PL222480B1 - Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym - Google Patents

Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym

Info

Publication number
PL222480B1
PL222480B1 PL409000A PL40900014A PL222480B1 PL 222480 B1 PL222480 B1 PL 222480B1 PL 409000 A PL409000 A PL 409000A PL 40900014 A PL40900014 A PL 40900014A PL 222480 B1 PL222480 B1 PL 222480B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
reactor
ignition voltage
reducing
discharge ignition
nozzle
Prior art date
Application number
PL409000A
Other languages
English (en)
Other versions
PL409000A1 (pl
Inventor
Joanna Pawłat
Jarosław Diatczyk
Original Assignee
Lubelska Polt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lubelska Polt filed Critical Lubelska Polt
Priority to PL409000A priority Critical patent/PL222480B1/pl
Publication of PL409000A1 publication Critical patent/PL409000A1/pl
Publication of PL222480B1 publication Critical patent/PL222480B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

(21) Numer zgłoszenia: 409000 (51) Int.Cl.
H05H 1/46 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej (22) Data zgłoszenia: 28.07.2014 (54) Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym
(73) Uprawniony z patentu:
POLITECHNIKA LUBELSKA, Lublin, PL
(43) Zgłoszenie ogłoszono:
03.08.2015 BUP 16/15 (72) Twórca(y) wynalazku:
JOANNA PAWŁAT, Zemborzyce Podleśne, PL JAROSŁAW DIATCZYK, Lublin, PL
(45) O udzieleniu patentu ogłoszono:
29.07.2016 WUP 07/16 (74) Pełnomocnik:
rzecz. pat. Tomasz Milczek
PL 222 480 B1
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym.
Dotychczas znane są i stosowane rozwiązania polegające na umieszczeniu w przestrzeni międzyelektrodowej dodatkowej elektrody zapłonowej zasilanej napięciem o wysokiej częstotliwości, op isane w patencie polskim nr 180063 z roku 2000. Innym sposobem zapewniania pewnego zapłonu jest wykorzystanie większego napięcia dostarczanego z układu zasiania, tak jak przedstawili to A. Czernichowski, T. Janowski, H.D. Stryczewska w artykule Electrical Supplying Systems for Plasma Reactors opublikowanym w 1994 roku w Acta Physica Universitatis Comenianae, vol. XXXV(1), strony 95-102. Innym spotykanym rozwiązaniem jest wykorzystanie wyższych harmonicznych napięcia zasilającego elektrody robocze do zasilania elektrody zapłonowej za pomocą odpowiedniej konfiguracji transform atorowego układu zasilania. Rozwiązania takie zaprezentował G. Komarzyniec, H.D. Stryczewska, W. Janowski, J. Diatczyk w artykule pod tytułem „Wpływ elektrycznych parametrów układu zasilania na charakterystyki reaktorów plazmy łukowej”, opublikowanym w Zeszytach Naukowych Politechniki Śląskiej - Nauki Techniczne - Elektryka, 2007, strony 37-44.
Istotą sposobu obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym jest to, że przez dyszę do komory wyładowczej reaktora plazmowego podaje się gaz procesowy pod ciśnieniem 1 atm. Ze źródła promieniowania UV o względnej mocy odniesionej do warunków geometrycznych reaktora powyżej 150 mW na 1 mm odstępu między elektrodami reaktora, umieszczonego w pobliżu dyszy i emituje się promieniowanie o długości fali od 115 nm do 400 nm, korzystnie 160 nm, jonizując przestrzeń międzyelektrodową - przez co obniża się wartości napięcia zapłonu wyładowania co najmniej o 20%. Gazami procesowymi są: powietrze i/albo azot i/albo tlen lub ich mieszaniny, k orzystnie z dodatkiem gazów szlachetnych: argon lub hel.
Korzystnym skutkiem sposobu według wynalazku jest obniżenie napięcia zasilania reaktora plazmowego co powoduje obniżenie kosztów eksploatacji oraz wzrost niezawodności działania reaktora.
Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym polega na tym, że przez dyszę do komory wyładowczej reaktora plazmowego podaje się gaz procesowy: powietrze i/albo azot i/albo tlen lub ich mieszaniny, korzystnie z dodatkiem gazów szlachetnych: argonu lub helu pod ciśnieniem 1 atm. Ze źródła promieniowania UV o względnej mocy odniesionej do warunków geometrycznych reaktora powyżej 150 mW na 1 mm odstępu między elektrodami reaktora, umieszczonego w pobliżu dyszy emitowane jest promieniowanie o długości fali od 115 nm do 400 nm, k orzystnie 160 nm, które zapewnia wstępną jonizację przestrzeni międzyelektrodowej oraz obniżenie wartości napięcia zasilającego wymaganego do zapłonu wyładowania co najmniej o 20%.
P r z y k ł a d 1. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glid-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono powietrze. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 870 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 400 nm i mocy 525 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 696 V.
P r z y k ł a d 2. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glide-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono azot. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 843 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 115 nm i mocy 450 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 656 V.
P r z y k ł a d 3. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glid-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono mieszaninę tlenu - objętościowo 10% i helu - objętościowo 90%. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 315 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 160 nm i mocy 480 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 239 V.
P r z y k ł a d 4. Przez dyszę dwuelektrodowego reaktora typu Glid-Arc i odstępie pomiędzy elektrodami zasilanymi z generatora prądu zmiennego wynoszącym 3 mm przepuszczono mieszaninę powietrza - objętościowo 20% i argonu - objętościowo 80%. Minimalne napięcie zapłonu wyniosło 238 V. Przy zastosowaniu źródła promieniowania UV o długości fali 160 nm i mocy 480 mW uzyskano obniżenie napięcia zasilającego elektrody reaktora do 170 V.
PL 222 480 B1

Claims (2)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym, znamienny tym, że przez dyszę do komory wyładowczej reaktora plazmowego podaje się gaz procesowy pod ciśnieniem 1 atm. Ze źródła promieniowania UV o względnej mocy odniesionej do warunków geometrycznych reaktora powyżej 150 mW na 1 mm odstępu między elektrodami reaktora, umieszczonego w pobliżu dyszy i emituje się promieniowanie o długości fali od 115 nm do 400 nm, korzystnie 160 nm, jonizując przestrzeń międzyelektrodową przez co obniża się wartości napięcia zapłonu wyładowania co najmniej o 20%.
  2. 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że gazami procesowymi są: powietrze i/albo azot i/albo, tlen lub ich mieszaniny, korzystnie z dodatkiem gazów szlachetnych: argon lub hel.
PL409000A 2014-07-28 2014-07-28 Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym PL222480B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL409000A PL222480B1 (pl) 2014-07-28 2014-07-28 Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL409000A PL222480B1 (pl) 2014-07-28 2014-07-28 Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL409000A1 PL409000A1 (pl) 2015-08-03
PL222480B1 true PL222480B1 (pl) 2016-07-29

Family

ID=53723664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL409000A PL222480B1 (pl) 2014-07-28 2014-07-28 Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL222480B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL409000A1 (pl) 2015-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10385463B2 (en) Gas generator
Korolev et al. Low-current “gliding arc” in an air flow
CN203167413U (zh) 大气压弥散型冷等离子体发生装置
MX2018001259A (es) Aparato y método de diseño de energía eléctrica para soplete de plasma cc.
CN104981270B (zh) 采用低压等离子体处理生物组织的设备和方法
JP6340670B2 (ja) ガス発生器
Kim et al. Plasma apparatuses for biomedical applications
US20080056934A1 (en) Diffusive plasma air treatment and material processing
US20220217833A1 (en) Plasma surface sanitizer and associated method
CN101925246B (zh) 一种人体可直接触摸的低温等离子体的产生方法
PL222480B1 (pl) Sposób obniżenia napięcia zapłonu wyładowania w reaktorze mikroplazmowym
CN103052250A (zh) 大气压弥散型冷等离子体发生装置
US20190287763A1 (en) Diffusive plasma air treatment and material processing
KR101579787B1 (ko) 대기압 플라즈마 가스 발생장치
PL222477B1 (pl) Reaktor mikroplazmowy z regulowanym odstępem między elektrodami do obróbki powierzchni
CN111867225A (zh) 一种基于等离子体的电场分离装置
RU2529740C1 (ru) Электродуговой шестиструйный плазматрон
JP2019129902A5 (pl)
RU2638797C1 (ru) Газоразрядное устройство для обработки термочувствительных поверхностей
CZ2013543A3 (cs) Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích
Pinchuk et al. Generation of guided streamers in a helium flow with gas impurities
Sokol et al. Analysis of Influence of the design of the discharge chamber on the ozone generator parameters
Malinina Diagnostics of optical characteristics and parameters of gas-discharge plasma based on mercury diiodide and helium mixture
JP7312400B2 (ja) 液中プラズマ装置
JP6061288B2 (ja) プラズマ生成装置用の電源及びプラズマ生成装置