Diffusive plasma air treatment and material processing | |
| KR101579787B1 (ko) | 대기압 플라즈마 가스 발생장치 | |
| PL222477B1 (pl) | Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni | |
| CN111867225A (zh) | 一种基于等离子体的电场分离装置 | |
| RU2529740C1 (ru) | Электродуговой шестиструйный плазматрон | |
| JP2019129902A5 (pl) | ||
| RU2638797C1 (ru) | Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей | |
| CZ2013543A3 (cs) | Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích | |
| Pinchuk et al. | Generation of guided streamers in a helium flow with gas impurities | |
| Sokol et al. | Analysis of Influence of the design of the discharge chamber on the ozone generator parameters | |
| Malinina | Diagnostics of optical characteristics and parameters of gas-discharge plasma based on mercury diiodide and helium mixture | |
| JP7312400B2 (ja) | 液中プラズマ装置 | |
| JP6061288B2 (ja) | プラズマ生成装置用の電源及びプラズマ生成装置 |