PL238262B1 - Sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych, o zwiększonej odporności na korozję - Google Patents
Sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych, o zwiększonej odporności na korozję Download PDFInfo
- Publication number
- PL238262B1 PL238262B1 PL423721A PL42372117A PL238262B1 PL 238262 B1 PL238262 B1 PL 238262B1 PL 423721 A PL423721 A PL 423721A PL 42372117 A PL42372117 A PL 42372117A PL 238262 B1 PL238262 B1 PL 238262B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- nickel
- silica
- layer
- coatings
- silane
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 103
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims description 10
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 77
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 16
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 4
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 150000004658 ketimines Chemical group 0.000 description 8
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 4
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical group 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000172 allergic effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007431 microscopic evaluation Methods 0.000 description 2
- RIPZIAOLXVVULW-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)CC(C)=O.CC(=O)CC(C)=O RIPZIAOLXVVULW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- -1 Aminosilane modified silica Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 206010020751 Hypersensitivity Diseases 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 230000007815 allergy Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 238000002414 normal-phase solid-phase extraction Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000004094 preconcentration Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004584 weight gain Effects 0.000 description 1
- 235000019786 weight gain Nutrition 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011686 zinc sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000009529 zinc sulphate Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych, o zwiększonej odporności na korozję.
Znane są sposoby osiągania odporności na korozję powłok niklowych poprzez galwaniczne nakładanie na różnego typu powierzchnie kilku, zazwyczaj dwóch lub trzech, powłok niklowych, a następnie cienkiej warstwy chromu.
W sposobach tych proces prowadzi się w taki sposób, aby w zewnętrznej warstwie chromu powstały niewidoczne gołym okiem mikropory, mające zdolność decentralizacji ognisk korozji. Mikropory takie powstają na skutek wprowadzenia do warstwy niklu, bezpośrednio poprzedzającej warstwę chromu, nieprzewodzącego materiału, dzięki czemu powstaje nieciągła warstwa niklu, tak zwany „nikiel mikroporowaty”. W efekcie rozpuszczeniu ulega, znajdująca się poniżej, „mniej szlachetna” warstwa niklu (warstwa połyskowa), a warstwy zewnętrzne pozostają nienaruszone. Wyniki testów antykorozyjnych wykazują wysoką korelację pomiędzy odpornością na korozję a liczbą porów w warstwie chromowej, będących efektem modyfikacji warstwy niklu. Przyjmuje się, że pory powinny być rozłożone możliwie równomiernie, a ich liczba powinna być większa niż 10 000 na cm2 (E.P.Harbulak i wsp., „Chromium Microporosity and Active Sites”, Plating and Surface Finishing, (1989) 58-61).
Aby uzyskać taki efekt, typowo do roztworu elektrolitu do osadzania warstwy niklu mikroporowatego dodaje się materiał nieorganiczny na przykład krzemionkę, talk, tlenek glinu, tlenek tytanu, kaolin. Szczególne znaczenie ma zastosowanie krzemionki, która jest łatwo dostępna na rynku w szerokim zakresie właściwości takich jak wielkość cząstek, porowatość, powierzchnia właściwa.
Podstawową wadą stosowania cząstek SiO2 jest ryzyko zatkania torebek anody, spowodowane przypuszczalnie ujemnym wypadkowym ładunkiem cząstek SiO2 w kąpieli galwanicznej do niklowania [G. Vidrich i wsp., „Dispersion Behavior of AI2O3 and SiO2 Nanoparticles in Nickel Sulfamate Plating Baths of Different Composition”, J. Electrochem. Soc., 152(5), C294-C297 (2005)].
Wiadomo, że krzemionkę można w łatwy sposób modyfikować za pomocą związków krzemoorganicznych, w sposób trwały wiążąc z powierzchnią krzemionki różne grupy organiczne [Silane Coupling Agents: Connecting Across Boundaries (3rd Edition), Barry Arkles, Copyright 2014 Gelest, Inc]. Odpowiednia modyfikacja nadaje powierzchni krzemionki określony dodatni ładunek elektryczny, dzięki czemu ilość osadzonych na powierzchni cząstek krzemionki, a tym samym ilość porów można regulować i łatwo kontrolować ustawiając gęstość prądu i regulując stężenie modyfikowanych cząstek krzemionki w elektrolicie do powlekania metalu.
Znanych jest wiele sposobów zmiany ładunku powierzchniowego krzemionki stosowanej jako dodatek w kąpielach galwanicznych. Na przykład dodatni ładunek na krzemionce można uzyskać za pomocą modyfikacji jonami metali wielowartościowych, przykładowo glinu [opis patentowy US nr 3825478]. Istnieje także wiele rozwiązań wykorzystujących do modyfikacji właściwości krzemionki tak zwane „promotory adhezji”, czyli związki krzemoorganiczne, zawierające w cząsteczce aktywną grupę sililową, najczęściej trialkoksysililową, mogącą reagować z powierzchniowymi grupami hydroksylowymi krzemionki oraz grupę organiczną mogącą reagować z różnymi substancjami organicznymi i nieorganicznymi [Silane Coupling Agents: Connecting Across Boundaries (3rd Edition), Barry Arkles, Copyright 2014 Gelest, Inc].
W opisie patentowym US 4655882 ujawniono sposób wytwarzania stali platerowanej kompozytem cynkowo-krzemionkowym. Kąpiel galwaniczna zawiera jony cynku, na przykład ZnSO4, oraz cząstki krzemionki. Po elektrochemicznym osadzeniu kompozytu przeprowadza się proces sprzęgania silanu z użyciem alkoksysilanu.
W opisie patentowym GB 1421975 ujawniono sposób osadzania cząstek stałych na powierzchni powłoki metalicznej. Osadzanie przeprowadza się elektrochemicznie z kąpieli wodnej. Roztwór zawiera jony metali, na przykład NiSO4, rozdrobnione cząstki, na przykład krzemionki oraz związek amino-krzemoorganiczny, z przynajmniej jedną grupą NH2, który korzystnie poddaje się reakcji z cząstkami stałymi.
Z europejskiego opisu patentowego EP 2145986 znany jest sposób uzyskania jednorodnego rozkładu porów w zewnętrznej warstwie chromu, modyfikując poprzedzająca warstwę niklu poprzez współosadzanie wraz z niklem cząstek krzemionki, gdzie cząstkom krzemionki nadaje się wystarczający dodatni ładunek, aby zapewnić skuteczny transfer tych cząstek do powierzchni roboczej. Zmianę ładunku krzemionki uzyskuje się przez związanie z krzemionką silanu z grupą aminową, która w roztworze elektrolitu może ulegać kwaternizacji tworząc kwaternizowany kation amoniowy, który przekazuje cząstkom
PL 238 262 B1 krzemionki dodatni ładunek elektryczny podczas kontaktu z elektrolitem. Dzięki temu cząstki modyfikowanej krzemionki dążą do katody współosadzając się z niklem. W rozwiązaniu tym, w pierwszym etapie, krzemionkę poddaje się reakcji z roztworem (3-aminopropylo)trietoksysilanu, odsącza nieprzereagowany roztwór a następnie przemywa i suszy otrzymany osad. Ilość związanego z krzemionką silanu oznacza się na podstawie przyrostu masy. Tak zmodyfikowaną krzemionkę bezpośrednio dodaje się do roztworu niklującego w celu wytworzenia warstwy niklu mikroporowatego, o bardzo dużej liczbie (powyżej 50000 cm-2) równomiernie rozmieszczonych porów. Po chromowaniu, uzyskana warstwa metaliczna wykazywała bardzo dobre właściwości w testach korozyjnych. Wadą jest praktycznie brak możliwości szybkiego określenia stopnia modyfikacji krzemionki (ilości naniesionego silanu, gdyż metoda wagowa jest czasochłonna i mało dokładna. Stosowana w takich przypadkach metoda odbiciowego UV-Vis jest mało przydatna ze względu na mały współczynnik absorpcji grupy aminowej, co w praktyce powoduje, że maksimum absorpcji dla aminy jest praktycznie niewidoczne na tle widma krzemionki. Ponadto tak otrzymana ochronna warstwa chromu, stosunkowo słabo zabezpiecza przed migracją jonów niklu.
Chromowane powłok niklowych stosuje się między innymi w elementach galanteryjnych i biżuteryjnych, jednakże często nikiel przenikający przez warstwę chromu, może powodować alergię. Tym samym ograniczenie ilości niklu przenikającego przez warstwę chromu znacznie obniża także działanie alergiczne. Krzemionka modyfikowana aminosilanem obniża migrację jonów niklu.
Istota wynalazku, w którym na podłożu osadza się jedną lub więcej warstw niklu, gdzie ostatnia warstwa niklu zawiera zmodyfikowane cząstki krzemionki, po czym tak przygotowaną powierzchnię poddaje się platerowaniu, przykładowo nanosząc galwanicznie warstwę chromu, polega na tym, że ostatnią warstwę niklu otrzymuje się w kąpieli galwanicznej zawierającej nikiel, do której dodaje się krzemionkę koloidalną zmodyfikowaną silanem o wzorze (CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2N=C(CH3)CH3COCH3 otrzymanym w wyniku reakcji kondensacji aminosilanu z pentano-2,4-dionem.
Zgodnie z wynalazkiem modyfikowanie krzemionki koloidalnej korzystnie jest przeprowadzać przed dodaniem jej do kąpieli galwanicznej zawierającej nikiel.
Reakcję otrzymywania silanu o wzorze (CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2N=C(CH3)CH3COCH3 do modyfikacji krzemionki zazwyczaj prowadzi się w temperaturze wrzenia rozpuszczalnika, najczęściej toluenu, a ilość odprowadzanej azeotropowo w o wody jest miarą postępu reakcji. W przypadku reakcji aminosilanu z pentano-2,4-dionem powstaje silan, który w wyniku reakcji z powierzchniowymi hydroksylami krzemionki, umożliwia trwałe związanie grup ketoiminowych. Tak otrzymane modyfikowane krzemionki wykazują silne właściwości kompleksujące jony metali [Rykowska I., Wasiak W., Chemically modified silica gel for selective solid-phase extraction and preconcentration of heavy metal ions, Intern. J. of Environ. Anal. Chem. 1-11 (2011) DOI: 10.1080/03067319.2010.525745].
Tak zmodyfikowana krzemionka wykazuje ładunek dodatni, co w procesach galwanicznych sprzyja osadzaniu na powierzchni wraz z warstwą metalu, zwłaszcza niklu.
Cechą korzystną jest to, że grupa ketoiminowa wykazuje bardzo silną absorbcję promieniowania UV co umożliwia oznaczanie stężenia grup ketoiminowych związanych na powierzchni za pomocą metody odbiciowego UV-Vis. Stosowanie w znanych rozwiązaniach, gdy krzemionka modyfikowana jest silanem z grupą aminową metody odbiciowego UV-Vis jest mało przydatne ze względu na mały współczynnik absorpcji grupy aminowej, co w praktyce powoduje, że maksimum absorpcji dla aminy jest praktycznie niewidoczne na tle widma krzemionki.
Rozbudowana grupa organiczna związana z krzemionką poza możliwością kompleksowania jonów metali stabilizuje zawiesinę, ograniczając sedymentację modyfikowanej krzemionki.
Silne właściwości kompleksujące jonów metali przez grupę ketoiminową powodują, że jony niklu powstające w wyniku korozji, są wiązane chemicznie, silnym wiązaniem koordynacyjnym, co ogranicza ilość niklu migrującą przez zewnętrzną warstwę chromu.
Wprowadzenie w warstwę mikroporowatego niklu silnie kompleksujących grup ketoiminowych trwale związanych z krzemionką ogranicza, bardziej niż w znanych rozwiązaniach, nawet przy uzyskaniu w procesie nakładania tej warstwy podobnej ilości mikroporów (około 50000), migrację jonów niklu powstających w procesach korozyjnych. Tym samym ogranicza ilości niklu przenikającego przez warstwę chromu, co znacznie obniża także działanie alergiczne. Modyfikowana krzemionka według wynalazku działa jak swojego rodzaju jonit wykorzystujący do „wychwytywania” jonów niklu kompleksujące właściwości kompleksujące grupy ketoiminowej.
PL 238 262 Β1
Reasumując w sposobie według wynalazku, dzięki zastosowaniu do modyfikacji krzemionki silanu zawierającego grupę ketoiminową uzyskano możliwość lepszego i łatwiejszego oznaczania stężenia grup modyfikujących związanych na powierzchni krzemionki niż w dotychczas znanych rozwiązaniach oraz zmniejszono migrację jonów niklu poprzez ochronną warstwę chromu.
Wynalazek ilustrują poniższe przykłady:
Przykład I
W aparacie Deana-Starka umieszczono 0,1 mola (22,14 g) 3-amino-propylotrietoksysilanu, 0,11 mola (11,0 g) pentano-2,4-dionu (acetyloacetonu) oraz 100 ml osuszonego toluenu. Następnie ogrzewano mieszaninę w temperaturze wrzenia, azeotropowo oddestylowując przez wydzielającą się w reakcji wodę. Ilość wydzielonej wody jest miarą postępu reakcji. Po około 1 godzinie i wyodrębnieniu z mieszaniny około 1,8 cm3 wody, oddestylowuje się pozostały rozpuszczalnik, uzyskując silan z grupą ketoiminową o wzorze sumarycznym (CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2N=C(CH3)CH3COCH3 lub w układzie strukturalnym
Następnie 3,0 ml tak otrzymanego silanu rozpuszczono w 200 ml suchego acetonu. Roztwór wylano na 15 g krzemionki koloidalnej, strącanej typu Arsil (Z. Ch. Rudniki). Mieszaninę pozostawiono do reakcji w temperaturze pokojowej na jedną godzinę. Następnie odsączono nadmiar reagenta, a osad przemyto acetonem i pozostawiono do wysuszenia w temperaturze pokojowej aż do osiągnięcia stałej masy. Tak otrzymany proszek analizowano za pomocą odbiciowego UV-Vis. W zakresie absorpcji charakterystycznym dla grup ketoiminowych (około 277 nm) zaobserwowano wyraźne maksimum absorpcji, które ze względu na stosunkowo duży molowy współczynnik absorpcji grupy ketoiminowej (18850 dm3/mol*cm3) umożliwia, po kalibracji, ilościowe oznaczenie grup ketoiminowych związanych z powierzchnią krzemionki.
Następnie komórkę Hulla, standardową komórkę elektrolityczną stosowaną do badania osadzania się powłok galwanicznych, wyposażoną w anodę niklową, napełniono 250 ml elektrolitu Wattsa z jonami niklu (67 g/l NiCbOłW; 280 g/l NiSCMOłW; 40 g/l kwasu bornego). Elektrolit ogrzano do 60°C. Następnie dodano komponenty organiczne do elektrolitów niklowych firmy P.W. GALKOR Sp. z o.o., a mianowicie: NIKIEL GAL 001-100 rozruch 6 ml/l, GAL 035 24 ml/l, Nikiel L GAL 001-300 1 ml/l, Nikiel maskowacz GAL 001-999 i środek nadający połysk Nikiel T GAL 001-777. Po dodaniu wszystkich substancji zmierzono pH otrzymanego elektrolitu, które wynosiło 3,8. Następnie do 250 ml kąpieli dodano 12,5 mg modyfikowanej krzemionki. Roztwór mieszano powietrzem z umiarkowanym nasileniem, pozostał klarowny bez widocznego zmętnienia.
Prostokątne blaszki stalowe o wymiarach 10 cm x 7 cm, poddano standardowej obróbce wstępnej, następnie platerowano w opisanym powyżej elektrolicie z gęstością prądu 2A/dm2 przez 10 minut i następnie przez 3 minuty w typowym elektrolicie do powlekania chromem (CHROM CL z P.W. GALKOR Sp. z o.o.).
Zmierzona, średnia grubość warstwy chromu wynosiła 0,27 μm na brzegach płytek i 0,16 μm pośrodku płytek. Całkowita grubość wszystkich warstw wynosiła 20 μm/ 27 μm.
Analiza mikroskopowa wykazała obecność powyżej 50 000 mikrootworów na 1 cm2.
Wykonano test na wymywanie niklu. Z otrzymanych płytek po platerowaniu niklem i chromem o wymiarach 10 cm x 7 cm, z których wycięto mniejsze o rozmiarze 6,5 cm x 5, przeprowadzono test na wymywanie niklu, ogrzewając otrzymane płytki w roztworze kwasu cytrynowego (5 g/l) przez 2 godziny w temperaturze wrzenia (około 100°C). Następnie zanalizowano otrzymany roztwór na zawartość niklu. Po 2 godzinach, w przeliczeniu uzyskano wynik 0,53 mg Ni na 1 cm2 powierzchni. Po teście siedmiogodzinnym uzyskano wynik 17,11 mg/cm2 Ni
PL 238 262 Β1
Przykład II
Modyfikację krzemionki koloidalnej wykonano analogicznie jak w przykładzie 1 stosując (3-aminopropylo)trietoksysilan zamiast silanu otrzymanego w wyniku reakcji kondensacji (3-aminopropylo)trietoksysilanu z acetyloacetonem (pentano-2,4-dion). Otrzymany proszek analizowano za pomocą odbiciowego UV-Vis. W zakresie absorpcji charakterystycznym dla grup aminowych (około 210 nm) nie zaobserwowano maksimum absorpcji, prawdopodobnie ze względu na stosunkowo mały molowy współczynnik absorpcji grupy aminowej (ok. 0,3 dm3/mol*cm3) oraz silne sygnały pochodzące od tła.
Tak zmodyfikowaną krzemionkę wykorzystano do przygotowania kąpieli niklującej jak w przykładzie I. Platerowanie płytek wykonano analogicznie jak w przykładzie I.
Analiza mikroskopowa wykazała że ilość i rozkład mikroporów jest praktycznie taki sam jak w płytce z przykładu 1.
Zmierzona, średnia grubość warstwy chromu wynosiła 0,29 μm na brzegach płytek i 0,18 μm pośrodku płytek. Całkowita grubość wszystkich warstw wynosiła 21 μm/ 29 μm.
Z otrzymanych płytek po platerowaniu niklem i chromem o wymiarach 10 cm x 7 cm, z których wycięto mniejsze o rozmiarze 6,5 cm x 5, przeprowadzono test na wymywanie niklu, ogrzewając otrzymane płytki w roztworze kwasu cytrynowego (5 g/l) przez 2 godziny w temperaturze wrzenia (około 100°C). Następnie zanalizowano otrzymany roztwór na zawartość niklu. Po przeliczeniu uzyskano wynik 0,57 mg Ni na 1 cm2 powierzchni. W analogicznym teście przeprowadzonym dla płytek niklowanych i chromowanych w sposób identyczny jak w przykładzie 1, gdzie w roztworze do nakładania warstwy niklu nie dodano modyfikowanej krzemionki, uzyskano wynik 0,69 mg Ni na 1 cm2 powierzchni. Następnie te same płytki gotowano kolejne 7 godzin w nowym roztworze kwasu cytrynowego (5 g/l), uzyskując po przeliczeniu 22,36 mg/cm2 Ni dla blaszki niklowanej w roztworze z dodatkiem krzemionki modyfikowanej aminosilanem oraz 44,92 mg/cm2 dla płytki niklowanej bez dodatku krzemionki, ponadto na płytce tej zaobserwowano wyraźne ślady korozji.
Claims (2)
1. Sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych o zwiększonej odporności na korozję, w którym na podłożu osadza się jedną lub więcej warstw niklu, przy czym ostatnia warstwa niklu zawiera zmodyfikowane cząstki krzemionki, po czym tak przygotowaną powierzchnię poddaje się platerowaniu, przykładowo nanosząc galwanicznie warstwę chromu, znamienny tym, że ostatnią warstwę niklu otrzymuje się w kąpieli galwanicznej zawierającej nikiel, do której dodaje się krzemionkę koloidalną zmodyfikowaną silanem o wzorze (CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2N=C(CH3)CH3COCH3 otrzymanym w wyniku reakcji kondensacji aminosilanu z pentano-2,4-dionem o wzorze.
2. Sposób według zaostrz. 1, znamienny tym, że koloidalną krzemionkę modyfikuje się silanem o wzorze (CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2N=C(CH3)CH3COCH3 otrzymanym w wyniku reakcji kondensacji aminosilanu z pentano-2,4-dionem przed dodaniem jej do kąpieli galwanicznej zawierającej nikiel.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL423721A PL238262B1 (pl) | 2017-12-04 | 2017-12-04 | Sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych, o zwiększonej odporności na korozję |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL423721A PL238262B1 (pl) | 2017-12-04 | 2017-12-04 | Sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych, o zwiększonej odporności na korozję |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL423721A1 PL423721A1 (pl) | 2019-06-17 |
| PL238262B1 true PL238262B1 (pl) | 2021-08-02 |
Family
ID=66809688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL423721A PL238262B1 (pl) | 2017-12-04 | 2017-12-04 | Sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych, o zwiększonej odporności na korozję |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL238262B1 (pl) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61143597A (ja) * | 1984-12-15 | 1986-07-01 | Okayama Pref Gov | 亜鉛−シリカ複合めつき鋼材の製造方法 |
| EP2145986B1 (en) * | 2008-07-15 | 2010-03-24 | Atotech Deutschland Gmbh | Solution and method for electrochemically depositing a metal on a substrate |
-
2017
- 2017-12-04 PL PL423721A patent/PL238262B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL423721A1 (pl) | 2019-06-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102066622B (zh) | 在基材上电化学沉积金属的方法 | |
| Bund et al. | Influence of bath composition and pH on the electrocodeposition of alumina nanoparticles and nickel | |
| Sambyal et al. | Enhanced anticorrosive properties of tailored poly (aniline-anisidine)/chitosan/SiO2 composite for protection of mild steel in aggressive marine conditions | |
| Zhang et al. | Electrochemically generated sol–gel films as inhibitor containers of superhydrophobic surfaces for the active corrosion protection of metals | |
| CN102089459B (zh) | 钢铁材料的化学转化处理液及化学转化处理方法 | |
| Cabral-Miramontes et al. | Corrosion behavior of Zn-TiO2 and Zn-ZnO electrodeposited coatings in 3.5% NaCl solution | |
| Aal et al. | Electrodeposited composite coating of Ni–W–P with nano-sized rod-and spherical-shaped SiC particles | |
| Afroukhteh et al. | Corrosion behavior of Ni–P/nano-TiC composite coating prepared in electroless baths containing different types of surfactant | |
| Alibakhshi et al. | The influence of surface modification of lithium zinc phosphate pigment on corrosion inhibition of mild steel and adhesion strength of epoxy coating | |
| Gao et al. | Excellent anti-corrosive pretreatment layer on iron substrate based on three-dimensional porous phytic acid/silane hybrid | |
| TW201932546A (zh) | 可電沈積的塗層組合物及由其產生的導電塗層 | |
| JP2009529583A (ja) | 腐食防止剤のナノレザーバーを含む腐食防止顔料 | |
| Walcarius et al. | Electrochemically‐Induced Deposition of Amine‐Functionalized Silica Films on Gold Electrodes and Application to Cu (II) Detection in (Hydro) Alcoholic Medium | |
| TWI705147B (zh) | 經表面處理銅箔 | |
| AU604526B2 (en) | Zn-based composite-plated metallic material and plating method | |
| KR920009569B1 (ko) | 전착도장(Electrodeposition coating)방법 | |
| Kesavan et al. | Spontaneous grafting: a novel approach to graft diazonium cations on gold nanoparticles in aqueous medium and their self-assembly on electrodes | |
| Exbrayat et al. | Corrosion behaviour in saline solution of pulsed‐electrodeposited zinc‐nickel‐ceria nanocomposite coatings | |
| PL238262B1 (pl) | Sposób elektrochemicznego wytwarzania wielowarstwowych powłok metalicznych, zwłaszcza niklowych, o zwiększonej odporności na korozję | |
| Cârâc et al. | Electrocodeposition and characterization of cobalt lanthanide oxides composite coatings | |
| Guo et al. | Introduction of Heavy Micro‐Titanium‐Carbide Particles into Zn–Ni Coatings on Steel During In Situ Brush Electroplating | |
| Jiang et al. | Effect of nano-SiO2 particles and sol on phosphate conversion coatings on 35CrMnSi steel | |
| US9435047B2 (en) | Process for corrosion protection of iron containing materials | |
| Shrestha et al. | Non-aqueous composite plating of Ni-ceramic particles using ethanol bath and anti-wear performance of the coatings | |
| Tey et al. | Effect of mechanical agitation on Cr-Al2O3 nanocomposite coatings fabricated from trivalent chromium electrodeposition |