PL232293B1 - Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego - Google Patents
Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznegoInfo
- Publication number
- PL232293B1 PL232293B1 PL419816A PL41981616A PL232293B1 PL 232293 B1 PL232293 B1 PL 232293B1 PL 419816 A PL419816 A PL 419816A PL 41981616 A PL41981616 A PL 41981616A PL 232293 B1 PL232293 B1 PL 232293B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- aluminosilicate
- acid
- manufacturing
- substrate
- groups
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 7
- 229910021652 non-ferrous alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 title description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 58
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 34
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract description 11
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 7
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N formic acid Substances OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 244000248349 Citrus limon Species 0.000 claims description 5
- 235000005979 Citrus limon Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 4
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 claims description 4
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical group CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims description 2
- 150000002691 malonic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 claims description 2
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 2
- 150000002913 oxalic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- 241000234282 Allium Species 0.000 abstract 1
- 235000002732 Allium cepa var. cepa Nutrition 0.000 abstract 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 13
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 13
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 13
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- -1 J. Bieleman Substances 0.000 description 9
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 6
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 6
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 5
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 229910001411 inorganic cation Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 3
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVPAXPAPZXKGGO-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(dimethoxy)silyl]oxypropylurea Chemical compound N(C(=O)N)CCCO[Si](OC)(OC)CCCN SVPAXPAPZXKGGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](CC)(OC(C)=O)OC(C)=O KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M dimethyl-octadecyl-(3-trimethoxysilylpropyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCC[Si](OC)(OC)OC WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 description 2
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011044 succinic acid Nutrition 0.000 description 2
- CJAAPVQEZPAQNI-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl)methanamine Chemical class CC1=CC=CC=C1CN CJAAPVQEZPAQNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXQAPNSHUJORMC-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=C(Cl)C=C1 QXQAPNSHUJORMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XODFSNXVWMJCOU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl thiocyanate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSC#N XODFSNXVWMJCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000737 Duralumin Inorganic materials 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000005505 Measles Diseases 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004113 Sepiolite Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCQAIUIHXQEIHD-UHFFFAOYSA-N [Zn].[Sr] Chemical compound [Zn].[Sr] VCQAIUIHXQEIHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 239000013466 adhesive and sealant Substances 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical class C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004532 chromating Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920006334 epoxy coating Polymers 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diamine Chemical class CCCCCC(N)N SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-(3-trimethoxysilylpropylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCNCCN NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUFHQGLVNNOXMP-UHFFFAOYSA-N n-(triethoxysilylmethyl)cyclohexanamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CNC1CCCCC1 WUFHQGLVNNOXMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011527 polyurethane coating Substances 0.000 description 1
- XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;hydrate Chemical compound O.CC(C)O XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052624 sepiolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019355 sepiolite Nutrition 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003444 succinic acids Chemical class 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBCOGINAGIMDDC-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-phenylmethoxypropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1=CC=CC=C1 PBCOGINAGIMDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229910052902 vermiculite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010455 vermiculite Substances 0.000 description 1
- 235000019354 vermiculite Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
Przedmiotem zgłoszenia jest sposób wytwarzania warstwy szczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego, polegający na wytworzeniu warstwy organosilanowej z glinokrzemianem, który charakteryzuje się tym, że alkoksysilan i/lub jego ester, oba zawierające co najmniej jedną protonowaną grupę aminową i/lub czwartorzędową grupę oniową, korzystnie czwartorzędową grupę amoniową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, a następnie na warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C. Stosunek sumy protonowanych grup aminowych i/lub czwartorzędowych grup oniowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5 : 1. Glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodno - rozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych. Inny sposób charakteryzuje się tym, że alkoksysilan, zawierający co najmniej jedną grupę aminową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, następnie grupę aminową protonuje się kwasem organicznym i/lub nieorganicznym. Na otrzymaną warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C. Stosunek sumy protonowanych grup aminowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5 : 1. Glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodno - rozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych.
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku są sposoby wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego. Warstwa sczepna podwyższa adhezję pomiędzy podłożem a kompozycjami polimerowymi (np. powłokami malarskimi i klejami). Jako metale nieżelazne traktuje się metale inne niż żelazo (np. aluminium, cynk) oraz stopy niezawierające znaczących ilości żelaza (duraluminium, mosiądz).
Przyczepność powłoki organicznej (farby, lakieru) lub kleju do podłoża malowanego/klejonego jest podstawowym parametrem określającym przydatności danego materiału do zastosowania praktycznego. Przyczepność powłok i spoin klejowych do różnych podłoży można podwyższyć stosując specjalne dodatki do kompozycji powłokowej lub klejowej (tzw. promotory adhezji) i/lub stosując modyfikację powierzchni pokrywanego materiału. Jako promotory adhezji wykorzystuje się substancje zmniejszające napięcie powierzchniowe spoiwa (tj. poprawiające zwilżalność podłoża), nano- i mikrocząstkowe napełniacze mineralne i syntetyczne umożliwiające mechaniczne zakotwienie materiału w nierównościach podłoża oraz substancje wchodzące w reakcje chemiczne z materiałem podłoża (tytaniany i cyrkoniany, alkoksysilany, organiczne pochodne kwasu fosforowego). Natomiast modyfikacja samej powierzchni podłoża, przed malowaniem lub klejeniem, może obejmować jej obróbkę mechaniczną w celu zwiększenia chropowatości, lub obróbkę chemiczną, w efekcie której wytwarza się nieorganiczną warstwę sczepną (np. chromianowanie, fosforanowanie). Możliwe jest także pokrycie podłoża cienką warstwą niektórych promotorów adhezji lub substancji polimerycznych wykazującą wysoką przyczepność zarówno do podłoża jak i docelowej powłoki lub kleju.
Alkoksysilany są związkami stosowanymi powszechnie do wytwarzania powierzchniowych warstw sczepnych na różnych podłożach nieorganicznych (np. na szkle, minerałach, aluminium i jego stopach) i organicznych (polimerach/tworzywach sztucznych). Powodują one poprawę zwilżalności modyfikowanego podłoża i wzrost przyczepności do niego powłok organicznych, klejów, a także matrycy polimerowej (w wypadku kompozytów polimerowych zawierających napełniacz lub wzmocnienie pokrytymi alkoksysilanami). Mechanizm tworzenia warstw sczepnych obejmuje reakcje hydrolizy grup alkoksylowych (głównie metoksylowych lub etoksylowych) z wytworzeniem silanoli oraz ich kondensację między sobą oraz z grupami hydroksylowymi podłoża. W efekcie tworzy się warstwa silanowa zawierająca głównie wiązania siloksanowe oraz wiązania eterowe pomiędzy krzemem a materiałem podłoża. Czasami, w zastępstwie alkoksysilanów stosuje się także estry octanowe alkoksysilanów/silanoli. Istnieje wiele doniesień literaturowych i patentowych dotyczących wytwarzania krzemoorganicznych (organosilanowych) warstw sczepnych, m.in.: J. Bieleman, Additives for Coatings, Willey-VCH, Weinheim 2000; E. Petrie, Handbook of Adhesives and Sealants, McGraw-Hill Comp., Nowy Jork 2007; A. Miller, J. Berg, Compos A, 34, 2003, 327; E. Metwalli et al, J. Coll. Inter. Sci 298, 2006, 825; patent JPS62155977, patent RU2515408. Spośród stosowanych silanów wyróżnić można funkcjonalizowane alkoksysilany zawierające np. grupy epoksydowe lub aminowe. Jakkolwiek stosuje się w praktyce laboratoryjnej i przemysłowej przyłączanie - na drodze wymiany jonowej - soli oniowych do powierzchni cząstek naturalnych i syntetycznych glinokrzemianów, np. montmorylonitu (PL212831, US5760106), to brak jest doniesień nt. przyłączania glinokrzemianów do powierzchni krzemoorganicznych warstw sczepnych zawierających protonowane grupy aminowe lub czwartorzędowe grupy amoniowe. Wydaje się, że obecność nanometrycznych cząstek glinokrzemianu (np. montmorylonitu, saponitu, hektorytu, sepiolitu), zaadsorbowanych na powierzchni powłoki krzemoorganicznej, spowoduje wzrost jej powierzchni właściwej, a przez to poprawę przyczepności do niej polimerowych kompozycji adhezyjnych.
Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego, według wynalazku, polegający na wytworzeniu warstwy organosilanowej z glinokrzemianem, charakteryzuje się tym, że alkoksysilan i/lub jego ester, oba zawierające co najmniej jedną protonowaną grupę aminową i/lub czwartorzędową grupę oniową, korzystnie czwartorzędową grupę amoniową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, a następnie na warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C. Stosunek sumy protonowanych grup aminowych i/lub czwartorzędowych grup oniowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5:1. Glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodno-rozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych. Wytworzenie powłoki organosilanowej na podłożu, polega na reakcji hydrolizy i kondensacji alkoksy silanu i/lub jego estru, w tym z grupami hydroksylowymi znajdującymi się na powierzchni podłoża. Sposób wytwarzania warstwy sczepnej obejmuje wytworzenie na danym podłożu powłoki organosilanowej, zawierającej protonowane grupy
PL 232 293 B1 aminowe i/lub czwartorzędowe grupy oniowe, oraz elektrostatyczne zaadsorbowanie na jej powierzchni naturalnego i/lub syntetycznego glinokrzemianu.
W sposobie stosuje się alkoksysilan z grupami aminowymi protonowanymi kwasem mono-, dii/lub trikarboksylowym (w tym kwasem hydroksykarboksylowym) i/lub kwasem nieorganicznym. Korzystnie stosuje się kwas mrówkowy, octowy, propionowy, masłowy, walerianowy, stearynowy, szczawiowy, malonowy, bursztynowy, benzoesowy, salicylowy cytrynowy, ortofosforowy, azotowy, siarkowy i/lub borowy. Alkoksysilan, zawierający protonowaną grupę aminową i/lub czwartorzędową grupę oniową, może być stosowany w postaci estru otrzymanego w reakcji alkoksysilanu z kwasem organicznym i/lub nieorganicznym, np. z kwasem mrówkowym, octowym, propionowym, masłowym, walerianowym, stearynowym, szczawiowym, malonowym, bursztynowym, benzoesowym, salicylowym, cytrynowym, ortofosforowym, azotowym, siarkowym i/lub borowym.
W sposobie można, obok alkoksysilanu i/lub estru z protonowaną grupą aminową i/lub czwartorzędową grupą oniową stosować również inne silany, w tym funkcjonalizowane zawierające grupy aminowe i/lub epoksydowe i/lub (met)akrylowe i/lub ureidowe i/lub merkaptanowe i/lub tiocyjanianowe i/lub winylowe, i/lub ich estry. Wytwarzanie powłoki organosilanowej, według wynalazku, może dodatkowo obejmować reakcje chemiczne między grupami funkcyjnymi alkoksysilanów i/lub ich estrów i/lub podłoża, np. pomiędzy grupami aminowymi, epoksydowymi, (met)akrylowymi, merkaptanowymi, tiocyjanianowymi, winylowymi, izocyjanianowymi i/lub hydroksylowymi.
Alkoksysilany i/lub ich estry, przed naniesieniem na podłoże miesza się z wodą i/lub rozpuszczalnikiem organicznym.
Stosuje się w estry alkoksysilanów, uzyskane w reakcji alkoksysilanu z kwasem mrówkowym i/lub octowym i/lub propionowym i/lub masłowym i/lub walerianowym i/lub stearynowymi i/lub szczawiowym i/lub malonowym i/lub bursztynowym i/lub benzoesowym i/lub salicylowym i/lub cytrynowym i/lub ortofosforowym i/lub azotowym i/lub siarkowym i/lub borowym.
Korzystnie stosuje się alkoksysilany z grupy metoksy- i/lub etoksysilanów zawierających podstawniki alifatyczne i/lub cykliczne i/lub aromatyczne.
W sposobie stosuje się naturalne i/lub syntetyczne glinokrzemiany zawierające zaadsorbowane elektrostatycznie kationy nieorganiczne i/lub kationy oniowe z organicznymi podstawnikami alifatycznymi i/lub cyklicznymi i/lub aromatycznymi. Kationy te są zdolne do reakcji wymiany jonowej z protonowanymi grupami aminowymi i/lub czwartorzędowymi grupami oniowymi znajdującymi się na powierzchni powłoki organosilanowej.
Korzystnie stosuje się zawiesinę wodną montmorylonitu zawierającego zaadsorbowane elektrostatycznie kationy nieorganiczne (np. sodowy, wapniowy, strontowy, cerowy, cynkowy) i/lub kationy oniowe (np. protonowane grupy aminowe, czwartorzędowe kationy amoniowe i fosfoniowe), w tym wykazujące właściwości inhibitowania korozji podłoża. Korzystnie stosuje się glinokrzemian niepoddany suszeniu po procesie wymiany jonowej.
W sposobie zarówno alkoksysilany i/lub ich estry, jak i glinokrzemian nanosi się dowolną metodą aplikacji materiałów malarskich, korzystnie przez zanurzenie lub malowanie pędzlem czy wałkiem, lub natrysk.
Warstwa sczepna może zawierać katalizatory metaloorganiczne oraz organiczne i/lub nieorganiczne inhibitory korozji podłoża, które wprowadza się jako dodatek do alkoksysilanów. Ich dodatek nie wpływa na mechanizm wytwarzania warstwy sczepnej, a jedynie na szybkość wytwarzania i/lub właściwości uzyskanej warstwy.
Inny sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego, według wynalazku, polegający na wytworzeniu warstwy organosilanowej z glinokrzemianem, charakteryzuje się tym, że alkoksysilan, zawierający co najmniej jedną grupę aminową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, następnie grupę aminową protonuje się kwasem organicznym i/lub nieorganicznym, po czym na otrzymaną warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C. Wytworzenie powłoki organosilanowej na podłożu, polega na reakcji hydrolizy i kondensacji alkoksysilanu, w tym z grupami hydroksylowymi znajdującymi się na powierzchni podłoża. Stosunek sumy protonowanych grup aminowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5:1. Glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodno-rozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych. Sposób wytwarzania warstwy sczepnej obejmuje wytworzenie na danym podłożu powłoki organosilanowej, zawierającej grupy aminowe, protonowanie grup aminowych znajdujących się na powierzchni powłoki oraz elektrostatyczne zaadsorbowanie na jej powierzchni naturalnego i/lub syntetycznego glinokrzemianu.
PL 232 293 B1
Jako kwasy protonujące grupę aminową stosuje się kwasy mono- di- i/lub trikarboksylowe, w tym kwasy hydroksykarboksylowe (np. kwas mrówkowy, octowy, propionowy, masłowy, Walerianowy, stearynowy, szczawiowy, malonowy, bursztynowy, benzoesowy, salicylowy, cytrynowy) i/lub kwasy nieorganiczne (np. ortofosforowy, azotowy, siarkowy, borowy).
W sposobie można, obok alkoksysilanów z grupami aminowymi, stosować również inne silany, w tym funkcjonalizowane alkoksysilany zawierające grupy epoksydowe i/lub (met)akrylowe i/lub ureidowe i/lub merkaptanowe i/lub tiocyjanianowe i/lub winylowe i/lub czwartorzędowe grupy oniowe, i/lub ich estry z kwasami mono-, di- i/lub trikarboksylowymi i/lub kwasami nieorganicznymi. Funkcjonalizowane silany, wchodzące w skład powłoki organosilanowej, mogą być połączone ze sobą i/lub materiałem podłoża z wykorzystaniem grup funkcyjnych, tj. grup aminowych, epoksydowych, hydroksylowych, (met)akrylowych, merkaptanowych, tiocyjanianowych, winylowych i/lub izocyjanianowych.
Korzystnie alkoksysilany, przed naniesieniem na podłoże miesza się z wodą i/lub rozpuszczalnikiem organicznym.
Korzystnie stosuje się alkoksysilany z grupy metoksy- i/lub etoksysilanów zawierających podstawniki alifatyczne i/lub cykliczne i/lub aromatyczne.
W sposobie stosuje się naturalne i/lub syntetyczne glinokrzemiany zawierające zaadsorbowane elektrostatycznie kationy nieorganiczne i/lub kationy oniowe z organicznymi podstawnikami alifatycznymi i/lub cyklicznymi i/lub aromatycznymi. Kationy te są zdolne do reakcji wymiany jonowej z protonowanymi grupami aminowymi i ewentualnie z czwartorzędowymi grupami oniowymi z alkoksysilanu znajdującymi się na powierzchni powłoki organosilanowej.
Korzystnie stosuje się zawiesinę wodną montmorylonitu zawierającego zaadsorbowane elektrostatycznie kationy nieorganiczne (np. sodowy, wapniowy, strontowy, cerowy, cynkowy) i/lub kationy oniowe z podstawnikami organicznymi (np. protonowane grupy aminowe, czwartorzędowe kationy amoniowe i fosfoniowe), w tym wykazujące właściwości inhibitowania korozji podłoża.
Korzystnie stosuje się glinokrzemian niepoddany suszeniu po procesie wymiany jonowej.
W sposobie zarówno alkoksysilan jak i glinokrzemian nanosi się dowolną metodą aplikacji materiałów malarskich, korzystnie przez zanurzenie, malowanie pędzlem czy wałkiem, lub natrysk.
Warstwa sczepna może zawierać katalizatory metaloorganiczne oraz organiczne i/lub nieorganiczne inhibitory korozji podłoża, które wprowadza się jako dodatek do alkoksysilanów. Ich dodatek nie wpływa na mechanizm wytwarzania warstwy sczepnej, a jedynie na szybkość wytwarzania i/lub właściwości uzyskanej warstwy.
Zaletą rozwiązania jest to, że powłoka organosilanowa, wchodząca w skład warstwy sczepnej zawiera protonowane grupy aminowe i/lub czwartorzędowe grupy oniowe w całej swojej objętości lub zawiera protonowane grupy aminowe jedynie na powierzchni. Warstwy sczepne zawierają glinokrzemian zaadsorbowany w procesie wymiany jonowej pomiędzy kationami nieorganicznymi lub organicznymi (zaadsorbowanymi pierwotnie na powierzchni glinokrzemianu) z protonowanym grupami aminowymi i/lub czwartorzędowymi grupami oniowymi silanu znajdującymi się na powierzchni powłoki organosilanowej. Zaletą rozwiązania jest to, ze wytworzona warstwa sczepna poprawia przyczepność powłok i spoin klejowych do podłoży.
Wynalazek przedstawiony jest w przykładach wykonania, w których przedstawiono skład i warunki otrzymywania warstwy sczepnej. W tabeli poniżej przykładów zestawiono wyniki badań adhezji powłok lub wytrzymałości na ścinanie klejów zaaplikowanych na warstwach sczepnych według wynalazku otrzymanych według przykładów. W celach porównawczych przedstawiono (w nawiasie) wartość adhezji/wytrzymałości na ścinanie powłok lub klejów do podłoża niepokrytego warstwą sczepną według wynalazku. Badania warstw sczepnych otrzymanych wg przykładów prowadzono metodą adhezji odrywowej lub określając wytrzymałość na ścinanie połączeń klejonych (skleina na zakładkę).
P r z y k ł a d 1
Do mieszaniny wody (67,5 cz. wag.), metanolu (25 cz. wag.) i izopropanolu (5 cz. wag.) wprowadzono aminopropylotrimetoksysilan (2,5 cz. wag.) po czym całość wymieszano i pozostawiono na 4 h. Po aplikacji mieszaniny na podłoże ze stopu aluminium PA6 (przez zanurzenie) próbkę suszono przez 30 min w temp. pokojowej oraz przez 4 h w temp. 95°C. Następnie pokryte podłoże zanurzono na 1 min w 2,5% wag. roztworze kwasu octowego po czym opłukano w wodzie destylowanej i zanurzano (1 min) w 0,5% wag. wodnej zawiesinie montmorylonitu sodowego (tj. Bentonitu Specjal produkcji Z.G.M. Zębiec w Starachowicach, oczyszczonego metodą sedymentacyjną). Próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. 75°C.
PL 232 293 B1
P r z y k ł a d 2
Do mieszaniny wody (67,5 cz. wag.), metanolu (25 cz. wag.) i izopropanolu (5 cz. wag.) wprowadzono 3-[2-(2-aminoetyloamino)etyloamino]propylotrimetoksysilan (2,5 cz. wag.) po czym całość wymieszano i pozostawiono na 4 h. Po aplikacji mieszaniny na podłoże ze stopu aluminium PA6 (przez zanurzenie) próbkę suszono przez 30 min w temp. pokojowej oraz przez 4 h w temp. 95°C. Po ochłodzeniu pokryte podłoże zanurzono na 1 min. w 2,5% wag. roztworze kwasu ortofosforowego po czym opłukano w wodzie destylowanej i zanurzano (1 min) w 0,5% wag. wodnej zawiesinie montmorylonitu wapniowego (Bentonit SN, Z.G.M. Zębiec). Próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. 75°C.
P r z y k ł a d 3
Do mieszaniny butanolu (95,34 cz. wag.) i kwasu octowego (2,16 cz. wag.) wprowadzono N-cykloheksyloaminometylotrietoksysilan (2,5 cz. wag.) po czym całość wymieszano i pozostawiono na 2 h. Po tym czasie kompozycję zaaplikowano pędzlem na podłoże ze stopu aluminium PA6 i wysuszono przez 30 min w temp. pokojowej oraz przez 4 h w temp. 95°C. Po ochłodzeniu zanurzono ją na 15 s w 0,5% wag. wodnej zawiesinie montmorylonitu sodowego (Bentonit Specjal) zakwaszonej kwasem octowym do pH 3,5. Próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. 75°C.
P r z y k ł a d 4
Do mieszaniny izopropanolu (97,06 cz. wag.), perhydrolu 30% (0,546 cz. wag.) i kwasu ortofosforowego (85% wag. roztwór wodny; 0,432 cz. wag.) wprowadzono aminopropylotrimetoksysilan (2,5 cz. wag.) po czym całość wymieszano i zaaplikowano pędzlem na podłoże ze stopu aluminium PA6. Próbkę suszono przez 30 min w temp. pokojowej oraz przez 4 h w temp. 95°C. Po ochłodzeniu zanurzono ją na 15 s w 0,5% wag. wodnej zawiesinie montmorylonitu sodowego (Bentonit Specjał), opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. 75°C.
P r z y k ł a d 5
Do mieszaniny wody (67,5 cz. wag.), metanolu (25 cz. wag.) i izopropanolu (5 cz. wag.) wprowadzono 2-ureidoetylo-3-aminopropylotrimetoksysilan (2,5 cz. wag.) po czym całość wymieszano i pozostawiono na 4 h. Po aplikacji mieszaniny na podłoże ze stopu aluminium PA6 (przez zanurzenie) próbkę suszono przez 30 min w temp. pokojowej oraz przez 4 h w temp. 95°C. Następnie pokryte podłoże zanurzono na 1 min w 2,5% wag. zawiesinie kwasu benzoesowego po czym opłukano w wodzie destylowanej i zanurzano (1 min) w 0,5% wag. wodnej zawiesinie montmorylonitu wapniowego (Bentonit SN, oczyszczony metodą sedymentacyjną). Próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. 75°C.
P r z y k ł a d 6
Wodę (0,1 cz. wag.) oraz kwas octowy (0,00686 cz. wag) wprowadzono do 100 cz. wag. metanolowego roztworu adduktu tetraetylenopentaminy i metakryloksypropylotrimetoksysilanu (roztwór o stężeniu 0,01% wag. adduktu) po czym całość wymieszano i pozostawiono na 24 h w temperaturze 0°C. Następnie kompozycję zaaplikowano natryskiem powietrznym na blachę aluminiową (wytrawioną w 10% wag. wodnym roztworze NaOH), po czym próbkę suszono przez 24 h w temp. pokojowej oraz przez 15 min w temp. 240°C. Następnie pokryte podłoże zanurzono na 1 min w 0,1% wag. roztworze kwasu octowego (temp. pokojowa) po czym opłukano w wodzie destylowanej i pokryto (za pomocą pędzla) 10% wag. wodną zawiesiną montmorylonitu cerowego i montmorylonitu organofilizowanego protonowaną piperydyną (równowagowa mieszanina glinokrzemianów). Po 1 min próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. pokojowej.
P r z y k ł a d 7
Do mieszaniny izopropanolu (84,66 cz. wag.), 1-butanolu (5 cz. wag.) i wody (5 cz. wag.) wprowadzono 42% wag. metanolowy roztwór chlorku dimetyloktadecylo[3-(trimetoksysililo)propylo]amoniowego (0,595 cz. wag., tj. 0,25 cz. wag. suchej masy soli amoniowej) oraz N-[3-(trimetoksysililo)propylo]anilinę (0,25 cz. wag.), n-oktylotrietoksysilan (2 cz. wag.) i metakryloksypropylotrimetoksysilan (2,5 cz. wag.) po czym całość dokładnie wymieszano i pozostawiono na 15 min w temperaturze pokojowej. Następnie kompozycję zaaplikowano pędzlem na blachę cynkową, po czym próbkę suszono przez 24 h w temp. pokojowej oraz przez 2 h w temp. 150°C. Następnie pokryte podłoże zanurzono na 0,5 min w 0,1% wag. wodno-metanolowej zawiesinie (o temp. 10°C) montmorylonitu organofilizowanego kationem etylotributylofosfoniowym. Próbki opłukano wodą wodociągową i metanolem, i wysuszono w temp. 90°C.
PL 232 293 B1
P r z y k ł a d 8
Przygotowano mieszaninę izopropanolu (67,75 cz. wag.), wody (30 cz. wag.), bis[3-(trimetoksysililo)propylo] aminy (2 cz. wag.), tetraetoksysilanu (0,125 cz. wag.) glicydoksypropylotrimetoksysilanu (0,125 cz. wag.) oraz dilaurynianu dioktylocyny (0,00025 cz. wag.). Całość wymieszano i zaaplikowano (przez zanurzenie) na płytkę szklaną, po czym próbkę suszono przez 56 h w temp. pokojowej, przez 1 h w temp. 65°C oraz przez 1 h w temp. 150°C. Ochłodzoną próbkę zanurzono na 1 min w 5% wag. roztworze kwasu cytrynowego po czym opłukano w wodzie destylowanej i zanurzano (1 min) w 0,1% wag. wodnej zawiesinie syntetycznego glinokrzemianu (Samosif ME100, Co-Op, Japonia) (o temp. 90°C). Próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. 65°C.
P r z y k ł a d 9
Przygotowano mieszaninę metanolu (89,49 cz. wag.), izopropanolu (5 cz. wag.), wody (5 cz. wag.), N-(2-aminoetylo)-3-aminopropylometylodimetoksysilanu (0,1 cz. wag.), 3-glicydoksypropylotrimetoksysilanu (0,25 cz. wag.), triacetoksyetylosilanu (0,05 cz. wag.), kwasu salicylowego (0,061 cz. wag.) i kwasu azotowego(V) (0,0428 cz. wag. 65% wag. wodnego roztworu kwasu). Całość wymieszano i zaaplikowano pędzlem na płytkę z polipropylenu (aktywowanego płomieniowo), po czym próbkę suszono przez 5 h w temp. temp. 45°C i przez 1 h w temp. 95°C. Ochłodzoną próbkę zanurzono (1 min) w 1% wag. wodnej zawiesinie montmorylonitu wapniowego (Bentonit SN, oczyszczony metodą sedymentacyjną). Próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. pokojowej.
P r z y k ł a d 10
Do aminopropylotrimetoksysilanu (1 cz. wag.) wprowadzono kwas mrówkowy (0,744 cz. wag.) i kwas stearynowy (0,511 cz. wag.) i całość wymieszano intensywnie chłodząc. Następnie 0,0226 cz. wag. uzyskanego produktu zmieszano z butanolem (93,97 cz. wag), izopropanolem (5 cz. wag.), benzyloksypropylotrietoksysilanem (0,9 cz. wag.) i tiocyjanianopropylotrimetoksysilanem (0,1 cz. wag.) i całość pozostawiono na 1 min w temp. pokojowej. Po tym czasie uzyskaną kompozycję zaaplikowano na podłoże szklane (poprzez zanurzenie) i suszono przez 48 h w temp. pokojowej, a następnie przez 1 h w temp. 90°C. Na uzyskaną warstwę nałożono wałkiem 1% wag. wodnej zawiesiny montmorylonitu, poddanego częściowej organofilizacji protonowaną 2-metylobenzyloaminą. Po 10 minutach próbki opłukano wodą wodociągową, następnie wodą destylowaną i acetonem, i wysuszono w temp. 75°C.
P r z y k ł a d 11
Bis[3-(trimetoksysililo)propylo]aminę (0,25 cz. wag.) zmieszano z wodą (50 cz. wag.), a następnie do mieszaniny wprowadzono kwas borowy (0,0045 cz. wag.) i izopropanol (49,74 cz. wag.) po czym całość wymieszano i pozostawiono na 2 min w temperaturze 23°C. Po tym czasie uzyskaną kompozycję zaaplikowano na podłoże miedziane (za pomocą wałka malarskiego) i suszono przez 24 h w temp. pokojowej a następnie przez 1 h w temp. 240°C. Uzyskaną próbkę zanurzono w 3,5% wag. wodnoizopropanolowej zawiesinie montmorylonitu cynkowo-strontowego (ogrzanej do temp. 50°C). Po 5 minutach próbki opłukano wodą destylowaną i acetonem, i wysuszono w temp. 150°C.
P r z y k ł a d 12
Zmieszano ochłodzony butanol (83,70 cz. wag.), izopropanol (15 cz. wag.), metanolowy roztwór chlorku dimetylooktadecylo[3-(trimetoksysililo)propylo]amoniowego (o stężeniu 42% wag. tj. 0,1 cz. wag. suchej masy soli amoniowej), kwas szczawiowy (0,0272 cz. wag.), kwas bursztynowy (0,0357 cz. wag.) oraz 3-merkaptopropylotrimetoksysilan (0,1 cz. wag.), triacetoksyetylosilan (0,85 cz. wag.) i winylotrimetoksysilan (0,05 cz. wag.), i całość pozostawiono na 30 min w temp. 0°C. Następnie kompozycję zaaplikowano (poprzez zanurzenie) na podłoże aluminiowe i suszono przez 72 h w temp. pokojowej, a następnie przez 2 h w temp. 95°C. Uzyskaną próbkę pokryto (poprzez natrysk) 0,1% wag. zawiesiną montmorylonitu organofilizowanego protonowanym diaminoheksanem (bez etapu suszenia nanonapełniacza; temp. zawiesiny 10°C). Po 2 h próbki opłukano dokładnie wodą wodociągową i destylowaną, i wysuszono przez 2 min w temp. 220°C.
P r z y k ł a d 13
Bis[3-(trimetoksysililo)propylo]aminę (0,01 cz. wag.) zmieszano z wodą (100 cz. wag.) i pozostawiono na 1 h w temperaturze 23°C. Po tym czasie uzyskaną kompozycję zaaplikowano na podłoże szklane (za pomocą wałka malarskiego) i suszono przez 24 h w temp. pokojowej, a następnie przez 1 h w temp. 150°C. Uzyskaną próbkę zanurzono na 30 s w 0,5% wag. wodno-izopropanolowym roztworze kwaśnego maleinianu amonu, a następnie (po opłukaniu wodą) na 1 min w 0,5% wag. wodnej zawiesinie montmorylonitu sodowego, częściowo organofilizowanego solą benzylotrimetyloamoniową. Po 10 minutach próbki opłukano wodą destylowaną i metanolem, i wysuszono w temp. 150°C.
PL 232 293 Β1
Przykład 14
Mieszaninę 2-ureidoetylo-3-aminopropylotrimetoksysilanu (75 cz. wag.), glicydoksypropylotrimetoksysilanu (24,5 cz. wag.) i 3-chloropropylotrichlorosilanu (0,5 cz. wag.) zaplikowano pędzlem na płytkę cynkową i suszono przez 72 h w temp, pokojowej oraz przez 15 min w temp. 220°C. Następnie pokryte podłoże zanurzono na 10 min. w 0,1 % wag. wodnym roztworze kwasu masłowego i Walerianowego (mieszanina równomolowa kwasów) po czym opłukano w wodzie destylowanej i zanurzano (10 min) w 0,5% wag. wodnej zawiesinie mieszaniny wermikulitu, hektorytu (Z.G.M. Zębiec) i syntetycznego glinokrzemianu (Samosif ME100). Próbki opłukano wodą destylowaną, acetonem i wysuszono w temp. 75°C.
| Typ materiału adhezyjnego | Rodzaj badania | Wynik badania | |
| Przykład 1 | Klej epoksydowy | Adhezja odrywowa | 7,0 MPa (1,5 MPa)1 |
| Przykład 2 | Klej epoksydowy | Adhezja odrywowa | 7,9 MPa (1,5 MPa)1 |
| Przykład 3 | Klej epoksydowy | Adhezja odrywowa | 5,3 MPa (1,5 MPa) |
| Przykład 4 | Klej epoksydowy | Adhezja odrywowa | 7,0 MPa (1,5 MPa.) |
| Przykład 5 | Klej epoksy dowy | Adhezja odrywowa | 9,2 MPa (1,5 MPa) |
| Przykład 6 | Powłoka poliuretanowa | Adhezja odrywowa | 4,2 MPa (3,2 MPa) |
| Przykład 7 | Powłoka akrylowa sieciowana UV | Adhezja odrywowa | 2,1 MPa (0,8 MPa) |
| Przykład 8 | Klej akrylowy | Wytrzymałość na ścinanie złącza | 2,3 MPa (1,8 MPa) |
| Przykład 9 | Powłoka epoksydowa | Adhezja odrywowa | 0,7 MPa (0 MPa) |
| Przykład 10 | Klej poliuretanowy | Adhezja odrywowa | 1,9 MPa (1,5 MPa) |
| Przykład 11 | Klej poliuretanowy | Wytrzymałość na ścinanie | 1,1 MPa (0,7 MPa) |
| Przykład 12 | Powłoka poliestrowa | Adhezja odrywowa | 1,5 MPa (0,3 MPa) |
| Przykład 13 | Klej poliwinylowy | Adhezja odry wowa | 1,5 MPa (0,8 MPa) |
| Przykład 14 | Powłoka poliestrów o-cpok sydowa | Adhezja odrywowa | 1,7 MPa (1,3 MPa) |
Zastrzeżenia patentowe
Claims (17)
1. Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego, polegający na wytworzeniu warstwy organosilanowej z glinokrzemianem, znamienny tym, że alkoksysilan i/lub jego ester, zawierający co najmniej jedną protonowaną grupę aminową i/lub czwartorzędową grupę oniową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, a następnie na warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C, przy czym stosunek sumy protonowanych grup aminowych i/lub czwartorzędowych grup oniowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5:1, a glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodno-rozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych.
2. Sposób wytwarzania według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się alkoksysilan i/lub jego ester z grupami aminowymi protonowanymi kwasem mrówkowym i/lub octowym i/lub propionowym i/lub masłowym i/lub Walerianowym i/lub szczawiowym i/lub malonowym i/lub bursztynowym i/lub stearynowym i/lub benzoesowym i/lub salicylowym i/lub cytrynowym i/lub ortofosforowym i/lub azotowym i/lub siarkowym i/lub borowym.
3. Sposób wytwarzania według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się również inne silany, w tym funkcjonalizowane alkoksysilany zawierające grupy aminowe i/lub epoksydowe i/lub
PL 232 293 B1 (met)akrylowe i/lub ureidowe i/lub merkaptanowe i/lub tiocyjanianowe i/lub winylowe, i/lub ich estry.
4. Sposób wytwarzania według zastrz. 1 lub 3, znamienny tym, że alkoksysilan i/lub jego ester, przed naniesieniem na podłoże miesza się z wodą i/lub rozpuszczalnikiem organicznym.
5. Sposób wytwarzania według zastrz. 1 albo 3, znamienny tym, że stosuje się w estry alkoksysilanów, uzyskane w reakcji alkoksysilanu z kwasem mrówkowym i/lub octowym i/lub propionowym i/lub masłowym i/lub walerianowym i/lub stearynowym- i/lub szczawiowym i/lub malonowym i/lub bursztynowym i/lub benzoesowym i/lub salicylowym i/lub cytrynowym i/lub ortofosforowym i/lub azotowym i/lub siarkowym i/lub borowym.
6. Sposób wytwarzania według zastrz. 1 albo 3, znamienny tym, że stosuje się alkoksysilany z grupy metoksy- i/lub etoksysilanów zawierających podstawniki alifatyczne i/lub cykliczne i/lub aromatyczne.
7. Sposób wytwarzania według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się naturalne i/lub syntetyczne glinokrzemiany zawierające zaadsorbowane elektrostatycznie kationy nieorganiczne i/lub kationy oniowe z organicznymi podstawnikami alifatycznymi i/lub cyklicznymi i/lub aromatycznymi.
8. Sposób wytwarzania według zastrz. 1 albo 7, znamienny tym, że stosuje się glinokrzemian niepoddany suszeniu po procesie wymiany jonowej.
9. Sposób wytwarzania według zastrz. 1, znamienny tym, że alkoksysilan i/lub jego ester i glinokrzemian nanosi się przez zanurzenie lub malowanie lub natrysk.
10. Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego, polegający na wytworzeniu warstwy organosilanowej z glinokrzemianem, znamienny tym, że alkoksysilan, zawierający co najmniej jedną grupę aminową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, następnie grupę aminową protonuje się kwasem organicznym i/lub nieorganicznym, po czym na otrzymaną warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C, przy czym stosunek sumy protonowanych grup aminowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5:1, a glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodnorozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych.
11. Sposób wytwarzania według zastrz. 10, znamienny tym, że jako kwas protonujący grupę aminową stosuje się kwas mrówkowy i/lub octowy i/lub propionowy i/lub masłowy, walerianowy i/lub szczawiowy i/lub malonowy i/lub bursztynowy i/lub benzoesowy i/lub salicylowy i/lub cytrynowy i/lub ortofosforowy i/lub azotowy, i/lub siarkowy i/lub borowy.
12. Sposób wytwarzania według zastrz. 10, znamienny tym, że stosuje się również inne silany, w tym funkcjonalizowane alkoksysilany zawierające grupy epoksydowe i/lub (met)akrylowe i/lub ureidowe i/lub merkaptanowe i/lub tiocyjanianowe i/lub winylowe i/lub czwartorzędowe grupy oniowe, i/lub ich estry.
13. Sposób wytwarzania według zastrz. 10 albo 12, znamienny tym, że alkoksysilany i/lub ich estry, przed naniesieniem na podłoże miesza się z wodą i/lub rozpuszczalnikiem organicznym.
14. Sposób wytwarzania według zastrz. 10 albo 12, znamienny tym, że stosuje się alkoksysilany z grupy metoksy- i/lub etoksysilanów zawierających podstawniki alifatyczne i/lub cykliczne i/lub aromatyczne.
15. Sposób wytwarzania według zastrz. 10, znamienny tym, że stosuje się naturalne i/lub syntetyczne glinokrzemiany zawierające zaadsorbowane elektrostatycznie kationy nieorganiczne i/lub kationy oniowe z organicznymi podstawnikami alifatycznymi i/lub cyklicznymi i/lub aromatycznymi.
16. Sposób wytwarzania według zastrz. 10 albo 15, znamienny tym, że stosuje się glinokrzemian niepoddany suszeniu po procesie wymiany jonowej.
17. Sposób wytwarzania według zastrz. 10, znamienny tym, że alkoksysilan i glinokrzemian nanosi się przez zanurzenie lub malowanie lub natrysk.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL419816A PL232293B1 (pl) | 2016-12-15 | 2016-12-15 | Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL419816A PL232293B1 (pl) | 2016-12-15 | 2016-12-15 | Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL419816A1 PL419816A1 (pl) | 2018-06-18 |
| PL232293B1 true PL232293B1 (pl) | 2019-06-28 |
Family
ID=62554024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL419816A PL232293B1 (pl) | 2016-12-15 | 2016-12-15 | Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL232293B1 (pl) |
-
2016
- 2016-12-15 PL PL419816A patent/PL232293B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL419816A1 (pl) | 2018-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102428211B (zh) | 以多步骤的方法来涂覆金属表面的方法 | |
| CN1257312C (zh) | 使用硅烷进行金属防腐的方法 | |
| JP2013100522A (ja) | 水性２成分または多成分エポキシ樹脂プライマー組成物 | |
| US20060147705A1 (en) | Method for forming self-cleaning coating comprising hydrophobically-modified particles | |
| KR102659528B1 (ko) | 샵 프라이머 | |
| CN1926210A (zh) | 硅烷组合物和将橡胶结合到金属上的方法 | |
| JP2006519924A5 (pl) | ||
| KR20110127195A (ko) | 수성 실란화 실리카 분산액 | |
| KR20120041758A (ko) | 금속의 비피복 부식 방지 및 부식 방지용 수성 실란 시스템 | |
| EP0021412B1 (en) | Aminosilane modified zinc-rich coatings | |
| JP2006519308A5 (pl) | ||
| KR101980953B1 (ko) | 크로메이트 무함유 전처리 프라이머 | |
| CA2926194A1 (en) | Transparent hydrophobic coating materials with improved durability and methods of making same | |
| KR101953568B1 (ko) | 상온 경화형 세라믹 도료 조성물 | |
| EP1765836B1 (en) | Composition for coating of aluminum | |
| KR20170071678A (ko) | 그래핀 산화물의 분산성 향상 방법 및 이를 이용한 표면처리 강판 제조 | |
| JPS6160766A (ja) | 潤滑性塗膜形成用水系組成物 | |
| CN111148799B (zh) | 水性底漆 | |
| PL232293B1 (pl) | Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego | |
| CA3072783C (en) | Room temperature cure zirconate-silica sol-gel pretreatment for metal substrates | |
| PL232294B1 (pl) | Sposoby wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu żelaznym, stalowym lub żeliwnym | |
| PL232292B1 (pl) | Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego | |
| PL232295B1 (pl) | Sposób wytwarzania warstwy sczepnej na podłożu żelaznym, stalowym lub żeliwnym | |
| WO2018206623A1 (de) | Wässrige vorbehandlung für verklebungen mit erhöhter hitzestabilität | |
| WO2019063353A1 (de) | Aktivator für beschleunigten haftungsaufbau |