PL239004B1 - Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących - Google Patents
Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących Download PDFInfo
- Publication number
- PL239004B1 PL239004B1 PL427185A PL42718518A PL239004B1 PL 239004 B1 PL239004 B1 PL 239004B1 PL 427185 A PL427185 A PL 427185A PL 42718518 A PL42718518 A PL 42718518A PL 239004 B1 PL239004 B1 PL 239004B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- copper
- salt
- chromium
- bath
- chloride
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Zgłoszenie dotyczy kąpieli do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr, stanowiącej wodny słabo kwaśny roztwór soli chromu III i soli miedzi II. Kąpiel charakteryzuje się tym, że zawiera sól chromu w postaci chlorku w przeliczeniu na metal 8 ÷ 12 g/dm3 i miedzi w postaci chlorku w przeliczeniu na metal 12 ÷ 15 g/dm3, stabilizator pH i sól przewodzącą w postaci chlorku amonu w ilości 80 ÷ 120 g/dm3. Zgłoszenie dotyczy również sposobu otrzymywania powłoki stopowej Cu-Cr na podłożach trudno spajalnych, polegający na jej galwanicznym osadzaniu z kąpieli stanowiących wodny roztwór soli miedzi i chromu charakteryzujący się tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się z kąpieli stanowiącej mieszaninę soli miedzi chromu, która zawiera sól chromu w postaci chlorku chromu III w przeliczeniu na metal 8 ÷ 12 g/dm3, sól miedzi w postaci chlorku miedzi II w przeliczeniu na metal 12 ÷ 15 g/dm3 oraz chlorek amonu jako sól przewodzącą w ilości 80 ÷ 120 g/dm3 przy użyciu metody impulsowej o zmiennej gęstości.
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłoki stopowej Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących, a w szczególności na podłożach z magnezu, tytanu, aluminium i ich stopach oraz materiałach kompozytowych na bazie grafitu z miedzią.
Stop Cu-Cr, otrzymywany sposobem według wynalazku, ma zastosowanie w wielu dziedzinach. Można go zastosować w galwanotechnice, jako powłokę techniczną miedzianą o podwyższonej odporności na ścieranie oraz w procesach budowy maszyn jako warstwę pośrednią w procesach lutowania miękkiego i twardego materiałów trudno spajalnych, takich jak kompozyty grafitowe, stopy aluminium, tytanu i magnezu.
Dotychczas w literaturze opisane są kąpiele i sposoby galwanicznego osadzania powłok z czystej miedzi i chromu oraz mosiądzu i brązów. Miedziowanie przeprowadza się z kąpieli kwaśnych, alkalicznych (pirofosforanowych) i cyjankowych. Są to typowe kąpiele, stosowane w przemyśle do miedziowania, mające jednak ograniczenia w zastosowaniu. Powłokę miedziową z kąpieli kwaśnej można nakładać bezpośrednio tylko na podłoża z miedzi i jej stopów, wszystkie inne materiały podłoża (stal, s topy aluminium) wymagają warstw pośrednich, np. niklu. W kąpieli alkalicznej (bezcyjankowej) otrzymuje się bezpośrednio powłoki miedziane na podłożach stalowych, ale są to procesy mało wydajne i drogie w eksploatacji. W kąpielach cyjankowych możliwe jest pokrywanie wszystkich rodzajów podłoża, ale z uwagi na toksyczne właściwości kąpieli zostały one praktycznie wycofane z użycia i są stosowanie tylko w produkcji specjalnej.
Otrzymywanie powłok stopowych miedzi, np. mosiężnych jest szeroko opisane w literaturze branżowej. W opisie wynalazku PL 162893 B1, przedstawione jest nakładanie powłok mosiężnych z kąpieli o składzie: CuCN 28 - 63 g/dm3, Zn(CN) 10 - 27 g/dm3, NaCN 55 - 115 g/dm3, związki stabilizujące pH NH4OH i Na2CO3 oraz substancje blaskotwórcze w postaci sodowych soli amino sulfonowych. Temperatura procesu zawarta jest w zakresie 20 - 45°C, a gęstość katodowa prądu w przedziale 0,2 - 0,8 A/dm2.
Znane są również inne rozwiązania opisane w patentach: PL 73791, PL 140089 i PL 282030, które podają analogiczne opisy różniące się tylko składem podstawowych składników i dodatkiem wybłyszczającym.
W doniesieniach literaturowych, nie ma wzmianek na temat kąpieli galwanicznych do osadzania powłoki stopowej Cu-Cr, natomiast są doniesienia o otrzymywaniu tych stopów w procesach metalurgicznych, które mają zastosowanie w energetyce.
Celem wynalazku jest otrzymywanie powłoki stopowej Cu-Cr w procesie galwanicznym oraz sposób jej nakładania na trudno spajalnych podłożach przewodzących, takich jak: magnez tytan, aluminium i ich stopy oraz kompozyty grafitowe.
Istota sposobu otrzymywania powłoki stopowej Cu-Cr na podłożach trudno spajalnych polegający na jej galwanicznym osadzaniu z kąpieli stanowiących wodny roztwór soli miedzi i chromu charakteryzujący się tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się z kąpieli stanowiącej mieszaninę soli, miedzi, chromu, która zawiera sól chromu w postaci chlorku chromu III w przeliczeniu na metal 8 - 12 g/dm3, sól miedzi w postaci chlorku miedzi II w przeliczeniu na metal 12 - 15 g/dm3 oraz chlorek amonu jako sól przewodzącą w ilości 80 - 120 g/dm3 przy użyciu metody impulsowej o zmiennej gęstości prądu 3,0 A/dm2 i 0,8 A/dm2 przez okres czasu minimum 40 minut.
Korzystnie, jest przeprowadzić elektrolizę w temperaturze 60°C, przy pH kąpieli galwanicznej wynoszącym 4,5; na podłożach ze stopu aluminium, tytanu i kompozytu grafitowego z napełniaczem miedzianym.
Korzystnie, gdy elektrolizę przeprowadza w temperaturze 50°C, przy pH kąpieli galwanicznej wynoszącym 5,5; na podłożach ze stopów aluminium, tytanu i magnezu oraz kompozytu grafitowego z napełniaczem miedzianym.
Korzystnie, gdy na powierzchnię stopu magnezu przed procesem elektrolizy naniesiona zostanie międzywarstwa z niklu fosforowego.
Korzystnie, jest przeprowadzić proces elektrolizy z kąpieli stopowej Cu-Cr przez okres wynoszący 40 - 60 minut.
Korzystnie, gdy powlekana powierzchnia materiału przed procesem elektrolizy zostanie poddana obróbce przy użyciu plazmy niskotemperaturowej.
PL 239 004 B1
Po sporządzeniu kąpieli stopowej Cu-Cr, według podanej w niniejszym opisie receptury, należy przeprowadzić proces elektrolizy, w którym możliwe jest otrzymywanie powłoki na różnych materiałach przewodzących, szczególnie na podłożach ze stopów aluminium, magnezu, tytanu oraz materiałach kompozytowych, np. na bazie grafitu z miedzią. Przed procesem elektrolizy należy odpowiednio przygotować powierzchnię powlekanych materiałów poprzez obróbkę mechaniczną np. szlifowanie oraz odtłuszczanie. Zalecane jest również zastosowanie dodatkowej obróbki przy użyciu plazmy niskotemperaturowej w celu zwiększenia przyczepności powłoki do podłoża. Proces elektrolizy należy prowadzić w temperaturze wynoszącej w zakresie 40 ^ 65°C, przy odpowiednim pH kąpieli wynoszącym w przedziale 4,5 + 7,5; w zależności od wymaganego stężenia poszczególnych składników stopowych w powłoce. Należy go przeprowadzić metodą impulsową przy cyklicznie zmiennej gęstości prądu 3,0 A/dm2 i 0,8 A/dm2. W zależności od przeznaczenia powłoki możliwe jest otrzymanie powłok o różnej grubości, co uzależnione jest od czasu w jakim prowadzony jest proces elektrolizy. W przypadku otrzymywania powłoki stopowej Cu-Cr na powierzchni niektórych materiałów, zwłaszcza stopów magnezu, wymagane jest zastosowanie dodatkowej warstwy (powłoki) pośredniej otrzymanej również w procesie elektrolizy z kąpieli z niklu fosforowego.
Przedmiot wynalazku jest objaśniony w przykładzie realizacji.
P r z y k ł a d 1
Proces otrzymywania powłoki stopowej miedź-chrom na powierzchni materiałów przewodzących polega na tym, że sporządza się kąpiel przez zmieszanie 32 g CrCl3 2 H2O, 45 g CuCl2 2 H2O, 100 g NH4CI. Po rozpuszczeniu składników roztwór należy przesączyć i uzupełnić wodą DEMI do objętości 1 dm3. Po odpowiednim przygotowaniu powierzchni powlekanych materiałów, polegającym na mechanicznym lub chemicznym oczyszczeniu z tlenków i odtłuszczeniu, przeprowadza się proces elektrolizy. Elektrolizę należy prowadzić w temperaturze 60°C, przy pH = 4,5, prądem impulsowym w cyklach: o gęstości 3,0 A/dm2 - 10 s, 0,8 A/dm2 - 50 s, przez okres czasu wynoszący 40 minut. Jako anody należy użyć tytanu pokrytego rodem. Umożliwia to otrzymanie powłoki stopowej zawierającej 98,6% wag. miedzi i 1,4% wag. chromu na powierzchni stopów aluminium, tytanu i kompozytu na bazie grafitu z miedzią.
P r z y k ł a d 2
Proces otrzymywania powłoki stopowej miedź-chrom na powierzchni materiałów przewodzących, przebiega jak w przykładzie 1 z tą różnicą, że elektrolizę prowadzi się w temperaturze 50°C, przy pH = 5,5. Umożliwia to otrzymanie powłoki stopowej zawierającej 99,2% wag. miedzi i 0,8% wag. chromu na powierzchni stopów aluminium, tytanu, magnezu i kompozytu na bazie grafitu z miedzią. Większa ilość miedzi w powłoce stopowej jest korzystna w przypadku użycia jej w procesach lutowania miękkiego z uwagi na lepsze właściwości lutownicze.
P r z y k ł a d 3
Proces otrzymywania powłoki stopowej miedź-chrom na powierzchni materiałów przewodzących, przebiega jak w przykładzie 1 z tą różnicą, że na powierzchnię stopu magnezu nanosi się uprzednio międzywarstwę (powłokę) również w procesie elektrolizy, z kąpieli z niklu fosforowego. Umożliwia to uzyskanie odpowiedniej przyczepności powłoki Cu-Cr do podłoża oraz zapobiega powstawaniu niekorzystnych reakcji chemicznych.
P r z y k ł a d 4
Proces otrzymywania powłoki stopowej miedź-chrom na powierzchni materiałów przewodzących, przebiega jak w przykładzie 1 z tą różnicą, że elektrolizę przeprowadza się przez okres czasu wynoszący 60 minut. Umożliwia to otrzymanie powłoki o większej grubości, co zapewnia jej większą trwałość zwłaszcza w procesach lutowania twardego.
P r z y k ł a d 5
Proces otrzymywania powłoki stopowej miedź-chrom na powierzchni materiałów przewodzących, przebiega jak w przykładzie 1 z tą różnicą, że powierzchnię powlekanych materiałów poddaje się dodatkowej obróbce przy użyciu plazmy niskotemperaturowej. Umożliwia to otrzymywanie powłok o lepszej przyczepności do podłoża.
Claims (7)
- Zastrzeżenia patentowe1. Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr, stanowiąca wodny słabo kwaśny roztwór soli chromu III i soli miedzi II, znamienna tym, że zawiera sól chromu w postaci chlorku w przeliczeniu na metal 8 + 12 g/dm3 i miedzi w postaci chlorku w przeliczeniu na metal 12 + 15 g/dm3, stabilizator pH i sól przewodzącą w postaci chlorku amonu w ilości 80 + 120 g/dm3.
- 2. Kąpiel według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera CuCl2, CrCl3 i NH4CI w postaci odpowiednio dobranej mieszaniny.
- 3. Sposób otrzymywania powłoki stopowej Cu-Cr na podłożach trudno spajalnych polegający na jej galwanicznym osadzaniu z kąpieli stanowiących wodny roztwór soli miedzi i chromu, znamienny tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się z kąpieli stanowiącej mieszaninę soli miedzi chromu, która zawiera sól chromu w postaci chlorku chromu III w przeliczeniu na metal 8 + 12 g/dm3, sól miedzi w postaci chlorku miedzi II w przeliczeniu na metal 12 + 15 g/dm3 oraz chlorek amonu jako sól przewodzącą w ilości 80 + 120 g/dm3 przy użyciu metody impulsowej o zmiennej gęstości prądu 3,0 A/dm2 i 0,8 A/dm2 przez okres czasu minimum 40 minut.
- 4. Sposób według zastrz. 3, znamienny tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się w zakresie temperatury 55 + 65°C.
- 5. Sposób według zastrz. 3, znamienny tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się w zakresie pH, zawierającym się w przedziale 3,5 + 4,5.
- 6. Sposób według zastrz. 3, znamienny tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się przy użyciu anody, stanowiącej tytan pokryty rodem.
- 7. Sposób według zastrz. 3, znamienny tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się na podłożach grafitowych i ich kompozytach, stopach aluminium, tytanu i magnezu.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427185A PL239004B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427185A PL239004B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL427185A1 PL427185A1 (pl) | 2019-07-29 |
| PL239004B1 true PL239004B1 (pl) | 2021-10-25 |
Family
ID=67384436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL427185A PL239004B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL239004B1 (pl) |
-
2018
- 2018-09-26 PL PL427185A patent/PL239004B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL427185A1 (pl) | 2019-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3664933A (en) | Process for acid copper plating of zinc | |
| US10011913B2 (en) | Substrate with a corrosion resistant coating and method of production thereof | |
| US12203190B2 (en) | Compositionally modulated zinc-iron multilayered coatings | |
| JP2011520037A (ja) | 改良された銅−錫電解液及び青銅層の析出方法 | |
| TW201014935A (en) | Improved copper-tin electrolyte and process for the deposition of bronze layers | |
| US7704366B2 (en) | Pretreatment of magnesium substrates for electroplating | |
| KR20060073941A (ko) | 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어진 제품 및 이의제조방법 | |
| JP5336762B2 (ja) | 銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法 | |
| EP1930478B1 (en) | Electrolyte composition and method for the deposition of quaternary copper alloys | |
| KR101365661B1 (ko) | 무전해 니켈-인 도금액 및 이를 이용한 도금방법 | |
| PL239004B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| EP3412799A1 (en) | Compositionally modulated zinc-iron multilayered coatings | |
| KR100402730B1 (ko) | 마그네슘합금에 동-니켈 도금층을 전해 도금으로 형성하는방법 | |
| JPS63137193A (ja) | 電子部品用ステンレス接点材料およびその製造方法 | |
| EP3191616B1 (en) | Metal connector or adaptor for hydraulic or oil dynamic application at high pressure and relative galvanic treatment for corrosion protection | |
| KR101332301B1 (ko) | 니켈 무함유 삼원합금 도금 및 3가 크롬 도금을 이용한 도금방법 | |
| KR20230121097A (ko) | 경질 은 층의 침착을 위한 은-비스무트 전해질 | |
| JP5274817B2 (ja) | 銅−亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法 | |
| JP2560842B2 (ja) | 耐食性皮膜の製造方法 | |
| PL239005B1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| RU2509832C2 (ru) | Способ гальванического нанесения металлических покрытий | |
| KR101365662B1 (ko) | 무전해 니켈-인 도금방법 | |
| RU2233915C1 (ru) | Способ создания защитного декоративного покрытия | |
| JP2010270375A (ja) | 銅−亜鉛合金めっき被膜の製造方法および銅−亜鉛合金めっき被膜 | |
| JP2026010281A (ja) | 電気めっき液およびめっき付き部材の製造方法 |