PL419816A1 - Sposób wytwarzania warstwy szczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego - Google Patents

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest sposób wytwarzania warstwy szczepnej na podłożu z metalu lub stopu nieżelaznego, szkła lub tworzywa sztucznego, polegający na wytworzeniu warstwy organosilanowej z glinokrzemianem, który charakteryzuje się tym, że alkoksysilan i/lub jego ester, oba zawierające co najmniej jedną protonowaną grupę aminową i/lub czwartorzędową grupę oniową, korzystnie czwartorzędową grupę amoniową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, a następnie na warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C. Stosunek sumy protonowanych grup aminowych i/lub czwartorzędowych grup oniowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5 : 1. Glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodno - rozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych. Inny sposób charakteryzuje się tym, że alkoksysilan, zawierający co najmniej jedną grupę aminową, nanosi się na podłoże i suszy w temperaturze od 0°C do 240°C, następnie grupę aminową protonuje się kwasem organicznym i/lub nieorganicznym. Na otrzymaną warstwę organosilanową nanosi się glinokrzemian w temperaturze od 10°C do 90°C. Stosunek sumy protonowanych grup aminowych do sumy wszystkich grup silanowych w warstwie organosilanowej nie przekracza 5 : 1. Glinokrzemian stosuje się w postaci zawiesiny wodnej lub wodno - rozpuszczalnikowej o stężeniu od 0,1 do 10% wagowych.